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硫代-2-羟基吲哚衍生物在治疗皮肤病中的用途制造技术

技术编号:437236 阅读:208 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供治疗皮肤病的方法,包括在一种治疗方案中向哺乳动物递送一种含有式Ⅰ化合物或其互变异构体的组合物,其中式Ⅰ如本文中所示,且R↑[1]-R↑[5]和Q↑[1]如本文中所述定义。具体地,描述了治疗粉刺、多毛症的方法,和用于调理皮肤的组合物。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
硫代-2-羟基吲哚衍生物在治疗皮肤病中的用途的制作方法
技术介绍
本专利技术涉及治疗皮肤病,包括痤疮和多毛症的方法,和使用含有小分子的组合物调理皮肤的方法。考虑到迄今为止大量的确诊的皮肤病数目,人们已经进行了与治疗这样的疾病有关的大量研究。尽管许多皮肤病不被认为是危险的,但如果不进行治疗可以导致不可逆转的伤疤。有许多已知的治疗方法来减轻皮肤病症状,包括口服、静脉注射和局部使用含有活性剂的组合物,以及手术的方法,例如激光疗法。然而,这样的治疗可以导致使人厌恶的的副作用,倾向于抑制病症而不是洽愈病症,是昂贵的,和/或造成疾病恶化。本领域一直需要找到用于减轻症状和/或消除皮肤病的替代方法和用于调理皮肤的方法。专利技术概述一方面,本专利技术提供治疗皮肤病的方法,包括向哺乳动物递送一种含有式I化合物或其互变异构体和生理学上合适载体的组合物的步骤,其中式I是 更进一步的方面,本专利技术提供了一种治疗痤疮的方法,包括向哺乳动物递送一种含有式I化合物的组合物的步骤。另一方面,本专利技术提供了一种治疗多毛症的方法,包括向哺乳动物递送一种含有式I化合物的组合物的步骤。在更进一步的方面,本专利技术提供了一种用于调理哺乳动物皮肤的方法,该方法包括向哺乳动物递送含有式I化合物的组合物的步骤。本专利技术的其它方面和优点将在下面的优选实施方案的详细说明中作更进一步的描述。专利技术详述本专利技术提供了治疗皮肤病的方法,包括在一种给药方案中向哺乳动物递送包含式I化合物的组合物。优选,按照本专利技术治疗的哺乳动物患者是人类,且更优选女性。术语“互变异构体”是用来描述可以以多于一种同分异构形式存在的化合物。术语“皮肤”是用来描述哺乳动物形体的外膜,包括但不限于表皮,真皮,和皮下组织。典型地,皮肤可以包括其它部分,例如毛囊和汗腺。术语“痤疮”是用来包括其中皮肤毛孔变得阻塞和/或由此发炎的任何皮肤病症。术语痤疮包括但不限于浅表性痤疮,包括粉刺,炎性丘疹,浅表性囊肿和脓疱;和深度痤疮,包括深度发炎部位和充满脓汁的囊肿。具体的痤疮病症可以包括,但不局限于,寻常痤疮、痤疮粉刺、丘疹痤疮、经前痤疮、青春期前的痤疮、中毒性痤疮(acnevenenata)、化妆性痤疮(acne cosmetica)、润发油痤疮、清洁剂痤疮(acnedetergicans)、表皮脱落性痤疮(acne excoriee)、格兰氏阴性痤疮、红斑痤疮、须部假性毛囊炎、毛囊炎、口周皮炎和hiddradenitissuppurativa。术语“多毛症”是描述一种皮肤病症,其中在通常没患有毛发过量生长的身体部位观察到毛发的过度生长。可以按照本专利技术的方法来治疗许多皮肤病,包括毛囊和皮脂腺皮肤病。优选,可以按照本专利技术来治疗皮肤病例如痤疮和多毛症,还有其它的皮肤病。其它皮肤病包括皮肤干燥/皮肤皲裂,seboria,牛皮癣,或脱发。本专利技术也可用于治疗受环境条件影响的皮肤。I.用于本专利技术方法的化合物在一个实施方案中,本专利技术的方法包括式I化合物的递送,式I化合物的制备方法在US专利No.6,355,648和国际专利公开说明书No.WO 00/66555中作出了描述,并在此引入作为参考。