【技术实现步骤摘要】
【专利说明】 一种纳米二硅化钼増强的高导热碳化硅基陶瓷电路板基板 材料及其制备方法
本专利技术涉及碳化硅陶瓷制备
,尤其涉及。
技术介绍
随着电子元器件功率和密度的增大,致使单位体积发热量也随之增加,对电路基板的综合性能要求越来越高,其中陶瓷基板具备良好的综合性能,在绝缘性、导热性以及热膨胀性、化学稳定性等方面表现突出,逐渐被广泛的应用于基板材料中,其中沿用较久的主要是以氧化铝、氧化铍作为基板原料,然而氧化铝陶瓷片存在热导率低、热膨胀系数与Si不相匹配等缺点,氧化铍陶瓷虽然综合性能较为优良,但是其生产成本较高、有毒,氮化铝陶瓷虽然综合性能较为优良,但生产成本较高,应用也受到限制,反之以碳化硅作为基板材料在使用性能上则具有较为明显的优势。虽然碳化硅陶瓷基板的应用前景广阔,然而在实际生产过程中存在烧结致密度低、原料利用率低、绝缘性有待提高等等问题,制约着这类材料的大规模使用,急需从原料配制及生产工艺上做进一步的改进。
技术实现思路
本专利技术目的就是为了弥补已有技术的缺陷,提供。本专利技术是通过以下技术方案实现的: 一种纳米二硅化钼增强的高导热碳化硅基陶瓷 ...
【技术保护点】
一种纳米二硅化钼增强的高导热碳化硅基陶瓷电路板基板材料,其特征在于,该材料由以下重量份的原料制成:碳化硅60‑75、叶腊石2‑3、纳米二硅化钼1‑1.5、纳米氧化铝12‑15、硅烷偶联剂kh550 1‑2、甘油8‑10、乙二醇5‑6、聚乙二醇1‑2、纳米陶瓷粉透明液体10‑12、去离子水50‑60。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:王丹丹,王乐平,夏运明,涂聚友,
申请(专利权)人:合肥龙多电子科技有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽;34
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