聚硅氧烷嵌段共聚物制造技术

技术编号:4435366 阅读:194 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术包括含聚硅氧烷嵌段和聚阳离子嵌段的新型两亲性嵌段共聚物。所述聚阳离子嵌段由二烯丙基二烷基铵衍生物形成。所形成的嵌段共聚物特别可用于处理或调理角蛋白物质,如毛发或皮肤。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种两亲性嵌段共聚物,其包含: a)下式的硅氧烷嵌段聚合物: *** (Ⅰ), 其中n为2-10,000的数,和 b)由至少下式的阳离子单体形成的阳离子嵌段聚合物: *** (Ⅱ), 其中R↓[3]和 R↓[4]彼此独立地为氢或C↓[1]-C↓[4]烷基;R↓[5]和R↓[6]独立地为氢或烷基、羟基烷基、羧基烷基、羧酰氨基烷基或烷氧基烷基,所述烷基、羟基烷基、羧基烷基、羧酰氨基烷基或烷氧基烷基具有1-18个碳原子;和Y↑[-]表示阴离子。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:巴林特科罗斯凯尼曼纽尔加梅兹卡西亚毛建文
申请(专利权)人:西巴控股公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

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