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提供一种光照射装置以及光照射方法。高效地形成抗蚀剂图案。光照射装置(1)具备：光照射单元(5)，在内部具备光源(52)，一边在形成于基板(100)上的抗蚀剂膜的上方移动一边对抗蚀剂膜照射来自光源(52)的光；以及滤光片单元(6)，保持选择来...
该专利属于艾美柯技术株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过艾美柯技术株式会社授权不得商用。

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