遮罩组件以及镀膜机台制造技术

本发明专利技术公开了一种遮罩组件以及镀膜机台，其中的镀膜机台用以在基材上的镀膜区域上进行镀膜。此镀膜机台包括镀膜腔室、阴极载台、阳极载台以及遮罩组件（ｍａｓｋ　ａｓｓｅｍｂｌｙ）。镀膜腔室具有腔室开口。阴极载台配置于腔室开口以盛放靶材，而阳极载台配置于镀膜腔室内以承载基材。遮罩组件配置于腔室开口，并位于阴极载台与阳极载台之间。此遮罩组件包括遮罩本体以及挡板。遮罩本体具有开孔。基材位于遮罩本体的第一侧，而开孔暴露出镀膜区域。挡板位于开孔旁，并且立于遮罩本体背对基材的第二侧。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及遮罩组件(mask assembly)与镀膜机台，特别是涉及一种可减少产品成品率损失(yield loss)的遮罩组件与镀膜机台。
技术介绍
一般而言，在半导体元件或是显示面板的制造过程中，经常会使用到镀膜技术来形成所需要的膜层。尤其是，显示面板的制造会需要在大面积的玻璃基板上形成透明导电层，如铟锡氧化物(indium tin oxide, IT0)。镀膜技术大致可分为物理气相沉积(Physical Vapor D印osition， PVD)以及化学气相沉积(Chemical Vapor D印osition， CVD)。前者主要是借由物理现象进行薄膜沉积，而后者主要是以化学反应的方式进行薄膜沉积。其中，物理气相沉积更以蒸镀(evaporation)及溅镀(sputtering)为目前的主流。此两种技术的共同点就是以物理现象的方式来进行薄膜沉积。在物理气相沉积中，溅镀法因其不拘束靶材(target)的选择，无论是金属材料或非金属材料均可做为其靶材，因此被广泛应用于各种产业上。就蒸镀而言，其原理基本是借着对蒸镀材料进行加热，并利用蒸镀材來斗在高温(接近其熔点)时所具备的饱本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种遮罩组件，用以在一基材上定义一镀膜区域，其特征在于，该遮罩组件包括：　　一遮罩本体，具有一开孔，该基材位于该遮罩本体的一第一侧，而该开孔暴露出该镀膜区域；以及　　一挡板，位于该开孔旁，并且立于该遮罩本体背对该基材的一第二侧。

【技术特征摘要】
1、一种遮罩组件，用以在一基材上定义一镀膜区域，其特征在于，该遮罩组件包括一遮罩本体，具有一开孔，该基材位于该遮罩本体的一第一侧，而该开孔暴露出该镀膜区域；以及一挡板，位于该开孔旁，并且立于该遮罩本体背对该基材的一第二侧。2、 根据权利要求1所述的遮罩组件，其特征在于，该挡板由该开孔朝向该遮罩本体的外缘倾斜。3、 根据权利要求1所述的遮罩组件，其特征在于，该挡板围绕该开孔。4、 根据权利要求3所述的遮罩组件，其特征在于，该挡板与该开孔间隔 一距离。5、 根据权利要求1所述的遮罩组件，其特征在于，该遮罩本体包括 一主框架，具有相对的一第一表面与一第二表面，该第一表面面向该基材，而该挡板配置于该第二表面上；一外墙板，配置于该主框架的外缘，且该外墙板背对该基材并沿着垂直该第二表面的方向延伸；以及一浮置遮罩，配置于该第一表面上，用以提供该开孔。6、 一种镀膜机台，用以在一基材上的一镀膜区域上进行镀膜，其特征在于，该镀膜机台包括一镀膜腔室，具有一腔室开口...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘建志，张钧杰，陈志强，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]