【技术实现步骤摘要】
本技术涉及甲酸真空炉,尤其是指一种甲酸真空炉真空过滤系统及甲酸真空炉。
技术介绍
1、在电子制程中,回流焊是必不可少的一步,而在此过程中,助焊剂起到了至关重要的作用。然而,焊接完成后,助焊剂的残留可能成为一个棘手的问题,对电路板的性能和可靠性产生影响。
2、目前,现常采用的助焊剂过滤装置,过滤和回收都不能很好的充分的抽取过滤多余的残留助焊剂,多余的助焊剂容易对机器造成损坏,对产品造成污染,加大人员工时的浪费。
3、因此,亟需设计一种有效过滤助焊剂的过滤装置或系统。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足,本技术公开了一种助焊剂回收装置及甲酸真空炉。
2、本技术所采用的技术方案如下:
3、一种甲酸真空炉真空过滤系统,包括:
4、第一过滤机构,包括第一罐体、设于所述第一罐体内的一级金属丝网以及设于所述第一罐体内的冷却管;所述一级金属丝网对进入所述第一罐体的气体进行初步过滤,所述冷却管对气体进行冷却;
5、第二过滤机构,和所述
...【技术保护点】
1.一种甲酸真空炉真空过滤系统,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的甲酸真空炉真空过滤系统,其特征在于,所述第一罐体(105)设有第一进气口(107)和第一排气口(108),所述第二罐体(205)设有第二进气口(207)和第二排气口(208),所述第一排气口(108)和所述第二进气口(207)通过第一管道连接。
3.根据权利要求2所述的甲酸真空炉真空过滤系统,其特征在于,所述第一进气口(107)的设置高度高于所述第一排气口(108)的设置高度。
4.根据权利要求2所述的甲酸真空炉真空过滤系统,其特征在于,所述第二排气口(20
...【技术特征摘要】
1.一种甲酸真空炉真空过滤系统,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的甲酸真空炉真空过滤系统,其特征在于,所述第一罐体(105)设有第一进气口(107)和第一排气口(108),所述第二罐体(205)设有第二进气口(207)和第二排气口(208),所述第一排气口(108)和所述第二进气口(207)通过第一管道连接。
3.根据权利要求2所述的甲酸真空炉真空过滤系统,其特征在于,所述第一进气口(107)的设置高度高于所述第一排气口(108)的设置高度。
4.根据权利要求2所述的甲酸真空炉真空过滤系统,其特征在于,所述第二排气口(208)的设置高度高于所述第二进气口(207)的设置高度。
5.根据权利要求1所述的甲酸真空炉真空过滤系统,其特征在于,所述冷却管(104)呈螺旋状设于所述第一罐体...
【专利技术属性】
技术研发人员:夏永祥,胡锡锋,左晓顺,李刚,
申请(专利权)人:立忞半导体科技无锡有限公司,
类型:新型
国别省市:
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