制造平版印版的方法，该方法包括：（ａ）提供具有亲水性表面的平版底材；（ｂ）将阴图制版辐射感光组合物施涂于该亲水性表面上，其中该组合物包括：（ｉ）一种或多种类型的单体和／或低聚物和／或聚合物，各自包括至少一个可供自由基聚合的烯属不饱和基团，（ｉｉ）至少一种感光剂，在至少一种助引发剂的存在下，在用波长３００到＜４８０ｎｍ 或＞７５０到１，１００ｎｍ的辐射照射时该感光剂引发组分（ｉ）的自由基聚合；和（ｉｉｉ）至少一种具有酸性官能团的粘结剂，并且该组合物对４８０－７５０ｎｍ的波长范围基本上不感光；（ｃ）取决于所使用的感光剂或引发剂体系，所得阴图制版平版印版前体用选自波长范围为３００到＜４８０ｎｍ 或＞７５０到１，１００ｎｍ的辐射中的辐射成像曝光；和（ｄ）通过用ｐＨ值为 ９－１４的碱性显影剂处理而除去未照射区，该碱性显影剂包括：（ｉ）水，（ｉｉ）其量足以将ｐＨ值调节在９－１４范围内的一种或多种碱金属氢氧化物，和（ｉｉｉ）１－３０ｗｔ％的至少一种式（Ⅰ）的化合物，其中Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］各自独立地选自Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷基和芳基，Ｘ选自－ＣＨ＝ＣＨ－，－Ｃ≡Ｃ－，式（Ⅱ）、式（Ⅲ）和式（Ⅳ），ｎ＋ｍ为２－３０的值，ｐ＋ｑ为０－３０的值，其中在ｐ＋ｑ≠０的情况下，氧化乙烯和氧化丙烯单元作为嵌段存在或无规分布。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。本专利技术此外涉及根据该方法制 造的印版。
技术介绍
平版印刷以油和水的不混溶性为基础，其中油性材料或印刷油墨 优选被图像区所接受，而水或润版药水优选被非图像区所接受。当适 当形成的表面用水润湿并施用印刷油墨时，背景或非图像区接受水并 排斥印刷油墨，而图像区接受印刷油墨并排斥水。图像区中的印刷油 墨然后转移到材料如纸张、织物等的表面上，在该表面上形成了图像。然而，印刷油墨通常首先转移到称之为橡皮布(blanket)的中间材料上， 然后印刷油墨被转移到所要形成图像的材料的表面上；该技术被称为 平版J交印术。通常使用的一类平版印版前体包括施涂于铝基底材上的光敏涂 层。该涂层能够对辐射起反应，使得曝光部分被溶解，在显影过程中 被除去。这种印版被称为阳片版。另一方面，如果涂层的曝光部分被 辐射所硬化，那么该印版被称为阴片版。在两种情况下，保留的图像 区接受印刷油墨，即，是亲油性的，而非图像区(背景)接受水，即， 是亲水性的。图像区和非图像区之间的差别在曝光期间产生，为此， 将薄膜在真空下-以便保证良好的接触-附着于印版前体上。该印版 然后用辐射源来曝光。当使用阳片版时，对应于印版上图像的薄膜上 的区域是不透明的，光不能达到印版，而对应于非图像区的薄膜上的 区域是透明的，允许光透过该涂层，其溶解性增高。在阴片版的情况 下，发生了相反的情况对应于印版上的图像的薄膜上的区域是透明 的，而非图像区是不透明的。透明薄膜区域下的涂层由于入射光而被 硬化，而光未达到的区域在显影过程中被除去。阴片版的光硬化表面 因此是亲油性的，接受印刷油墨，而通常用通过显影剂除去的涂层涂 布的非图像区感光性降低，因此是亲水性的。另外，印版还可以数字曝光，不用薄膜，例如用紫外激光器。 光敏混合物已经在光聚合组合物中使用多年了 ，用于制备光敏材 泮牛，例如印片反前体。然而，新的、先进的应用(例如用激光曝光)需要改进的感光性， 尤其在紫外线和可见光谱范围内的改进的感光性。