谱学测量数据中多峰的识别方法、厚度测量方法及设备技术

本发明专利技术提供一种谱学测量数据中多峰的识别方法、厚度测量方法及设备，涉及数据处理技术领域。该方法包括：获取目标谱学测量数据；对目标谱学测量数据进行差分处理，得到差分谱学测量数据；基于差分谱学测量数据按照多峰导数方程进行拟合，得到第一拟合结果；多峰导数方程基于目标谱学测量数据的多峰参数方程得到；将第一拟合结果的参数为初始猜测，基于目标谱学测量数据按照多峰参数方程进行拟合，得到第二拟合结果，第二拟合结果中包含多峰的位置信息。通过实施本发明专利技术，能够消除基线干扰，增强峰特征识别准确度。并且能够避免拟合算法因随机初始值导致失败，提升收敛速度和稳定性，进一步提升对多峰特征的识别准确度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及数据处理，具体涉及一种谱学测量数据中多峰的识别方法、厚度测量方法及设备。

技术介绍

1、光谱、能谱等谱学测量是科学研究和工业生产中的重要步骤，通过分析光谱和能谱等谱学数据，可以提取出有效的信息，如峰的位置可以提供物理或化学的强度属性，而峰的面积可以提供物理或化学的广度属性。然而，实际测量得到的数据中由于体系粒子的物理性质存在热力学涨落，有着各种展宽，因此实际测得的数据中往往会存在具有一定宽度的峰，而峰的宽度有时会影响峰位置的精确归属。

技术实现思路

1、有鉴于此，本专利技术提供一种谱学测量数据中多峰的识别方法、厚度测量方法及设备。

2、第一方面，本专利技术实施例提出了一种谱学测量数据中多峰的识别方法，包括：获取目标谱学测量数据；对目标谱学测量数据进行差分处理，得到差分谱学测量数据；基于差分谱学测量数据按照多峰导数方程进行拟合，得到第一拟合结果；多峰导数方程基于目标谱学测量数据的多峰参数方程得到；将第一拟合结果的参数为初始猜测，基于目标谱学测量数据按照多峰参数方程进行拟合，得到第二拟合本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种谱学测量数据中多峰的识别方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取目标谱学测量数据，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述获取目标谱学测量数据，还包括：

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述对所述目标谱学测量数据进行平滑处理，得到平滑处理后的目标谱学测量数据，包括：

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述差分谱学测量数据按照多峰导数方程进行拟合，得到第一拟合结果，包括：

6.一种厚度测量方法，其特征在于，包括：

7.一种减薄控制方法，...

【技术特征摘要】

1.一种谱学测量数据中多峰的识别方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取目标谱学测量数据，包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述获取目标谱学测量数据，还包括：

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述对所述目标谱学测量数据进行平滑处理，得到平滑处理后的目标谱学测量数据，包括：

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述差分谱学测量数据按照多峰导数方程进行拟合，得到第一拟合结果，包括：

6.一种厚度测量方法，其特征在于，包括：

7.一种减薄控制方法，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪岳鹏，蒋继乐，寇明虎，
申请(专利权)人：北京特思迪半导体设备有限公司，
类型：发明
国别省市：