浮动式双轴同动机构制造技术

本发明专利技术一种浮动式双轴同动机构，包含有：一工作平台；二位移装置分别设于该工作平台两侧，该二位移装置可沿一Ｘ轴方向同步位移，各该位移装置具有一凹部，该凹部沿该Ｘ轴方向定义出一承载区以及二限位区，该承载区提供至少一垂直气流，该二限位区位于该承载区两侧，各该限位区提供至少一水平气流；一承台具有二端部且分别置于该二位移装置的凹部，该端部可受该承载区的垂直气流推移而漂浮于该承载区顶侧，各该端部可受该限位区的水平气流推移而可沿该Ｘ轴方向位移。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及激光修补机，特别是有关于一种用于激光修补机的浮动式 双轴同动机构。
技术介绍
现有技术的用于激光修补机的输送机构，其具有一平台、 一承台以及 二位移装置；该等位移装置分别位于该承台两端底侧且设于该平台与该承 台之间；通过此，该承台透过该等位移装置同步带动，以达到沿一X轴方 向位移的目的。然而，由于该承台可能因重量分布不平均而有重心偏移的现象，该二 位移装置实际上无法真正完全同步起动；当该二位移装置起步时间的时间 差距较大时，该承台会因为受到该二位移装置的先后带动而对该承台形成 拉扯作用；如此一来，该承台两端将会因起步瞬间的受力不平均而可能造 成卡死的情形，致使该承台无法沿轨道正常位移。综上所陈，现有技术用于激光修补机的输送机构具有上述的缺失而有 待改进。
技术实现思路
本专利技术的主要目的在于提供一种浮动式双轴同动机构，其能够克服因 起步时间不同步而可能造成卡死的情形，具有确保位移装置正常位移的特 色。为达成上述目的，本专利技术所提供一种浮动式双轴同动机构，包含有 一工作平台；二位移装置分别设于该工作平台两侧，该二位移装置可沿一 X轴方向同步位移，各该位移装置具有一凹部，该凹部沿该X轴方向定义 出一承载区以及二限位区，该承载区提供至少一垂直气流，该二限位区位 于该承载区两侧，各该限位区提供至少一水平气流； 一承台具有二端部且分别置于该二位移装置的凹部，该端部可受该承载区的垂直气流推移而漂 浮于该承载区顶侧，各该端部可受该限位区的水平气流推移而可沿该x轴 方向位移。通过此，本专利技术的浮动式双轴同动机构透过上述结构，其能够运用气体静压轴承(aerostatic bearing)的原理使该二位移装置的凹部与该承台 的端部保持间隙而形成缓冲距离，用以容许该二位移装置因起步时间不同 步而造成的误差；其相较于现有技术，本专利技术能够克服该二位移装置因起 步时间不同步而造成卡死的问题，具有确保该二位移装置正常位移的特 色。为了详细说明本专利技术的结构、特征及功效所在，兹举以下较佳实施例并配合图式说明如后，其中 附图说明图1为本专利技术一较佳实施例的立体图；图2为本专利技术一较佳实施例的组件分解图；图3为本专利技术一较佳实施例的顶侧视图，主要揭示位移装置及承台之 间的结构；图4为本专利技术一较佳实施例的前侧视图，主要揭示位移装置及承台之 间的结构；图5为本专利技术一较佳实施例的右侧视图，主要揭示位移装置及承台之 间的结构；图6为本专利技术一较佳实施例的动作示意图，主要揭示位移装置及承台 的位移情形。主要组件符号说明10浮动式双轴同动机构 20工作平台 22 轨道 30位移装置 32凹部 321 承载区322 限位区 323 挡止区40 承台52 Y轴P1第一位置P2第二位置具体实施方式请参阅图1至图5，本专利技术一较佳实施例所提供浮动式双轴同动机构 10，其包含有一工作平台20、 一位移装置30以及一承台40。该工作平台20具有二轨道22且分别沿一 X轴50方向延伸，该二位 移装置30可滑移地分别装设于该二轨道22。该二位移装置30分别设于该工作平台20两侧，该等位移装置30可 沿该X轴50方向同步位移；各该位移装置30具有一凹部32，该凹部32 沿该X轴50方向定义出一承载区321以及二限位区322;该承载区321 提供一垂直气流；该二限位区322位于该承载区321两侧，各该限位区322 提供二水平气流；该二位移装置30的凹部32分别于一 Y轴52方向具有 一挡止区323，该二挡止区323分别位于该承台40的两侧，各该挡止区 323提供二水平气流，以限制该承台40可沿该Y轴52方向微幅位移。