式I化合物具有下面的结构 其中R1和R2选自H、烷基、取代的烷基、OH、O(烷基)、O(取代的烷基)、O(乙酰基)、芳基、取代的芳基、杂环、取代的杂环、烷基芳基、取代的烷基芳基、烷基杂芳基、取代的烷基杂芳基、1-丙炔基、取代的1-丙炔基、3-丙炔基和取代的3-丙炔基;或R1和R2相连形成选自-CH2(CH2)nCH2-,-CH2CH2C(CH3)2CH2CH2-,-O(CH2)mCH2-,-O(CH2)pO-,-CH2CH2OCH2CH2-,-CH2CH2N(H)CH2CH2-,和-CH2CH2N(烷基)CH2CH2-的环;m是1到4的整数;n是1到5的整数;p是1到4的整数;或R1和R2形成与C(CH3)2、C(环烷基)、O、或C(环醚)连接的双键;R3选自H、OH、NH2、C1到C6烷基、取代的C1到C6烷基、C3到C6链烯基、取代的C3到C6链烯基、炔基、取代的炔基和CORA;RA选自H,C1到C3烷基,取代的C1到C3烷基,C1到C3烷氧基,取代的C1到C3烷氧基,C1到C3氨基烷基,和取代的C1到C3氨基烷基;R4选自H,卤素,CN,NH2,C1到C6烷基,取代的C1到C6烷基,C1到C6烷氧基,取代的C1到C6烷氧基,C1到C6氨基烷基,和取代的C1到C6氨基烷基;R5选自a)、b)和c)a)具有下面结构的取代苯环 X选自卤素、OH、CN、C1到C3烷基、取代的C1到C3烷基、C1到C3烷氧基、取代的C1到C3烷氧基、C1到C3硫代烷基、取代的C1到C3硫代烷基、S(O)烷基、S(O)2烷基、C1到C3氨基烷基、取代的C1到C3氨基烷基、NO2、C1到C3全氟烷基、取代的C1到C3全氟烷基、包含1到3个杂原子的5或6元杂环、CONH2、CSNH2、CNHNHOH、CNH2NOH、CNHNOH、CORB、CSRB、OCORB和NRCCORB;RB选自H、C1到C3烷基、取代的C1到C3烷基、芳基、取代的芳基、C1到C3烷氧基、取代的C1到C3烷氧基、C1到C3氨基烷基和取代的C1到C3氨基烷基;Rc是H、C1到C3烷基或取代的C1到C3烷基;Y和Z独立地选自H、卤素、CN、NO2、C1到C3烷氧基、取代的C1到C3烷氧基、C1到C4烷基、取代的C1到C4烷基、C1到C3硫代烷基和取代的C1到C3硫代烷基;b)包含1、2、或3个选自O、S、SO、SO2和NR6的杂原子且具有一个或两个选自H、卤素、CN、NO2、C1到C4烷基、取代的C1到C4烷基、C1到C3烷氧基、取代的C1到C3烷氧基、C1到C3氨基烷基、取代的C1到C3氨基烷基、CORD、CSRD和NRECORD的独立取代基的五或六元杂环;RD是H、NH2、C1到C3烷基、取代的C1到C3烷基、芳基、取代的芳基、C1到C3烷氧基、取代的C1到C3烷氧基、C1到C3氨基烷基或取代的C1到C3氨基烷基;RE是H、C1到C3烷基或取代的C1到C3烷基;R6是H、C1到C3烷基、取代的C1到C3烷基或C1到C4CO2烷基;或c)吲哚-4-基、吲哚-7-基或苯并-2-噻吩部分,其中所述部分被选自卤素、烷基、取代的烷基、CN、NO2、烷氧基、取代的烷氧基和CF3的1到3个取代基任选取代;Q1是S、NR7或CR8R9;R7选自CN、C1到C6烷基、取代的C1到C6烷基、C3到C8环烷基、取代的C3到C8环烷基、芳基、取代的芳基、杂环、取代的杂环、酰基、取代的酰基、芳酰基、取代的芳酰基、SO2CF3、OR11和NR11R12;R8和R9是独立的取代基,选自H、烷基、取代的烷基、酰基、取代的酰基、芳酰基、取代的芳酰基、C3到C8环烷基、取代的C3到C8环烷基、芳基、取代的芳基、杂环、取代的杂环、NO2、CN和CO2R10;R10是C1到C3烷基或取代的C1到C3烷基;或CR8R9包括具有下面结构的六元环 R11和R12独立地选自H、烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基、杂环、取代的杂环、酰基、取代的酰基、芳酰基、取代的芳酰基、磺酰基和取代的磺酰基;或其药学可接受的盐、互变异构体、代谢物或前体药物。在本文档来自技高网...

