【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种半导体集成电路制造器件,具体涉及一种非挥发性闪存存储器,尤其涉及一种单管SONOS NOR型快速闪存存储单元的布线结构。
技术介绍
如图1所示,在1T SONOS(硅氧氮氧硅)NOR FLASH NVM(单管SONOSNOR型快速非易失性闪存)结构中的存储单元,采用矩阵阵列布局,由阵列的行(Row)和列(Column)决定每个存储单元(Cell)的地址。 如图2所示,一列同时需要引出这一列所有存储单元的位线(Bit line)和源线(source line),在采用金属布线的时候,就需要同时在一个存储单位的CELL阵列的高X方向引出这一列(COLUMN)这两条金属线。 当选中某一个CELL的时候,需要选中这个CELL的位线(Bit line),源线(Source line),以及字线(Word line)。如图3所示,Word Line放置于ROW方向并由POLY(多晶硅)引出;Bit line和Source line都放置于COLUMN方向分别由两条平行的金属M1引出。 单位CELL的面积由CELL的宽度(Width)和高度(Heigh ...
【技术保护点】
一种单管SONOSNOR型快速闪存存储单元的布线结构,该存储单元采用矩阵阵列布局,其特征在于,两列存储单元共用一条源线的布线,以及两个存储单位共用一个源端。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:陈广龙,
申请(专利权)人:上海华虹NEC电子有限公司,
类型:发明
国别省市:31[中国|上海]
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