一种三氯氢硅生产过程中吸收后的液体纯化工艺制造技术

技术编号:4137456 阅读:352 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种三氯氢硅生产过程中吸收后的液体纯化工艺,包括:沉淀;一次精馏;二次精馏:四氯化硅精馏;精馏后的液体大部分作为回流重新回到精馏塔中,少部分液体作为产品进入到四氯化硅产品罐后送入冷氢化装置中重新利用,高沸物送入到三废液罐中。本发明专利技术使三氯氢硅(SiHCl3)达到含硼(B)小于等于0.05ppb、磷(P)小于等于0.1ppb直接可以用于高纯多晶硅的生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种液体纯化工艺,尤其是一种三氯氢硅生产过程中吸收后的 液体纯化工艺。
技术介绍
目前,在四氯化硅(SiC14)生产的三氯氢硅(SiHC13),大多数厂家都是 初步解决三氯氢硅的纯化,达不到直接生产高纯多晶硅的要求。
技术实现思路
本专利技术为解决四氯化硅(SiC14)生产的三氯氢硅乂SiHC13)达到含硼(B) 小于等于0.05ppb、磷(P)小于等于O. lppb,不能直接生产高纯多晶硅的要求 的问题,提出一种三氯氢硅生产过程中吸收后的液体纯化工艺。本专利技术的技术方案①沉淀淋洗后液体进入到四氯化硅进料罐,重液体 沉淀后送入沉淀液罐中;②一次精馏沉淀后的液体进入到精馏塔中进行精馏, 精馏后的液体大部分作为回流液重新回到精馏塔中,少部分液体作为产品进入 到一级产品罐中,精馏塔内高沸物进入高沸物罐后送到四氯化硅贮罐中;③二 次精馏 一级产品罐中的液体经进入二级精馏塔中进行精馏,精馏后的液体大 部分作为回流液重新回到精馏塔中,少部分液体作为产品进入到二级产品罐中, 精馏塔内高沸物进入高沸物贮罐后送到四氯化硅进料罐中,二级产品罐中的液 体由屏蔽泵进入纯三氯氢硅贮罐中;④四氯化硅精馏四氯化硅进料罐中液体 送入四氯化硅精馏塔中进行精馏,精馏后的液体大部分作为回流重新回到精馏塔中,少部分液体作为产品进入到四氯化硅产品罐后送入冷氢化装置中重新利 用,高沸物送入到三废液罐中。.本专利技术的有益效果是使三氯氢硅(SiHC13)达到含硼(B)小于等于0. 05ppb、磷(P)小于等于0.1ppb直接可以用于高纯多晶硅的生产。具体实施例方式以下实施例用于说明本专利技术,但不用于限制本专利技术的范围。①沉淀淋洗后液体进入到四氯化硅进料罐,重液体沉淀后送入沉淀液罐 中;②一次精馏沉淀后的液体进入到精馏塔中进行精馏,精馏后的液体大部 分作为回流液重新回到精馏塔中,少部分液体作为产品进入到一级产品罐中, 精馏塔内高沸物进入高沸物罐后送到四氯化硅贮罐中;③二次精馏 一级产品 罐中的液体经进入二级精馏塔中进行精馏,精馏后的液体,大部分作为回流液重 新回到精馏塔中,少部分液体作为产品进入到二级产品罐中,精馏塔内高沸物 进入高沸物贮罐后送到四氯化硅进料罐中,二级产品罐中的液体由屏蔽泵进入 纯三氯氢硅贮罐中;④四氯化硅精馏四氯化硅进料罐中液体送入四氯化硅精馏塔中进行精馏,精馏后的液体大部分作为回流重新回到精馏塔中,少部分液 体作为产品进入到四氯化硅产品罐后送入冷氢化装置中重新利用,高沸物送入 到三废液罐中。实施例2:将淋洗吸收后的三氯氢硅纯化,使产品达到含硼小于等于0.05卯b、磷小于 等于O. lppb规格的三氯氢硅。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种三氯氢硅生产过程中吸收后的液体纯化工艺,其特征在于:  ①沉淀:淋洗后液体进入到四氯化硅进料罐,重液体沉淀后送入沉淀液罐中;  ②一次精馏:沉淀后的液体进入到精馏塔中进行精馏,精馏后的液体大部分作为回流液重新回到精馏塔中,少部分液体作为产品进入到一级产品罐中,精馏塔内高沸物进入高沸物罐后送到四氯化硅贮罐中;  ③二次精馏:一级产品罐中的液体经进入二级精馏塔中进行精馏,精馏后的液体大部分作为回流液重新回到精馏塔中,少部分液体作为产品进入到二级产品罐中,精馏塔内高沸物进入高沸物贮罐后送到四氯化硅进料罐中,二级产品罐中的液体由屏蔽泵进入纯三氯氢硅贮罐中;  ④四氯化硅精馏:四氯化硅进料罐中液体送入四氯化硅精馏塔中进行精馏,精馏后的液体大部分作为回流重新回到精馏塔中,少部分液体作为产品进入到四氯化硅产品罐后送入冷氢化装置中重新利用,高沸物送入到三废液罐中。

【技术特征摘要】
1、一种三氯氢硅生产过程中吸收后的液体纯化工艺,其特征在于①沉淀淋洗后液体进入到四氯化硅进料罐,重液体沉淀后送入沉淀液罐中;②一次精馏沉淀后的液体进入到精馏塔中进行精馏,精馏后的液体大部分作为回流液重新回到精馏塔中,少部分液体作为产品进入到一级产品罐中,精馏塔内高沸物进入高沸物罐后送到四氯化硅贮罐中;③二次精馏一级产品罐中的液体经进入二级精馏塔中进行精馏,精馏后的液体大部分作为回流液重新回到精馏塔中,少部分液体作为产品进入到二级产品罐中,精馏塔内高沸物进入高沸...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨海建张扬马麟李占青刘玉芹
申请(专利权)人:洛阳世纪新源硅业科技有限公司
类型:发明
国别省市:41[中国|河南]

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