【技术保护点】
式Ⅰ的化合物或其互变异构体在制备用于治疗痤疮和/或多毛症的药物中的用途,其特征在于式Ⅰ化合物是:***Ⅰ其中:R↑[1]和R↑[2]选自H、烷基、取代的烷基、OH、O(烷基)、O(取代的烷基)、O(乙酰基)、芳基 、取代的芳基、杂环、取代的杂环、烷基芳基、取代的烷基芳基、烷基杂芳基、取代的烷基杂芳基、1-丙炔基、取代的1-丙炔基、3-丙炔基和取代的3-丙炔基;或R↑[1]和R↑[2]相连形成环,选自-CH↓[2](CH↓[2])↓[n]CH↓ [2]-,-CH↓[2]CH↓[2]C(CH↓[3])↓[2]CH↓[2]CH↓[2]-,-O(CH↓[2])↓[m]CH↓[2]-,-O(CH↓[2])↓[p]O-,-CH↓[2]CH↓[2]OCH↓[2]CH↓[2]-,-CH↓[2]CH↓[2]N(H)CH↓[2]CH↓[2]-,和-CH↓[2]CH↓[2]N(烷基)CH↓[2]CH↓[2]-;m是1到4的整数;n是1到5的整数;p是1到4的整数;或R↑[1]和R↑[2]形成与C(CH↓[ 3])↓[2]、C(环烷基)、O、或C(环醚)连接的双键;R↑[3]选自H、OH、NH↓[2]、C↓[1]到C↓[6]烷基、取代的C↓[1]到C↓[6]烷基、C↓[3]到C↓[6]链烯基、取代的C↓[3]到C↓[6]链烯基、炔基、取 代的炔基和COR↑[A];R↑[A]选自H,C↓[1]到C↓[3]烷基,取代的C↓[1]到C↓[3]烷基,C↓[1]到C↓[3]烷氧基,取代的C↓[1]到C↓[3]烷氧基,C↓[1]到C↓[3]氨基烷基和取代的C↓[1]到C↓[3] 氨基烷基;R↑[4]选自H,卤素,CN,NH↓[2],C↓[1]到C↓[6]烷基,取代的C↓[1]到C↓[6]烷基,C↓[1]到C↓[6]烷氧基,取代的C↓[1]到C↓[6]烷氧基,C↓[1]到C↓[6]氨基烷基,和取代的C↓[1] 到C↓[6]氨基烷基;R↑[5]选自a)、b)和c):a)具有下面结构的取代苯环:***X选自卤素、OH、CN、C↓[1]到C↓[3]烷基、取代的C↓[1]到C↓[3]烷基、C↓[1]到C↓[3]烷氧基、取代 的C↓[1]到C↓[3]烷氧基、C↓[1]到C↓[3]硫代烷基、取代的C↓[1]到C↓[3]硫代烷基、S(O)烷基、S(O)↓...

