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一种基片处理系统，包括工艺腔室（９００）、具有夹持多个工件（９０１）的夹具（９０２）的平台、多个加热器（９０６）和多个沉积装置（９０４）。该工艺腔室（９００）包括用于接收至少一种化学物质的开口（９１０）和用于释放残余物的出口（９０３）。所述...
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