一种静电吸盘及静电吸盘控制方法技术

本发明专利技术涉及半导体技术领域，提供一种静电吸盘及静电吸盘控制方法，静电吸盘包括包括吸盘主体及介电层，吸盘主体连接介电层，吸盘主体的一端设置第一区域、第二区域、第三区域及第四区域，第二区域环绕第一区域的外侧缘，第三区域环绕第二区域的外侧缘，第四区域环绕第三区域的外侧缘，第一区域内设置第一电极单元组，第二区域内设置第二电极单元组，第三区域内设置第三电极单元组，第四区域内设置第四电极单元组，吸盘主体内设置感测器阵列。通过采用上述结构，可有益于针对不同尺寸晶圆产生不同的电场，针对不同尺寸晶圆产生大小适配的静电力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体，特别涉及一种静电吸盘及静电吸盘控制方法。

技术介绍

1、在半导体制造过程中，晶圆的稳定固定是确保加工精度和品质的关键。静电吸盘（electrostatic chuck，e-chuck）作为一种非机械式的固定装置，通过静电吸引力将晶圆吸附在吸盘表面，避免了机械夹持可能导致的颗粒污染和晶圆损伤。

2、静电吸盘通常采用双极设计，即通过正负电极产生电场，诱导晶圆表面产生相反电荷，从而实现静电吸附固定。静电吸盘电极配置往往是固定的，通常根据晶圆尺寸进行设计，常见的晶圆直径为150mm、200mm、300mm等。

3、然而随着技术发展，晶圆尺寸越来越多样化，传统的静电吸盘缺乏适应性，例如固定300mm晶圆时需要更多电极以确保均匀的电场分布，而固定200mm晶圆时，过多的电极将导致电场过强或能量浪费，而针对大尺寸的晶圆，需要更高的电压来产生足够的静电力，但同时增加了介电层击穿或电极间电弧放电的风险，若发生介电层击穿或电弧放电，将极大影响吸盘的寿命和可靠性。现有技术中在切换晶圆尺寸时往往需要更换吸盘并调整相关硬件，增加了设备成本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种静电吸盘，其特征在于，包括吸盘主体及介电层，所述吸盘主体的一面连接所述介电层，所述吸盘主体朝向所述介电层的一端设置第一区域、第二区域、第三区域及第四区域，所述第二区域环绕所述第一区域的外侧缘设置，所述第三区域环绕所述第二区域的外侧缘设置，所述第四区域环绕所述第三区域的外侧缘设置，所述第一区域内设置第一电极单元组，所述第二区域内设置第二电极单元组，所述第三区域内设置第三电极单元组，所述第四区域内设置第四电极单元组，所述第一电极单元组、所述第二电极单元组、所述第三电极单元组及所述第四电极单元组均电性连接电源及强制放电开关，所述吸盘主体背向所述介电层的一端内设置感测器阵列，所述感测器阵...

【技术特征摘要】

1.一种静电吸盘，其特征在于，包括吸盘主体及介电层，所述吸盘主体的一面连接所述介电层，所述吸盘主体朝向所述介电层的一端设置第一区域、第二区域、第三区域及第四区域，所述第二区域环绕所述第一区域的外侧缘设置，所述第三区域环绕所述第二区域的外侧缘设置，所述第四区域环绕所述第三区域的外侧缘设置，所述第一区域内设置第一电极单元组，所述第二区域内设置第二电极单元组，所述第三区域内设置第三电极单元组，所述第四区域内设置第四电极单元组，所述第一电极单元组、所述第二电极单元组、所述第三电极单元组及所述第四电极单元组均电性连接电源及强制放电开关，所述吸盘主体背向所述介电层的一端内设置感测器阵列，所述感测器阵列用于监测所述介电层上的电场是否均匀。

2.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，所述第一电极单元组包括第一正电极单元及第一负电极单元，所述第二电极单元组包括第二正电极单元及第二负电极单元，所述第三电极单元组包括两个第三正电极单元及两个第三负电极单元，所述第四电极单元组包括三个第四正电极单元及三个第四负电极单元。

3.根据权利要求2所述的静电吸盘，其特征在于，所述第一区域为圆形，所述第二区域、所述第三区域及所述第四区域为与所述第一区域同心的圆环形。

4.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，所述强制放电开关的一端连接接地端，所述强制放电开关的另一端连接输出继电器，所述输出继电器背向所述强制放电开关的一端连接射频滤波器，所述射频滤波器背向所述输出继电器的一端连接输出端，所述输出端用于连接所述第一电极单元组、所述第二电极单元组、所述第三电极单元组及所述第四电极单元组。

5.根据权利要求4所述的静电吸盘，其特征在于，所述电源的一端连接所述接地端，所述电源的另一端连接所述强制放电开关远离所述接地端的一端，所述电源用于施加...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘坤明，侯汉成，宋嘉铭，茆同海，
申请(专利权)人：华通芯电南昌电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：