【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光照射装置以及光照射方法。
技术介绍
1、为了提高形成抗蚀剂图案后的制造工序中的抗蚀剂的耐热性等性能，提出有一种方法，包括：第1照射工序，在对形成于基板的抗蚀剂膜进行曝光之后，使通过显影形成的预图案硬化的工序中，用紫外线以及可见光线中的使波长小于330nm的区域衰减后的光来照射预图案；以及第2照射工序，在第1照射工序之后，用包含紫外线以及可见光线这两方的光来照射预图案(例如参照专利文献1)。
2、另外，为了提高形成抗蚀剂图案后的制造工序中的抗蚀剂的耐热性等性能，在对形成于基板的抗蚀剂膜进行曝光之后，使抗蚀剂材料硬化时，照射紫外线。此时使具备照射紫外线的光源的照射单元相对基板移动的结构被公开(例如参照专利文献2)。由此，一边使光源相对基板移动，一边进行形成于基板上的抗蚀剂膜的扫描曝光。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开2022-93112号公报
6、专利文献2：日本特开2017-37169号公报
技术实现思路>
1、本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种光照射装置，具备：
2.根据权利要求1所述的光照射装置，其中，
3.根据权利要求1或者2所述的光照射装置，其中，
4.根据权利要求1或者2所述的光照射装置，其中，
5.根据权利要求1或者2所述的光照射装置，其中，
6.根据权利要求5所述的光照射装置，其中，
7.根据权利要求1或者2所述的光照射装置，其中，
8.根据权利要求7所述的光照射装置，其中，
9.根据权利要求1或者2所述的光照射装置，其中，
10.根据权利要求1或者2所述的光照射装置，其中，>
11.根据权...
【技术特征摘要】
1.一种光照射装置，具备：
2.根据权利要求1所述的光照射装置，其中，
3.根据权利要求1或者2所述的光照射装置，其中，
4.根据权利要求1或者2所述的光照射装置，其中，
5.根据权利要求1或者2所述的光照射装置，其中，
6.根据权利要求5所述的光照射装置，其中，
7.根据权利要求1或者2所述的光照射装置，其中，
<...【专利技术属性】
技术研发人员：丸山健治，末兼大輔，稲尾吉浩，
申请(专利权)人：艾美柯技术株式会社，
类型：发明
国别省市：
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