此外，印版应该在 印刷过程中转印一致的色调值，并且在印刷时没有调色的倾向性。试 验表明，这些性能很大程度受用于显影的液体类型的影响。因此，对 改进的印版显影剂具有很高的要求。文献DE 32 23 386A1描述了包括重氮邻萘醌的阳图制版辐射感光 涂层的显影方法。用于该目的的显影剂例如包括表面活性剂乙氧基化 烷烃二醇。该显影剂的目的是防止重氮邻萘醌所需的显影剂的高碱度 而造成的对底材表面的侵袭。文献EP-A1-1 115 035和US 6,455,234 Bl描述了烷氧基化炔二 醇，它们在半导体的生产过程中作为表面活性剂引起了显影剂的低表 面张力，同时减少了发泡。水性光刻胶显影剂包括10 - 10,000ppm的 烷氧基化衍生物以及0.1 - 3wt。/。的四曱基氢氧化铵。已经发现，这种 显影剂在平版印版中导致了强烈的网点锐化。EP-A2-1 253 472公开了用于感红外光的阳图制版平版印版前体的 碱性显影剂，例如包括硅酸盐或非还原糖和炔二醇或其乙氧基化衍生 物。已经发现，使用硅酸盐获得了在印刷期间具有调色倾向性的印版； 此外，使用还原糖导致了显影机的淤泥形成。EP-A1-0 732 628描述了包含碱金属硅酸盐或偏硅酸盐、非离子表 面活性剂和阴离子或两性表面活性剂的含水碱性显影剂。给出了许多 非离子表面活性剂的实例，尤其乙氧基化四甲基癸炔二醇。然而，已 经发现，使用这种显影剂导致了印刷过程中的调色问题。JP2000-056480描述了除了水以外包括羟基胺、pKa=7.5-13、水溶 性有机溶剂和炔属醇/环氧烷加合物的光刻胶剥离剂。然而，已经发现， 这些溶液导致了平版印版的强烈的网点锐化。DE 44 11 176A1涉及包括碱金属硅酸盐和糖醇的水溶性环氧乙烷 加合物的预感光平版印版的显影剂。在文献EP-A1-1 199 606中，除了无机^喊试剂以外还包括携带聚氧化烯醚基的非离子表面活性剂的显影剂溶液用于显影阴图制版平版印版前体。EP 1 353 235A1, US 6,686,126B2, EP1 172 699A1, US 3,586,504, EP 1 346 843A1和US 6,641,980B2描述了具有包括聚氧化 亚烷基醚基的非离子表面活性剂的其它显影剂。US 4,098,712公开了可以包括聚乙二醇的烷基醚和烷芳基醚作为 表面活性剂的碱性显影剂溶液。US 4,959,296描述了制备不用润版药水印刷的平版印版的显影 剂；这些显影剂可以包括具有聚氧化乙烯单元的非离子表面活性剂。文献EP 0 111 136A2和EP 0 269 760A1描述了用于胶印的润版药 水组合物；这些组合物例如可以包括2,4,7，9-四曱基-5-癸炔-4,7-二醇 的乙氧基化产物作为润湿剂。US 2004/0,053,172A1提出了烷氧基化炔二醇的溶液，用于改进涂 布之前的底材的表面润湿能力。文献JP 08-286386和JP2000-194135描述了在照射时释放酸的组 分以及被酸^ 皮坏和因此在显影剂中变得可溶的树脂的正性光刻胶组合 物。包括具有乙炔-聚氧化乙烯结构的表面活性剂的四甲基氢氧化铵的 溶液用作显影剂；这种显影剂在JP10-171128中也有述。JP2003-162072描述了包括在辐射感光涂层中包含二茂钛引发剂 的阴图制版平版印版前体。用于这些前体的显影剂包括几种碱试剂以 及炔醇和/或炔二醇与聚氧化烯醚表面活性剂。EP 1 260 867A1描述了包括非离子表面活性剂的阴图制版的感红 外涂层的显影剂；所列举的表面活性剂包括聚氧化烯单元。US 6,638,687B2和EP 1 213 619A1描述了阴图制版平版印版前 体，其涂层包括难以生产和因此昂贵的特殊尿烷粘结剂。