【技术特征摘要】
US 2002-6-25 60/391,9131.式I的化合物或其互变异构体在制备用于治疗痤疮和/或多毛症的药物中的用途,其特征在于式I化合物是 其中R1和R2选自H、烷基、取代的烷基、OH、O(烷基)、O(取代的烷基)、O(乙酰基)、芳基、取代的芳基、杂环、取代的杂环、烷基芳基、取代的烷基芳基、烷基杂芳基、取代的烷基杂芳基、1-丙炔基、取代的1-丙炔基、3-丙炔基和取代的3-丙炔基;或R1和R2相连形成环,选自-CH2(CH2)nCH2-,-CH2CH2C(CH3)2CH2CH2-,-O(CH2)mCH2-,-O(CH2)PO-,-CH2CH2OCH2CH2-,-CH2CH2N(H)CH2CH2-,和-CH2CH2N(烷基)CH2CH2-;m是1到4的整数;n是1到5的整数;p是1到4的整数;或R1和R2形成与C(CH3)2、C(环烷基)、O、或C(环醚)连接的双键;R3选自H、OH、NH2、C1到C6烷基、取代的C1到C6烷基、C3到C6链烯基、取代的C3到C6链烯基、炔基、取代的炔基和CORA;RA选自H,C1到C3烷基,取代的C1到C3烷基,C1到C3烷氧基,取代的C1到C3烷氧基,C1到C3氨基烷基和取代的C1到C3氨基烷基;R4选自H,卤素,CN,NH2,C1到C6烷基,取代的C1到C6烷基,C1到C6烷氧基,取代的C1到C6烷氧基,C1到C6氨基烷基,和取代的C1到C6氨基烷基;R5选自a)、b)和c)a)具有下面结构的取代苯环 X选自卤素、OH、CN、C1到C3烷基、取代的C1到C3烷基、C1到C3烷氧基、取代的C1到C3烷氧基、C1到C3硫代烷基、取代的C1到C3硫代烷基、S(O)烷基、S(O)2烷基、C1到C3氨基烷基、取代的C1到C3氨基烷基、NO2、C1到C3全氟烷基、取代的C1到C3全氟烷基、具有1到3个杂原子的5或6元杂环、CONH2、CSNH2、CNHNHOH、CNH2NOH、CNHNOH、CORB、CSRB、OCORB和NRCCORB;RB选自H,C1到C3烷基,取代的C1到C3烷基,芳基,取代的芳基,C1到C3烷氧基,取代的C1到C3烷氧基,C1到C3氨基烷基和取代的C1到C3氨基烷基;Rc是H、C1到C3烷基或取代的C1到C3烷基;Y和Z独立地选自H、卤素、CN、NO2、C1到C3烷氧基、取代的C1到C3烷氧基、C1到C4烷基、取代的C1到C4烷基、C1到C3硫代烷基和取代的C1到C3硫代烷基;b)包含1、2、或3个选自O、S、SO、SO2和NR6的杂原子且具有一个或两个选自H、卤素、CN、NO2、C1到C4烷基、取代的C1到C4烷基、C1到C3烷氧基、取代的C1到C3烷氧基、C1到C3氨基烷基、取代的C1到C3氨基烷基、CORD、CSRD和NRECORD的独立取代基的五或六元杂环;RD是H、NH2、C1到C3烷基、取代的C1到C3烷基、芳基、取代的芳基、C1到C3烷氧基、取代的C1到C3烷氧基、C1到C3氨基烷基或取代的C1到C3氨基烷基;RE是H、C1到C3烷基或取代的C1到C3烷基;R6是H、C1到C3烷基、取代的C1到C3烷基或C1到C4CO2烷基;或c)吲哚-4-基、吲哚-7-基或苯并-2-噻吩部分,其中所述“部分”被选自卤素、烷基、取代的烷基、CN、NO2、烷氧基、取代的烷氧基和CF3的1到3个取代基任选取代;Q1是S、NR7或CR8R9;R7选自CN、C1到C6烷基、取代的C1到C6烷基、C3到C8环烷基、取代的C3到C8环烷基、芳基、取代的芳基、杂环、取代的杂环、酰基、取代的酰基、芳酰基、取代的芳酰基、SO2CF3、OR11和NR11R12;R8和R9是独立的取代基,选自H、烷基、取代的烷基、酰基、取代的酰基、芳酰基、取代的芳酰基、C3到C8环烷基、取代的C3到C8环烷基、芳基、取代的芳基、杂环、取代的杂环、NO2、CN和CO2R10;R10是C1到C3烷基或取代的C1到C3烷基;或CR8R9包括具有下面结构的六元环 R11和R12独立地选自H、烷基、取代的烷基、芳基、取代的芳基、杂环、取代的杂环、酰基、取代的酰基、芳酰基、取代的芳酰基、磺酰基和取代的磺酰基;或其药学上可接受的盐、互变异构体、代谢物或前体药物。2.