一种五层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术公开了一种五层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片（１），在玻璃基片（１）表面上从底层向上依次镀有铬膜层（２）、银膜层（３）、镍铬膜层（４），在镍铬膜层（４）表面镀有一层氧化锡膜层（５），在氧化锡膜层（５）表面镀有一层氮化硅膜层（６），从而构成五层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，采用上述结构，第一层膜采用铬膜，既可以利用铬膜反射率高，膜层亮度高的优点，又可以利用铬膜溅射效率高，需要的膜层厚度薄的优点；第四层膜采用氧化锡膜、第五层采用氮化硅膜，既可以利用氧化锡膜沉积效率高，价格便宜的优点，又可以利用氮化硅膜结构紧密，耐磨、耐腐蚀性能好的优点。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术属于一种镀膜玻璃，主要涉及一种五层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面沉积一层高红外线反射材料(金属银),使玻璃吸收太阳光光谱中的红外线和其它物体发出的红外线非常少，玻璃自身又不存储能量，因此镀膜玻璃向外辐射的红外线也非常少，称为低辐射镀膜玻璃。该玻璃用于窗户上，可有效地阻挡太阳光中的红外线进入室内，降低夏天室内温度，节约空调制冷费用，冬天可以阻挡室内物体发出的红外线被玻璃吸收，散发到室外，提高室内温度，节约取暖费用。现在市场上已经有很多种低辐射镀膜玻璃产品，第一层膜有用氧化锡的，也有用氧化锌的，第二层膜都是银膜，也有前面加一层镍铬膜的结构，第三层都用镍铬层，第四层主要为保护膜， 一般采用氧化锡或氧化锌作保护膜，虽然氧化锡或氧化锌沉积效率高、价格便宜，但其保护作用差，耐磨、耐腐蚀性能不好。
技术实现思路
本技术目的是提供一种五层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃，使其具有成本低，耐磨、耐腐蚀性能好的优点。本技术的目的可采用如下技术方案来实现其具有玻璃基片，在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有铬膜层、银膜层、镍铬膜层，在镍铬膜层表面镀有一层氧化锡膜层，在氧化锡膜层表面镀有一层氮化硅膜层，从而构成五层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，第一层膜采用铬膜，即可以利用铬膜反射率高，膜层亮度高的优点，又可以利用铬膜溅射效率高，需要的膜层厚度薄的优点；第四层膜采用氧化锡膜、第五层采用氮化硅膜，即可以利用氧化锡膜沉积效率高，价格便宜的优点，又可以利用氮化硅膜结构紧密，耐磨、耐腐蚀性能好的优占。附图说明附图1为本技术的具体结构示意图。图中1、玻璃基片，2、铬膜层，3、银膜层，4、镍铬膜层，5、氧化锡膜层，6、氮化硅膜层。具体实施方式结合附图，说明本技术的具体实施例。如附图l所示其具有玻璃基片l，在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有铬膜层2、银膜层3、镍铬膜层4，在镍铬膜层表面镀有一层氧化锡膜层5，在氧化锡膜层表面镀有一层氮化硅膜层6，从而构成五层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃。本技术是在真空环境下，通过磁控溅射在玻璃表面沉积五层膜的方法，生产一种红外线辐射率很低的镀膜玻璃。所述的低辐射镀膜玻璃是在镀膜室抽真空至1. 1X10—4Pa以下，充入工艺气体(氧气或氮气或氩气)，使镀膜室压力稳定在0.3Pa左右，将溅射源送电，靶材开始溅射，送入玻璃将耙材原子或其化合物沉积到玻璃表面。第一个镀膜室充入氩气，耙材为铬耙，将金属铬膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度1至10纳米，第二个镀膜室充入氩气，靶材为银靶，在氧化锡上面沉积第二层银膜，厚度8至20纳米;第三个镀膜室充入氩气，靶材为镍铬耙，在银膜上沉积第三层镍铬膜，厚度3至10纳米；第四个镀膜室充入氧气，靶材为锡靶，在镍铬膜上沉积第四层氧化锡膜，厚度15至30纳米；第五个镀膜室充入氮气，靶材为硅耙，在氧化锡膜上沉积第五层氮化硅膜，厚度15 30纳米。第一层膜采用铬膜，即可以利用铬膜反射率高，膜层亮度高的优点，又可以利用铬膜溅射效率高，需要的膜层厚度薄的优点；第四层氧化锡膜和第五层氮化硅膜都起保护银膜和镍铬膜的作用，提高膜层的耐磨性能和耐氧化、耐腐蚀性能。采用该结构，即可以利用氧化锡膜沉积效率高，价格便宜的优点，又可以利用氮化硅膜结构紧密，耐磨、耐腐蚀性能好的优点。权利要求1、一种五层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，在玻璃基片(1)表面上从底层向上依次镀有铬膜层(2)、银膜层(3)、镍铬膜层(4)，其特征是在镍铬膜层(4)表面镀有一层氧化锡膜层(5)，在氧化锡膜层(5)表面镀有一层氮化硅膜层(6)，从而构成五层膜结构的低辐射镀膜玻璃。专利摘要本技术公开了一种五层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，在玻璃基片(1)表面上从底层向上依次镀有铬膜层(2)、银膜层(3)、镍铬膜层(4)，在镍铬膜层(4)表面镀有一层氧化锡膜层(5)，在氧化锡膜层(5)表面镀有一层氮化硅膜层(6)，从而构成五层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，采用上述结构，第一层膜采用铬膜，既可以利用铬膜反射率高，膜层亮度高的优点，又可以利用铬膜溅射效率高，需要的膜层厚度薄的优点；第四层膜采用氧化锡膜、第五层采用氮化硅膜，既可以利用氧化锡膜沉积效率高，价格便宜的优点，又可以利用氮化硅膜结构紧密，耐磨、耐腐蚀性能好的优点。文档编号C03C17/36GK201268658SQ20082014822公开日2009年7月8日 申请日期2008年7月28日 优先权日2008年7月28日专利技术者张珮珮, 杨真理, 王秀丽, 明 郭 申请人:洛阳新晶润工程玻璃有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种五层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片（１），在玻璃基片（１）表面上从底层向上依次镀有铬膜层（２）、银膜层（３）、镍铬膜层（４），其特征是：在镍铬膜层（４）表面镀有一层氧化锡膜层（５），在氧化锡膜层（５）表面镀有一层氮化硅膜层（６），从而构成五层膜结构的低辐射镀膜玻璃。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郭明，王秀丽，杨真理，张珮珮，
申请(专利权)人：洛阳新晶润工程玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：41[中国|河南]