用于这些前 体的显影剂包括具有聚氧化烯醚基的非离子表面活性剂。WO 02/31599描述了用于阴图制版平版印版前体的水性显影剂， 包括一种或多种阻光染料或者一种或多种自由基抑制剂。借助于这些 组分，可以大大减少或防止显影机中的淤泥形成。DE 198 45 605A1涉及包括两性表面活性剂、阴离子表面活性剂、 络合剂、氨基醇和N-烷氧基化单官能或多官能胺的碱性含水显影剂浓 缩物。根据该文件，显影剂可以由该浓缩物制备，该浓缩物适合于印版前体等的阳图制版、阴图制版和逆转法涂布，并且不会导致显影机 中淤泥形成。EP 0 080 042A1 ^^开了具有酸值为10 - 200的高分子有机聚合物和重氮树脂的光硬化涂层的显影剂；该显影剂包括有机溶剂、碱试剂、 表面活性剂和水软化剂；聚二醇烷基苯基醚和聚二醇烷基醚例如作为非离子表面活性剂提到。水软化剂用于防止显影机中淤泥形成。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供，该平版印版允许高显影速度，在显影机中不形成或很少形成淤泥；同时，当印版用于印刷 时不出现调色问题，并且相对网点4兌化应该是低的。此外，该印版前 体应表现黄光稳定性，在该方法中使用的显影剂不应侵袭泵阀的密 封。还有，显影剂应需要尽可能少的组分。本专利技术的目的通过一种来达到，该方法包括(a) 提供具有亲水性表面的平版底材，以及(b) 将阴图制版辐射感光组合物施涂于该亲水性表面上，其中该 组合物包括(i) 本文档来自技高网...
【技术保护点】
制造平版印版的方法，该方法包括： （ａ）提供具有亲水性表面的平版底材， （ｂ）将阴图制版辐射感光组合物施涂于该亲水性表面上，其中该组合物包括： （ｉ）一种或多种类型的单体和／或低聚物和／或聚合物，各自包括至少一个可供自由基聚合的烯属不饱和基团， （ｉｉ）至少一种感光剂，在至少一种助引发剂的存在下，在用波长３００到＜４８０ｎｍ或＞７５０到１，１００ｎｍ的辐射照射时该感光剂引发组分（ｉ）的自由基聚合；和 （ｉｉｉ）至少一种具有酸性官能团的粘结剂，并且该组合物对４８０－７５０ｎｍ的波长范围基本上不感光； （ｃ）取决于所使用的感光剂或引发剂体系，所得阴图制版平版印版前体用选自波长范围为３００到＜４８０ｎｍ或＞７５０到１，１００ｎｍ的辐射中的辐射成像曝光；和 （ｄ）通过用ｐＨ值为９－１４的碱性显影剂处理而除去未照射区，该碱性显影剂包括： （ｉ）水 （ｉｉ）其量足以将ｐＨ值调节在９－１４范围内的一种或多种碱金属氢氧化物，和 （ｉｉｉ）１－３０ｗｔ％的至少一种式（Ⅰ）的化合物： ＊＊＊ （Ⅰ） 其中Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］各自独立地选自Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１２］烷基和芳基， Ｘ选自－ＣＨ＝ＣＨ－，－Ｃ≡Ｃ－，＊＊＊和＊＊＊ ｎ＋ｍ为２－３０的值， ｐ＋ｑ为０－３０的值，其中在ｐ＋ｑ≠０的情况下，氧化乙烯和氧化丙烯单元作为嵌段存在或无规分布。...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：H鲍曼，U费巴希，U德瓦斯，B施特雷梅尔，M弗卢格尔，HJ廷珀，
申请(专利权)人：柯达彩色绘图有限责任公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]
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