本发明专利技术提供微细结构转印装置以及微细结构转印方法，能够在片状体(膜)上固定多个复制品。微细结构转印装置(1)具备：卷绕具有挠性的片状体(4)并对该片状体(4)进行开卷的开卷机(5)；卷绕经由多个导辊(3)输送的片状体(4)的卷绕机(6)；配置在开卷机(5)与卷绕机(6)之间，并载置在形成有微细凹凸图案的表面涂敷有光固化性树脂的模型(14)的载置台(11)；从上方将片状体(4)按压于模型(14)，并且至少在模型(14)的两端部之间往复移动的压印辊(2)；以及向被按压于模型(14)的片状体(4)照射紫外光的固化光照射器(8)，在片状体(4)上连续地固定多个复制品(20)。个复制品(20)。个复制品(20)。
【技术实现步骤摘要】
微细结构转印装置以及微细结构转印方法
[0001]本专利技术涉及使用在表面形成有纳米级等的微细凹凸图案的模型在基板上反转转印微细结构的微细结构转印装置以及微细结构转印方法。
技术介绍
[0002]作为用于制造半导体的曝光装置等的微细加工技术的紫外线/电子束光刻，设备价格高且工艺复杂，在制造所花费的时间和成本的改善等方面存在问题，随着将形成有微细凹凸图案的模型(也被称为压模或模板等)直接转印到树脂材料等的纳米压印光刻(Nanoimprint Lithography，以下称为NIL)技术的进展，能够通过简单的装置和工艺容易地实现10nm～数100nm级的微细图案，在装置价格、量产中的成本方面优势提高。例如，在专利文献1中，公开了针对模型利用无电解镀覆法对形成于模型的表面的微细凹凸图案进行反转转印而得到的微细结构体。尤其是，在专利文献1中记载有如下内容：在所得到的微细结构体的上表面(与形成有微细凹凸图案的面相反的一侧的面)配置缓冲材料，在微细凹凸图案的表面涂敷剥离剂而形成压模。
[0003]另外，在专利文献2中提出了如下的NIL装置：为了改善加热加压转印中的升温、冷却循环所花费的时间，使保持基板加压面的部位的截面积比压模的基板加压面的截面积小。在专利文献3中公开了如下的NIL装置：通过设置具备临时载置基板的临时载置面并使其逐渐移动至基板载置面的临时载置部件，从而能够防止基板与基板载置台之间的空隙导致的错位，实现高精度的转印。
[0004]在专利文献4中提出了如下的辊对辊方式的NIL装置：以更高精度的转印为目的，在加热加压时能够依次更换缓冲材料。
[0005]另外，在专利文献5中公开了如下方式的NIL装置：以提高生产率并降低量产成本为目的，利用多级地设置的辊将压模加热加压于树脂层并进行转印，以使得即便转印辊的旋转速度上升也能够正确且高精度地进行图案转印。
[0006]另外，作为使用光固化性树脂的NIL装置，例如，在专利文献6中公开了如下的NIL装置：将模型按压于使用了由紫外线固化性树脂构成的薄膜的工件而进行压缩成形，照射紫外光进行图案转印，其中，作为紫外光的光源，通过使用不与紫外光同时连续地放射热线的光源，来抑制温度上升。另外，在专利文献7中公开了如下的NIL装置：通过辊对辊方式，送出具有粘接固定有透明膜的光固化性转印层的光固化性转印片，在使光固化性转印层露出后，利用压模进行按压，利用UV灯进行光照射，转印压模的微细凹凸图案。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1：日本特开2005-189128号公报
[0010]专利文献2：日本特开2004-288784号公报
[0011]专利文献3：日本特开2006-62208号公报
[0012]专利文献4：日本特开2004-288804号公报
[0013]专利文献5：日本特开2006-326948号公报
[0014]专利文献6：WO2009/110596号公报
[0015]专利文献7：日本特开2011-66100号公报
[0016]专利技术要解决的课题
[0017]在上述专利文献1至专利文献6公开的NIL装置中，是使用模型将基板按每一张进行压印的结构。但是，由于是与模型直接接触的压制方式，因此，有可能导致由材料或异物向模型的附着引起的模型的损伤。模型制造所涉及的费用非常昂贵，并且模型制造时间也需要长时间，因此，需要将模型的使用次数限制在最小限度。另外，有可能因模型的换产调整时的模型的落下或碰撞等而产生模型的破损或缺损。
[0018]因此，使用如下方法：不在生产中使用高价的母模，而通过母模利用柔软材料来形成复制模，并通过复制模进行生产。但是，虽然复制模的更换频率因产品或材料而不同，但需要每几百次进行更换，在复制模(以下，称为复制品)的更换和准备作业中需要耗费时间，因此，期望降低准备成本。
[0019]另外，在上述专利文献7公开的NIL装置中，是如下结构：在使用模型形成中间压模(复制品)后，对中间压模进行间距输送，利用中间压模将基板按每一张进行压印。因此，高价的模型是始终配置在具有光固化性转印层的光固化性转印片的下部的结构，所述光固化性转印层粘接固定有形成有中间压模的透明膜，因此，有可能因从光固化性转印片落下的异物等而损伤模型。
[0020]进而，随着近年来的智能手机、平板终端等比较小型的显示器的急剧普及，期望液晶面板等的制造装置以更高的生产率进行制造。另外，在电视用的显示面板等中，画面大型化和高分辨率化加速，期望更高精细的下一代显示器。
技术实现思路