按照权利要求1的用途,其特征在于在式I化合物中R1和R2相连形成-CH2(CH2)nCH2-环;n是3;R3和R4是H;R5是具有下面结构的取代苯环 X选自卤素、CN、CONH2、CSNH2、CORB、CSRB、C1到C3烷氧基、C1到C3烷基、NO2、C1到C3全氟烷基、包含1到3个杂原子的5元杂环和C1到C3硫代烷基;RB是C1到C3氨基烷基或取代的C1到C3氨基烷基,其中所述氨基烷基是NH(烷基)或N(烷基)2;Y选自H、卤素、CN、NO2、C1到C3烷氧基、C1到C4烷基和C1到C3硫代烷基。3.按照权利要求1的用途,其特征在于在式I化合物中R1和R2相连形成-CH2(CH2)nCH2-环;n是3;R3和R4是H;R5是具有下面结构的五元环 U是O、S或NR6;X′选自卤素、CN、NO2、CONH2、CSNH2、CORB、CSRB、C1到C3烷基和C1到C3烷氧基;RB是C1到C3氨基烷基或取代的C1到C3氨基烷基,其中所述氨基烷基是NH(烷基)或N(烷基)2;Y′选自H、卤素、和C1到C4烷基,其中所述卤素是F。4.按照权利要求1的用途,其特征在于在式I化合物中R1和R2相连形成-CH2(CH2)nCH2-环;n是3;R3和R4是H;R5是具有下面结构的六元环 X1是N或CX2;X2是卤素、CN、CONH2、CSNH2、CORB、CSRB或NO2;RB是C1到C3氨基烷基或取代的C1到C3氨基烷基,其中所述氨基烷基是NH(烷基)或N(烷基)2;5.按照权利要求1的用途,其特征在于在式I化合物中R1和R2是烷基或取代的烷基;R3是H。6.按照权利要求1的用途,其特征在于在式I化合物中R1和R2相连形成选自-CH2(CH2)nCH2-,-CH2CH2C(CH3)2CH2CH2-,-O(CH2)mCH2-,-O(CH2)pO-,-CH2CH2OCH2CH2-,-CH2CH2N(H)CH2CH2-,和-CH2CH2N(烷基)CH2CH2-的环;R3是H。7.按照权利要求1的用途,其特征在于在式I化合物中R3是H;Q1是S或NR7。8.按照权利要求1的用途,其特征在于配制的药剂用于口服递送。9.式II的化合物或其互变异构体在制备用于治疗痤疮和/或多毛症的药物中的用途,其特征在于式II是 其中R11选自H、酰基、取代的酰基、芳酰基、取代的芳酰基、磺酰基和取代的磺酰基;R5是(i)、(ii)或(iii)(i)具有下面结构的取代苯环 其中X选自卤素、CN、CONH2、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2、CSN(烷基)2、CNHNHOH、CNH2NOH、C1到C3烷氧基、C1到C3烷基、NO2、C1到C3全氟烷基、包含1到3个杂原子的5元杂环和C1到C3硫代烷基;Y选自H、卤素、CN、NO2、C1到C3烷氧基、C1到C4烷基和C1到C3硫代烷基;(ii)具有下面结构的五元环 其中U是O、S或NR6;R6是H、C1到C3烷基或C1到C4CO2烷基;X′选自卤素、CN、NO2、CONH2、CNHNHOH、CNH2NOH、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2、CSN(烷基)2、C1到C3烷基和C1到C3烷氧基;Y′选自H、F和C1到C4烷基;或(iii)具有下面结构的六元环 其中X1是N或CX2;X2是卤素、CN、CONH2、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2、CSN(烷基)2或NO2;或其药学上可接受的盐、互变异构体、代谢物或前体药物。10.按照权利要求9的用途,其特征在于在式II化合物中,R5是所述五元环,且U是O或S。11.式III化合物或其互变异构体在制备用于治疗痤疮和/或多毛症的药物中的用途,其特征在于式III是 其中R5是(i)、(ii)或(iii)(i)具有下面结构的取代苯环 其中X选自卤素、CN、CONH2、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2,CSN(烷基)2、CNHNOH、C1到C3烷氧基、C1到C3烷基、NO2、C1到C3全氟烷基、包含1到3个杂原子的5元杂环和C1到C3硫代烷基;Y选自H、卤素、CN、NO2、C1到C3烷氧基、C1到C4烷基和C1到C3硫代烷基;(ii)具有下面结构的五元环 其中U是O、S或NR6;R6是H、C1到C3烷基或C1到C4CO2烷基;X′选自卤素、CN、NO2、CONH2、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2、CSN(烷基)2、C1到C3烷基和C1到C3烷氧基;Y′选自H、F和C1到C4烷基;或(iii)具有下面结构的六元环 其中X1是N或CX2;X2是卤素、CN、CONH2、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2、CSN(烷基)2或NO2;或其药学上可接受的盐、互变异构体、代谢物或前体药物。