一种缺陷分析方法、装置、电子设备及存储介质制造方法及图纸

技术编号:46391022 阅读:6 留言:0更新日期:2025-09-16 19:44
本申请实施例提供了一种缺陷分析方法、装置、电子设备及存储介质,涉及机器视觉技术领域。该缺陷分析方法包括:响应于生成任一检测对象在目标工序的第一缺陷检测结果,在存在至少一第二缺陷检测结果的情况下,针对每一第二缺陷检测结果,确定各个第二缺陷以及各个第一缺陷映射在目标缺陷分布图的位置;针对每一第二缺陷检测结果,对每一第一缺陷进行重复缺陷分析处理,得到重复缺陷分析结果;将所述各个第一缺陷中的重复缺陷去除,得到所述检测对象在所述目标工序的优化后的缺陷检测结果。应用本申请实施例提供的方案可以有效解决任一工序的缺陷检测结果指示的各个缺陷仅仅是重复缺陷时,导致产线停机,影响生产效率的问题。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及机器视觉,特别是涉及一种缺陷分析方法、装置、电子设备及存储介质


技术介绍

1、液晶基板、屏幕等对象在生产过程中,需要经过多个工序进行处理,在每一工序处理完成后,对象会被作为检测对象进行缺陷检测,以得到所述检测对象在该工序的缺陷检测结果。其中,所述缺陷检测可以是针对采集得到的检测对象的目标图像进行图像分析来完成。

2、相关技术中,若缺陷检测结果表征检测对象具有至少一个缺陷,则会控制产线停机;并且,在停机后,对具有缺陷的检测对象进行再次分析以得到分析结果,根据分析结果可以对具有缺陷的检测对象进行放行或报废处理。具体的,所述再次分析可以是针对检测对象所具有的每一缺陷,通过人工或缺陷分析算法来分析出是可容忍缺陷(即不影响产品功能,可以被忽略的缺陷)还是不可容忍缺陷(即影响产品功能,不可以被忽略的缺陷);并且,若检测对象仅具有可容忍缺陷,可以将检测对象继续流入下一工序;若分析出检测对象具有不可容忍缺陷,可以将检测对象进行报废处理。

3、可以理解的是,除第一工序外,任一工序的缺陷检测结果所指示的任一缺陷,既可能是在该工序的新增缺陷,本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种缺陷分析方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述重复缺陷分析处理包括:

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述确定所述第一缺陷检测结果所指示的各个第一缺陷映射在所述目标缺陷分布图的位置,包括:

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述指定坐标系为:以所述检测对象的目标基准点为原点,指定边为指定坐标轴的坐标系;所述指定边为所述目标基准点位于的边;所述第一基准点为所述第一目标图像中的、表征所述目标基准点的点;

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述确定所述目标坐标系的指定...

【技术特征摘要】

1.一种缺陷分析方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述重复缺陷分析处理包括:

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述确定所述第一缺陷检测结果所指示的各个第一缺陷映射在所述目标缺陷分布图的位置,包括:

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述指定坐标系为:以所述检测对象的目标基准点为原点,指定边为指定坐标轴的坐标系;所述指定边为所述目标基准点位于的边;所述第一基准点为所述第一目标图像中的、表征所述目标基准点的点;

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述确定...

【专利技术属性】
技术研发人员:柴瑞武汪敏青李奎
申请(专利权)人:杭州海康机器人股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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