[0021]因此，本专利技术提供能够在片状体(膜)上固定多个复制品的微细结构转印装置以及微细结构转印方法。另外，本专利技术提供能够使用在上述片状体(膜)上连续的多个复制品连续地在基板上进行图案形成的微细结构转印装置以及微细结构转印方法。
[0022]用于解决课题的方案
[0023]为了解决上述课题，本专利技术的微细结构转印装置的特征在于，具备：开卷机，所述开卷机卷绕具有挠性的片状体并对该片状体进行开卷；卷绕机，所述卷绕机卷绕经由多个导辊输送的所述片状体；载置台，所述载置台配置在所述开卷机与所述卷绕机之间并载置模型，所述模型在形成有微细凹凸图案的表面涂敷有光固化性树脂；压印辊，所述压印辊从上方将所述片状体按压于所述模型，并且至少在所述模型的两端部之间往复移动；以及固化光照射器，所述固化光照射器向被按压于所述模型的所述片状体照射固化光，在所述片状体上连续地固定多个复制品。
[0024]另外，本专利技术的微细结构转印装置的特征在于，所述压印辊隔着所述片状体将固定于所述片状体的多个复制品中的一个复制品按压于基板，并且至少在所述基板的两端部之间往复移动，所述基板载置于所述载置台并在表面涂敷有所述光固化性树脂，所述固化光照射器经由被所述压印辊按压的所述片状体以及所述复制品向涂敷有所述光固化性树脂的基板照射固化光，在所述光固化性树脂固化后，利用所述压印辊将所述片状体剥离，从
而转印所述复制品的微细凹凸图案。
[0025]本专利技术的微细结构转印装置的特征在于，具备所述多个导辊中的第一导辊和第二导辊，所述第一导辊在所述片状体的输送方向上与所述压印辊相邻且位于上游侧，所述第二导辊在所述片状体的输送方向上与所述压印辊相邻且位于下游侧，所述第二导辊在所述压印辊按压所述片状体并移动的情况下，相比所述压印辊位于上方，与所述压印辊一起等速地移动。
[0026]另外，本专利技术的微细结构转印装置的特征在于，具备膜夹持件，在所述压印辊按压所述片状体并移动的情况下，所述膜夹持件在所述模型或所述基板的端部中的在所述片状体的输送方向上位于上游侧的端部夹持所述片状体。
[0027]进而，本专利技术的微细结构转印装置的特征在于，所述固化光照射器位于所述压印辊与所述第一导辊之间，在所述压印辊按压所述片状体并移动的情况下，所述固化光照射器照射固化光并以追随所述压印辊和所述第二导辊的方式向下游侧移动。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种微细结构转印装置，其特征在于，所述微细结构转印装置具备：开卷机，所述开卷机卷绕具有挠性的片状体并对该片状体进行开卷；卷绕机，所述卷绕机卷绕经由多个导辊输送的所述片状体；载置台，所述载置台配置在所述开卷机与所述卷绕机之间并载置模型，所述模型在形成有微细凹凸图案的表面涂敷有光固化性树脂；压印辊，所述压印辊从上方将所述片状体按压于所述模型，并且至少在所述模型的两端部之间往复移动；以及固化光照射器，所述固化光照射器向被按压于所述模型的所述片状体照射固化光，在所述片状体上连续地固定多个复制品。2.如权利要求1所述的微细结构转印装置，其特征在于，所述压印辊隔着所述片状体将固定于所述片状体的多个复制品中的一个复制品按压于基板，并且至少在所述基板的两端部之间往复移动，所述基板载置于所述载置台并在表面涂敷有所述光固化性树脂，所述固化光照射器经由被所述压印辊按压的所述片状体以及所述复制品向涂敷有所述光固化性树脂的基板照射固化光，在所述光固化性树脂固化后，利用所述压印辊将所述片状体剥离，从而转印所述复制品的微细凹凸图案。3.如权利要求1或2所述的微细结构转印装置，其特征在于，所述微细结构转印装置具备所述多个导辊中的第一导辊和第二导辊，所述第一导辊在所述片状体的输送方向上与所述压印辊相邻且位于上游侧，所述第二导辊在所述片状体的输送方向上与所述压印辊相邻且位于下游侧，所述第二导辊在所述压印辊按压所述片状体并移动的情况下，相比所述压印辊位于上方，与所述压印辊一起等速地移动。4.如权利要求3所述的微细结构转印装置，其特征在于，所述微细结构转印装置具备膜夹持件，在所述压印辊按压所述片状体并移动的情况下，所述膜夹持件在所述模型或所述基板的端部中的在所述片状体的输送方向上位于上游侧的端部夹持所述片状体。5.如权利要求4所述的微细结构转印装置，其特征在于，所述固化光照射器位于所述压印辊与所述第一导辊之间，在所述压印辊按压所述片状体并移动的情况下，所述固化光照射器照射固化光并以追随所述压印辊和所述第二导辊的方式向下游侧移动。6.如权利要求4所述的微细结构转印装置，其特征在于，所述固化光照射器位于所述压印辊与所述第一导辊之间，在所述压印辊按压所述片状体并与所述第二导辊一起等速地向下游侧移动后，所述固化光照射器照射固化光并向下游侧移动。7.如权利要求5所述的微细结构转印装置，其特征在于，所述微细结构转印装置具有在所述模型以及/或者所述基板上涂敷所述光固化性树脂的光固化性树脂涂敷机构。8.如权利要求6所述的微细结构转印装置，其特征在于，所述微细结构转印装置具有在所述模型以及/或者所述基板上涂敷所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：中山幸德，今井裕晃，岸村敏治，中泽良仁，渡濑直树，
申请(专利权)人：艾美柯技术株式会社，
类型：发明
国别省市：
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