【技术实现步骤摘要】
本专利技术是与图案的修补技术有关，特别是指通过激光及热转印的方式 来修补图案的一种。
技术介绍
按，已知的图案修补技术，例如中国台湾公告第1286271号修补图 案的缺陷与修补图案的缺陷的方法专利技术专利，其揭露出利用压膜工艺来 将一薄膜转印于一图案以及该图案所具有的缺陷上，再将位于缺陷上的薄 膜去除，并对该缺陷以一修补涂料涂布之，进行固化后，再将薄膜移除， 即完成修补的技术。然而，上述的技术中，在修补时，会有一些缺点有待改进。例如在去 除缺陷上的薄膜时，不大容易刚好把薄膜去除得与缺陷的形状完全相同。 因此在涂布修补涂料时，很有可能造成涂料无法完全覆盖缺陷。或是例如 在移除薄膜时，是使用撕的方式来将薄膜撕下，此亦可能会损坏该图案上的其它正常部位。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种，其可完整修复待修补 图案上的瑕疵点。本专利技术的次一目的在于提供一种，其修补的过程中不会 有损坏其它正常部位的可能性。缘是，为了达成前述目的，依据本专利技术所提供的一种，包含有备置一基材，该基材上具有待修补图案，该待修补图案具有待修补的瑕疵点；以激光光将该瑕疵点打掉，而使该...
【技术保护点】
一种图案修补方法，其特征在于，包含有： 备置一基材，该基材上具有待修补图案，该待修补图案具有待修补的瑕疵点； 以激光光将该瑕疵点打掉，而使该待修补图案的被打掉的部位形成一待修补区； 以热压方式将一修补层转印于该待修补区上， 且该修补层覆盖于该待修补图案以及该待修补区； 以紫外线对该修补层于该待修补区内进行曝光；以及 移除未被曝光的该修补层。
【技术特征摘要】
1.一种图案修补方法，其特征在于，包含有备置一基材，该基材上具有待修补图案，该待修补图案具有待修补的瑕疵点；以激光光将该瑕疵点打掉，而使该待修补图案的被打掉的部位形成一待修补区；以热压方式将一修补层转印于该待修补区上，且该修补层覆盖于该待修补图案以及该待修补区；以紫外线对该修补层于该待修补区内进行曝光；以及移除未被曝光的该修补层。2. 依据权利要求1所述的图案修补...
【专利技术属性】
技术研发人员：苏荣瑞，王聪谕，蔡孟道，
申请(专利权)人：东捷科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]
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