在腔室中处理基片的方法及系统技术方案

一种基片处理系统，包括工艺腔室（９００）、具有夹持多个工件（９０１）的夹具（９０２）的平台、多个加热器（９０６）和多个沉积装置（９０４）。该工艺腔室（９００）包括用于接收至少一种化学物质的开口（９１０）和用于释放残余物的出口（９０３）。所述出口（９０３）与工艺泵（９４３）相连。该夹具（９０２）用于持有工件（９０１）。每个加热器（９０６）设于两个工件（９０１）之间。每个沉积装置（９０４）设于两个工件（９０１）之间。每个工件（９０１）设于加热器（９０６）和沉积装置（９０４）之间。每个沉积装置（９０４）包括至少两个设有孔的喷射板（９０８），化学物质可通过所述两个喷射板（９０８）喷射到工件（９０１）上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：范振华，
申请(专利权)人：东莞宏威数码机械有限公司，
类型：发明
国别省市：44