【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，特别是涉及一种用于半导体外观检测设备照明光源滤波装置。
技术介绍
1、半导体工业普遍使用的光刻胶，在遭遇光线照射(特别是紫外线)即有曝光之效果，因此在显影之前，都要远离此光源。
2、camtek adi背照式(bsi)模块使用的是白光，而白光会在几秒内使涂有光刻胶层的基材曝光，从而使可重复性的光刻工艺变得不可能。
3、因此，需要提出一种新的装置来解决上述问题。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种用于半导体外观检测设备照明光源滤波装置，用于解决现有技术中由于bsi照明模块白光会在几秒内使涂有光刻胶层的基材曝光的问题。
2、为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种用于半导体外观检测设备照明光源滤波装置，至少包括：
3、白光光源；
4、滤波色轮；所述滤波色轮设有第一滤色板；所述第一滤色板用于将所述白光光源输出为黄光；
5、光谱仪；所述光谱仪用于检测输出的所...
【技术保护点】
1.一种用于半导体外观检测设备照明光源滤波装置，其特征在于，至少包括：
2.根据权利要求1所述的用于半导体外观检测设备照明光源滤波装置，其特征在于：所述白光光源设有灯罩。
3.根据权利要求1所述的用于半导体外观检测设备照明光源滤波装置，其特征在于：所述滤波色轮安装在所述灯罩上。
4.根据权利要求1所述的用于半导体外观检测设备照明光源滤波装置，其特征在于：所述滤波色轮上还设有第二、第三滤色板；其中所述第二滤色板对所述白光光源全部透射；所述第三滤色板用于将所述白光光源输出为紫光。
5.根据权利要求1所述的用于半导体外观检测设...
【技术特征摘要】
1.一种用于半导体外观检测设备照明光源滤波装置，其特征在于，至少包括：
2.根据权利要求1所述的用于半导体外观检测设备照明光源滤波装置，其特征在于：所述白光光源设有灯罩。
3.根据权利要求1所述的用于半导体外观检测设备照明光源滤波装置，其特征在于：所述滤波色轮安装在所述灯罩上。
4.根据权利要求1所述的用于半导体外观检测设备照明光源滤波装置，其特征在于：所述滤波色轮上还设有第二、第三滤色板；其中所述第二滤色板对所述白光光源全部透射；所述第三滤色板用于将所述白光光源输出为紫光。
...【专利技术属性】
技术研发人员：程鹏，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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