溅射靶材的表面处理方法技术

本发明专利技术提供一种溅射靶材的表面处理方法，包括：提供溅射靶材，所述溅射靶材为铝或铝合金；对所述溅射靶材的表面进行车床加工，并在车屑过程中采用酒精冷却；采用抛光件对车屑后的溅射靶材进行抛光。与现有技术相比，本发明专利技术可以及时冷却车床加工过程中产生的热量，使得车床加工时较少或不产生积屑，避免了积屑对溅射靶材表面造成损伤，提高了溅射靶材表面的平整度和光洁度，制作出符合工艺要求的溅射靶材产品。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及靶材制造领域，尤其涉及溅射靶材的表面处理方法。
技术介绍
物理气相沉积(Physical Vapor Deposition；PVD)是半导体芯片和TFT-LCD生产过程中最关键的工艺之一，PVD用溅射金属溅射靶材是半导体芯片生产、薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display；TFT-LCD)设备和薄膜太阳能电池等制造加工过程中最重要的原材料之一，其中用量最大的是超高纯铝和超高纯铝合金溅射靶材。为了满足溅射的要求，溅射靶材表面的光洁度必须很高，例如无划伤、无凹坑等。溅射靶材表面的光洁度对所镀薄膜质量稳定的重要保证。以常用的铝或铝合金溅射靶材(以下简称为铝溅射靶材)为例，在现有技术中，对于铝溅射靶材表面的处理采用的是普通车屑的方法。具体来讲，使用车刀工作时，进刀约0.1毫米至0.5毫米，从右向左或从左向右移动，并同时施加起润滑和冷却作用的皂化液或铝切屑液，从所述铝溅射靶材上车下车屑，如此往复操作，获得表面光滑的铝溅射靶材产品。但在上述车屑加工过程中，车刀会与待加工的铝溅射靶材之间会产生热量，而所述皂化液或铝切本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种溅射靶材的表面处理方法，其特征在于，所述方法包括：提供溅射靶材，所述溅射靶材为铝或铝合金；对所述溅射靶材的表面进行车床加工，并在车屑过程中采用酒精冷却；采用抛光件对所述车屑后的溅射靶材的表面进行抛光。

【技术特征摘要】
1.一种溅射靶材的表面处理方法，其特征在于，所述方法包括：提供溅射靶材，所述溅射靶材为铝或铝合金；对所述溅射靶材的表面进行车床加工，并在车屑过程中采用酒精冷却；采用抛光件对所述车屑后的溅射靶材的表面进行抛光。2.根据权利要求1所述的溅射靶材的表面处理方法，其特征在于，所述溅射靶材为管状或板状。3.根据权利要求1所述的溅射靶材的表面处理方法，其特征在于，所述溅射靶材中铝的纯度大于99.9％。4.根据权利要求1所述的溅射靶材的表面处理方法，其特征在于，所述在车屑过程中采用酒精冷却具...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，王学泽，汪涛，刘庆，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：33[中国|浙江]