制造光学记录介质的方法以及光学记录介质技术

本发明专利技术提供了一种制造光学记录介质的方法，其能够降低光学记录介质的制造成本。具体而言，提供了一种制造光学记录介质的方法，所述光学记录介质包括基板（１）、形成在基板（１）上的记录层（２）以及形成在记录层（２）上的透光层（３），记录层包含Ｉｎ和／或Ｓｎ、并包含Ｐｄ和氧，所述方法包括：在使得氧气和氮气流过的情况下，通过使用Ｉｎ２Ｏ３靶和／或ＳｎＯ２靶、并使用Ｐｄ靶，利用溅射法来形成所述记录层的步骤。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及制造光学记录介质的方法以及通过该制造方法制造的光学记录介 质，且本专利技术适用于可记录光学记录介质。
技术介绍
在现有的使用红色激光的可记录光盘中，已经针对记录层使用了有机染料。但是，在使用蓝色激光的可记录光盘中，因为并不存在蓝色激光可照射的适当 有机染料，故已经考虑使用无机材料。在使用无机材料的情况下，为了获得充分的反射率，并散发因激光照射而产生 的热量，已经提出形成由多层膜构成的记录层(例如，参考专利文献1)。[专利文献1]日本未审查的专利公开号2007-157314
技术实现思路
但是，当形成多层膜的记录层时，需要一定时间来进行多层膜的膜形成，并且 需要包括数个膜形成室的高成本膜形成装置。因此，光盘的制造成本会提高。为了解决上述问题，本专利技术提供了一种制造光学记录介质的方法，其能够降低 光学记录介质的制造成本，并提供了 一种通过该制造方法而制造得到的光学记录介质。本专利技术的制造光学记录介质的第一方法是一种制造光学记录介质的方法，所述 光学记录介质包括形成在基板上的记录层以及形成在所述记录层上的透光层。并且，该 制造光学记录介质的方法包括在允许氧气和氮气流过的情况下，通过使用In2O3靶和/ 或SnO2靶、并使用Pd靶，利用溅射法来形成包含L·!和/或Sn、并包含Pd和氧的记录 层的步骤。根据本专利技术的上述制造光学记录介质的第一方法，可通过在利用溅射法来形成 记录层的步骤中除了氧气之外还允许氮气流过，来对包含:In和/或Sn、并包含Pd和氧的 记录层中的Pd与氧的键合状态进行控制。因此，能够将记录层的透射率和反射率控制为 预定值。具体而言，能够将记录层的透射率设定的较高，并将反射率设定的较低。本专利技术的制造光学记录介质的第二方法是一种制造光学记录介质的方法，所述 光学记录介质包括形成在基板上的两个或更多个记录层、形成在各个所述记录层之间的 中间层以及形成在所述两个或更多个记录层上的透光层。并且，至少在形成所述两个或 更多个记录层当中最接近所述透光层布置的所述记录层时，在使得氧气和氮气流过的情 况下，通过使用In2O3靶和/或SnO2靶、并使用Pd靶，利用溅射法来形成包含:In和/或 Sn、并包含Pd和氧的所述记录层。根据本专利技术的上述制造光学记录介质的第二方法，至少在形成两个或更多记录 层当中最接近透光层布置的记录层时，可通过除了氧气之外还允许氮气流过，来对该记 录层中的Pd与氧的键合状态进行控制。因此，能够将记录层的透射率和反射率控制为预定值，具体而言，能够将最接近透光层布置的记录层(在该记录层中优选地将透射率设 定的较高，并将反射率设定的较低)中的透射率设定的较高，并将反射率设定的较低。根据本专利技术的实施例的一种光学记录介质包括基板；形成在基板上的记录 层，其包含L·!和/或Sn，并包含Pd和氧，并且其具有的氧含量高于在L·!和/或Sn被完 全氧化的情况下的化学计量成份；以及形成在记录层上的透光层。根据本专利技术的实施例的上述光学记录介质的结构，包含hi和/或Sn、并包含Pd 和氧的记录层具有的氧含量高于在L·!和/或Sn被完全氧化的情况下的化学计量成份。因 此，氧原子被键合至Pd原子中的至少一部分，可基于氧含量等对Pd与氧的键合状态进行 控制，并且能够将记录层的透射率和反射率控制为预定值。此外，包含hi和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层可仅由一层构成，由此相较于 采用无机材料的多层膜作为记录层的情况，能够减少构成记录层的层数。根据本专利技术的制造光学记录介质的方法，能够将记录层的透射率和反射率控制 为预定值。具体而言，能够将记录层的透射率设定的较高，并将反射率设定的较低。此外，根据本专利技术的光学记录介质，可基于氧含量等来控制Pd与氧的键合状 态，并能够将记录层的透射率和反射率控制为预定值。因此，利用本专利技术，能够通过优化记录层的透射率和反射率来实现具有优良记 录特性的光学记录介质。此外，在本专利技术中，因为形成了包含hi和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层，故 能够仅由一层来构成记录层，由此能够通过减少构成记录层的层数来降低光学记录介质 的制造成本。