低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法及防反射材料技术

本发明专利技术提供在水接触角高的基材上也能够于较低的温度下固化而形成透光性高、硬度高、耐擦伤性良好且具有低折射率的被膜形成用涂布液，其制造方法及使用该被膜的防反射材料。低折射率被膜形成用涂布液的特征在于，包含具有结合有含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷（Ａ）、碳数在２０以下的直链烷基胺化合物（Ｂ）、整体的碳数在２０以下且其结构中具有碳数１０以下的环状基团的胺化合物（Ｃ）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及包含聚硅氧烷的低折射率被膜形成用涂布液、其制造方法、 由上述涂布液形成的低折射率被膜及具有该被膜的防反射材料。
技术介绍
目前，已知如果在基材的表面形成具有比该基材的折射率小的折射率 的被膜，则从该被膜的表面反射的光的反射率下降。并且，这样的呈现下 降了的光反射率的低折射率被膜被用作防光反射膜用于各种基材表面。例如，专利文献l中揭示了以下的方法将使作为Mg源的镁盐或烷氧基 镁化合物等与作为F源的氟化物盐反应而生成的MgF2微粒的醇分散液或者为 了提高膜强度在该分散液中加入四垸氧基硅烷等而得的液体作为涂布液， 将该涂布液涂布于玻璃基材上，在100 500。C的温度下进行热处理，在基 材上形成呈现低折射率的防反射膜。此外，专利文献2中揭示了以下的方法将平均分子量不同的2种以上 的四垸氧基硅垸等的水解縮聚物与醇等溶剂混合而制成涂布液，在由该涂 布液形成被膜时附加上述混合时的混合比例、相对湿度的控制等手段来制 作被膜。被膜通过在25(TC以上的温度下加热而得到，呈现1.21 1.40的折 射率，具有直径为50 200mn的微坑(micropit)或凹凸，厚度为60 160nm本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低折射率被膜形成用涂布液，其特征在于，包含具有结合有含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷（Ａ）、碳数在２０以下的直链状的脂肪族胺化合物（Ｂ）、整体的碳数在２０以下且其结构中具有碳数１０以下的环状基团的胺化合物（Ｃ）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-5-18 132683/20071.一种低折射率被膜形成用涂布液，其特征在于，包含具有结合有含氟有机基团的硅原子的聚硅氧烷(A)、碳数在20以下的直链状的脂肪族胺化合物(B)、整体的碳数在20以下且其结构中具有碳数10以下的环状基团的胺化合物(C)。2. 如权利要求l所述的涂布液，其特征在于，聚硅氧烷(A)、脂肪族胺 化合物(B)、胺化合物(C)被溶解于有机溶剂(D)。3. 如权利要求1或2所述的涂布液，其特征在于，聚硅氧垸(A)相对于 其所有硅原子具有5 40摩尔％结合有含氟有机基团的硅原子。4. 如权利要求1 3中的任一项所述的涂布液，其特征在于，脂肪族胺 化合物(B)为伯胺。5. 如权利要求1 4中的任一项所述的涂布液，其特征在于，胺化合物(C) 以下述式(l)表示;R，-R2—NH2 (1)式中，R为碳数3 10的环状基团，R2表示单键或碳数l 17的亚垸基。6. 如权利要求2 5中的任一项所述的涂布液，其特征在于，有机溶剂(D) 包括选自碳数为l 6的醇和碳数为3 10的二元醇醚的至少l种。7. 如权利要求1 6中的任一项所述的涂布液，其特征在于，聚硅氧烷 (A)的含量以其所具有的硅原子的总量换算成二...

【专利技术属性】
技术研发人员：根木隆之，元山贤一，
申请(专利权)人：日产化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]