12.按照权利要求11的用途,其特征在于在式II化合物中,R5是五元环(ii),且U是O或S。13.式IV化合物或其互变异构体在制备用于治疗痤疮和/或多毛症的药物中的用途,其特征在于式IV是 其中R8选自H、CO2R10、酰基、取代的酰基、芳酰基、取代的芳酰基、烷基、取代的烷基和CN;R10是C1到C3烷基;R5是(i)、(ii)或(iii)(i)具有下面结构的取代苯环 其中X选自卤素、CN、CONH2、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2,CSN(烷基)2、CNHNOH、C1到C3烷氧基、C1到C3烷基、NO2、C1到C3全氟烷基、包含1到3个杂原子的5元杂环和C1到C3硫代烷基;Y选自H、卤素、CN、NO2、C1到C3烷氧基、C1到C4烷基和C1到C3硫代烷基;(ii)具有下面结构的五元环 其中U是O、S或NR6;R6是H、C1到C3烷基或C1到C4CO2烷基;X′选自卤素、CN、NO2、CONH2、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2、CSN(烷基)2、C1到C3烷基和C1到C3烷氧基;Y′选自H、F和C1到C4烷基;(iii)具有下面结构的六元环 其中X1是N或CX2;X2是卤素、CN、CONH2、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2、CSN(烷基)2或NO2;或其药学上可接受的盐、互变异构体、代谢物或前体药物。14.按照权利要求13的用途,其特征在于在式IV化合物中,R5是五元环(ii),且U是O或S。15.式V化合物或其互变异构体在制备用于治疗痤疮和/或多毛症的药物中的用途,其特征在于式V是 R5是(i)、(ii)或(iii)(i)具有下面结构的取代苯环 其中X选自卤素、CN、CONH2、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2,CSN(烷基)2、CNHNOH、C1到C3烷氧基、C1到C3烷基、NO2,C1到C3全氟烷基、包含1到3个杂原子的5元杂环和C1到C3硫代烷基;Y选自H、卤素、CN、NO2、C1到C3烷氧基、C1到C4烷基和C1到C3硫代烷基;(ii)具有下面结构的五元环 其中U是O、S或NR6;R6是H、C1到C3烷基或C1到C4CO2烷基;X′选自卤素、CN、NO2、CONH2、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2、CSN(烷基)2、C1到C3烷基和C1到C3烷氧基;Y′选自H、F和C1到C4烷基;(iii)具有下面结构的六元环 其中X1是N或CX2;X2是卤素、CN、CONH2、CSNH2、CONH烷基、CSNH烷基、CON(烷基)2、CSN(烷基)2或NO2;或其药学上可接受的盐、互变异构体、代谢物或前体药物。16.按照权利要求15的用途,其特征在于在式V化合物中,R5是五元环(ii),且U是O或S。17.一种用于调理需要这样的调理的哺乳动物皮肤的组合物,其包含(i)皮肤调理组分;和(ii)式I的化合物,或其互变异构体 其中R1和R2选自H、烷基、取代的烷基、OH、O(烷基)、O(取代的烷基)、O(乙酰基)、芳基、取代的芳基、杂环、取代的杂环、烷基芳基、取代的烷基芳基、烷基杂芳基、取代的烷基杂芳基、1-丙炔基、取代的1-丙炔基、3-丙炔基和取代的3-丙炔基;或R1和...

【专利技术属性】
技术研发人员:A芬索姆DD哈里森RC温内克尔
申请(专利权)人:惠氏公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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