附图说明图1是本专利技术的光学记录介质的第一实施例的示意结构视图(剖视图)。图2是本专利技术的光学记录介质的第二实施例的示意结构视图(剖视图)。图3是本专利技术的光学记录介质的第二实施例的改变示例的示意结构视图(剖视 图)。图4是示出记录层的反射率R和透射率T基于氧的流率而变化的视图。图5是示出反射率R和透射率T基于氮的流率而变化的视图。具体实施方式以下，将对实现本专利技术的优选实施方式(以下称为实施例)进行详细描述。此外，将以下述顺序进行描述。1.专利技术概述2.第一实施例3.第二实施例4.改变示例5.实验示例<1.专利技术概述>本专利技术的制造光学记录介质的方法的特征在于在制造包括形成在基板上的记4录层以及形成在记录层上的透光层的光学记录介质时，形成记录层的步骤。并且，在该 形成记录层的步骤中，通过使用溅射法，在允许氧气和氮气流过的情况下使用In2O3靶和 /或SnO2靶、并使用Pd靶，来形成包含:In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层。此外，本专利技术的制造光学记录介质的另一种方法是制造下述光学记录介质的方 法该光学记录介质包括形成在基板上的两个或更多个记录层、形成在各个记录层之间 的中间层、以及形成在所述两个或更多个记录层上的透光层。并且，另一种制造光学记 录介质的方法的特征在于，至少在两个或更多个记录层中最接近透光层布置的记录层的 形成方法。至少在形成最接近透光层布置的记录层时，通过使用溅射法，在允许氧气和氮 气流过的情况下使用In2O3靶和/或SnO2靶、并使用Pd靶，来形成记录层。由此，形成 包含:In和/或Sn、并包含Pd和氧的记录层。本专利技术的光学记录介质是通过上述制造方法制造的光学记录介质，并包括基 板、形成在基板上的记录层、以及形成在记录层上的透光层。记录层包含:In和/或Sn， 并包含Pd和氧，并且记录层具有的氧含量高于在L·!和/或Sn被完全氧化的情况下的化 学计量成份。在本专利技术的光学记录介质中，例如可以使用通常用于诸如光盘之类的光学记录 介质的基板材料作为本专利技术的基板的材料。具体而言，可以使用聚碳酸酯树脂等。在本专利技术的光学记录介质中，透光层是所谓覆层。在记录信息和读取信息时，从透光层(覆层)一侧向记录层发射激光。可以使用通过紫外线照射而固化的UV树脂(紫外线固化树脂)作为用于透光层 的材料。在涂布了 UV树脂之后，可通过利用紫外线照射使UV树脂固化来形成透光层。在本专利技术的光学记录介质中，记录层包含hi和/或Sn，并包含Pd和氧。换言 之，认为记录层的结构可以是三种类型，即(1)包含L·!、Pd和氧的结构，(2)包含Sn、 Pd和氧的结构，以及(3)包含:In、Sn、Pd和氧的结构。δι和/或Sn，Pd和氧各个成 份的含量并无特别限定，而可以是任意含量。可通过改变形成记录层的方法中的材料和条件来控制记录层各个成份的含量。 在通过使用溅射法来形成记录层的情况下，可通过改变所使用的靶的成份、施加至各个 靶的电量、以及在形成记录层时诸如流过的气体的类型和流率之类的条件，来控制记录 层各个成份的含量。因为在本专利技术的光学记录介质中的记录层包含hi和/或Sn，以及P本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造光学记录介质的方法，所述光学记录介质包括形成在基板上的记录层以及形成在所述记录层上的透光层，所述方法包括：　　在使得氧气和氮气流过的情况下，通过使用Ｉｎ↓［２］Ｏ↓［３］靶和／或ＳｎＯ↓［２］靶、并使用Ｐｄ靶，利用溅射法来形成包含Ｉｎ和／或Ｓｎ、并包含Ｐｄ和氧的所述记录层的步骤。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2009-3-17 2009-0649591.一种制造光学记录介质的方法，所述光学记录介质包括形成在基板上的记录层以 及形成在所述记录层上的透光层，所述方法包括在使得氧气和氮气流过的情况下，通过使用In2O3靶和/或SnO2靶、并使用Pd靶， 利用溅射法来形成包含In和/或Sn、并包含Pd和氧的所述记录层的步骤。2.一种制造光学记录介质的方法，所述光学记录介质包括形成在基板上的两个或更 多个记录层、形成在各个所述记录层之间的中间层以及形成在所述两个或更多个记录层 上的透光层，其中，至少在形成所述两个或更多个记录层当中最接近所述透光层布置的所述记录层...

【专利技术属性】
技术研发人员：三木刚，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]