该承台40具有二端部42且分别置于该二位移装置30的凹部32，该 二端部42沿该Y轴52方向分别对应该二位移装置30的凹部32的挡止区 323;该二端部42分别与该二凹部32的限位区322以及挡止区323之间 具有间隙；该二端部42分别受该二承载区321所提供的垂直气流推移而 漂浮于该承载区321顶侧，各该端部42可受该限位区322所提供的水平 气流推移而沿该X轴50方向位移，各该端部42可受该挡止区323所提供 的水平气流推移而沿该Y轴52方向位移。另外，该承台40更可装设一视觉装置(图中未示)以及一激光装置(图 中未示)，该视觉装置设于该承台40底部且可沿该位移装置30位移，用 以检测一基板(图中未示)上的瑕疵点；该激光装置设于该承台40底部且 可沿该位移装置30位移，用以除去该基板上的瑕疵点。其中，该视觉装 置以及该激光装置并非本专利技术的构成要件，仅供说明该承台40的功能， 在此容不赘述。再请配合参阅图6，其为该位移装置30及该承台40由一第一位置P1移动到一第二位置P2的动作示意图，其动作步骤如下一. 当该位移装置30自该第一位置Pl位移前，该二位移装置30的 凹部32的承载区321会先以垂直气流承载该承台40，使该承台40漂浮于 该位移装置30的承载区321顶侧同时，该位移装置30的凹部32的限 位区322及挡止区323会以水平气流推移该承台40的端部42，使该承台 40漂浮于该二位移装置30的凹部32所限制的范围内。二. 当该二位移装置30分别沿该二轨道22开始位移，如果该二位移 装置30因起步时间不同步而形成先后启动，该承台40的端部42会因为 分别与该二凹部32的限位区322以及挡止区323之间之间隙而提供缓冲 距离，用以克服该二位移装置30因起步时间不同步而经由该承台40造成 拉扯；换言之，该二位移装置30不会受到该承台40的牵制而能够防止该 二位移装置30彼此形成拉扯作用，进而使该承台40与该二位移装置30 可以顺利位移。三. 位移期间，该位移装置30的凹部32的承载区321都会以垂直气 流承载该承台40，使该承台40漂浮于该位移装置30的承载区321顶侧 同时，该位移装置30的凹部32的限位区322及挡止区323会以水平气流 推移该承台40;当该二位移装置30位移时，该承台40同样会受到该位移 装置30的限位区322及挡止区323的水平气流作用而以漂浮的状态同步 位移。四. 当该位移装置30位移至该第二位置P2而停止，该位移装置30 的凹部32的限位区322及挡止区323会以水平气流推移该承台40的端部 42，以校正该承台40;最后，该二位移装置30的凹部32的承载区321 会逐渐减弱垂直气流，使该承台40缓缓降下而落于该位移装置30的凹部 32的承载区321。通过此，本专利技术的浮动式双轴同动机构透过上述结构，其能够运用气 体静压轴承(aerostatic bearing)的原理使该二位移装置30的凹部32与 该承台40的端部42保持间隙而形成缓冲距离，用以容许该二位移装置30 因起步时间不同步而造成的误差；其相较于现有技术，本专利技术能够克服该 二位移装置30因起步时间不同步而造成卡死的问题，具有确保该二位移装置30正常位移的特色。本专利技术于前揭实施例中所揭露的构成组件，仅为举例说明，并非用来 限制本案的范围，其它等效组件的替代或变化，亦应为本案的申请专利范 围所涵盖。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种浮动式双轴同动机构，其特征在于有：　一工作平台；　二位移装置，分别设于该工作平台两侧，该二位移装置可沿一Ｘ轴方向同步位移，各该位移装置具有一凹部，该凹部沿该Ｘ轴方向定义出一承载区以及二限位区，该承载区提供至少一垂直气流，该二 限位区位于该承载区两侧，各该限位区提供至少一水平气流；以及　一承台，具有二端部且分别置于该二位移装置的凹部，该端部可受该承载区的垂直气流推移而漂浮于该承载区顶侧，各该端部受该限位区的水平气流推移而沿该Ｘ轴方向位移。

【技术特征摘要】
1.一种浮动式双轴同动机构，其特征在于有一工作平台；二位移装置，分别设于该工作平台两侧，该二位移装置可沿一X轴方向同步位移，各该位移装置具有一凹部，该凹部沿该X轴方向定义出一承载区以及二限位区，该承载区提供至少一垂直气流，该二限位区位于该承载区两侧，各该限位区提供至少一水平气流；以及一承台，具有二端部且分别置于该二位移装置的凹部，该端部可受该承载区的垂直气流推移而漂浮于该承载区顶侧，各...

【专利技术属性】
技术研发人员：叶公旭，苏纪为，
申请(专利权)人：东捷科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]