显影液组成物制造技术

本发明专利技术是有关于一种显影液组成物，其包括：（ａ）０．０１至３０重量份的碱性化合物；（ｂ）０．０１至３０重量份的如下式（Ｉ）所示的阴离子性界面活性剂，式（Ｉ）；以及（ｃ）其余重量份的水配成１００重量份的显影液组成物，其中，Ｘ、Ｒ１、Ｒ２、ｎ及ｍ的定义如说明书中所述。本发明专利技术所使用的阴离子性界面活性剂具有高浊点，故可提高显影液组成物的浓度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种显影液组成物，尤其是指一种光阻剂的显影液组成物，其可配制为高浓度的显影液组成物，特别适用于彩色滤光片用光阻剂的显影用途上。
技术介绍
—般在集成电路、印刷电路板和液晶显示器等工艺中，为获致精细图像，常利用光阻剂等放射线敏感组成物以涂布方式在基材上形成薄膜，经过放射线照射后，以碱性显影液显像，来除去不要的涂膜部分，以获致良好的图像。 常用的显影方法有浸渍显影、摇动显影、喷洒显影和静置显影等技术。由于一般光阻剂是由碱可溶性树脂，例如酚醛树脂(Novolac)、压克力树脂、聚对-羟基苯乙烯等，搭配不同的放射线敏感物质，以形成正型或负型光阻剂。光阻剂经过放射线照射后，改变其原来的溶解度，而可以溶于碱性显影液中。碱性显影液中所使用的碱性化合物一般分为无机碱及有机碱两大类， 一般无机碱可为氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、以及碳酸氢钠等， 一般有机碱可为氢氧化四甲铵或烷醇胺等碱性化合物，其皆被广泛使用于显影液中。 然根据公知显影液的技术，光阻剂在涂膜并预烤、曝光后，以碱性显影液来溶解除去未曝光而不要的涂膜部份，其显影的现象产生是因为该光阻剂中含有酸官能基。此等位于有机聚合物基质内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影液组成物，包括：（ａ）０．０１至３０重量份的碱性化合物；（ｂ）０．０１至３０重量份的如下式（Ⅰ）所示的阴离子性界面活性剂，＊＊＊式（Ⅰ）其中，Ｘ为氢、铵盐、碱金属或碱土金属的阳离子，Ｒ↓［１］为氢原子或Ｃ↓［１－４］烷基，Ｒ↓［２］为氢原子或Ｃ↓［１－４］烷基，ｎ为０至１０的整数，且ｍ为４至２０的整数；以及（ｃ）其余重量份的水配成１００重量份的该显影液组成物。

【技术特征摘要】
一种显影液组成物，包括(a)0.01至30重量份的碱性化合物；(b)0.01至30重量份的如下式(I)所示的阴离子性界面活性剂，式(I)其中，X为氢、铵盐、碱金属或碱土金属的阳离子，R1为氢原子或C1-4烷基，R2为氢原子或C1-4烷基，n为0至10的整数，且m为4至20的整数；以及(c)其余重量份的水配成100重量份的该显影液组成物。F200810184388XC0000011.tif2. 如权利要求1所述的显影液组成物，其中，&为氢原子或甲基，R2为氢原子或甲基。3. 如权利要求2所述的显影液组成物，其中，n为0。4. 如权利要求3所述的显影液组成物，其中，&及R2为甲基。5. 如权利要求1所述的显影液组成物，其中，该碱性化合物的含i6. 如权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘大铭，李晏成，郑敏精，周德纲，
申请(专利权)人：明德国际仓储贸易上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]