【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电容器,尤其涉及一种薄膜镀层附着强度测定工艺。
技术介绍
1、金属化薄膜附着力试验采用粘结强度为2n/cm2~10n/cm2的胶带,在长度为1000mm试样上进行,将试样放在有橡皮垫的平面上,用上述胶带均匀地粘贴在试样的金属镀层上,粘接长度为100mm,粘贴时用力应均匀,使胶带与金属层完全贴合,然后,将胶带平稳地垂直撕下,观察金属镀层应无明显剥落现象,根据金属镀层表面脱离的状态对金属镀层的附着力的合格状态进行测验。
2、专利文献一种利用eaa薄膜测试真空镀铝薄膜铝层附着力的方法(公开号为:cn100538323c)在金属化薄膜的金属镀层表面热封膜,通过剥离的方式对金属镀层的剥离力进行定量测试,以获得金属镀层附着力的精准结果,实现了金属镀层附着力测量的标准化、定量化。
3、传统的金属化薄膜测试的方式是通过测试附着力大小对金属化薄膜的质量进行测试,测试过程不规范,附着力测量的过程以及结果难以真实反应金属化薄膜的附着强度,导致后续生产出现偏差。
技术实现思路
【技术保护点】
1.一种薄膜镀层附着强度测定工艺,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种薄膜镀层附着强度测定工艺,其特征在于,步骤S1中,热封膜热封的工作温度高于薄膜基材的收缩温度。
3.根据权利要求1所述的一种薄膜镀层附着强度测定工艺,其特征在于,步骤S1中,裁剪热封膜的宽度与薄膜的宽度相同,裁剪热封膜的长度为L1,裁剪薄膜的长度为L2,L1比L2大30—60mm。
4.根据权利要求1所述的一种薄膜镀层附着强度测定工艺,其特征在于,附着有离型膜一的热封膜选择为两张,第一张热封膜覆盖于薄膜的镀层表面,第二张热封膜覆盖于薄膜的基材表
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【技术特征摘要】
1.一种薄膜镀层附着强度测定工艺,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的一种薄膜镀层附着强度测定工艺,其特征在于,步骤s1中,热封膜热封的工作温度高于薄膜基材的收缩温度。
3.根据权利要求1所述的一种薄膜镀层附着强度测定工艺,其特征在于,步骤s1中,裁剪热封膜的宽度与薄膜的宽度相同,裁剪热封膜的长度为l1,裁剪薄膜的长度为l2,l1比l2大30—60mm。
4.根据权利要求1所述的一种薄膜镀层附着强度测定工艺,其特征在于,附着有离型膜一的热封膜选择为两张,第一张热封膜覆盖于薄膜的镀层表面,第二张热封膜覆盖于薄膜的基材表面。
5.根据权利要求4所述的一种薄膜镀层附着强度测定工艺,其特征在于,步骤s2中在两张热封膜之间添加离型膜二,离型膜二添加完毕后对两张热封膜和薄膜进行热封形成样条。
6.根据权利要求1所述的一种薄膜镀层附着强度测定工艺,其特征在于,步骤s1中薄膜的厚度范围是:0.9μm-30μ...
【专利技术属性】
技术研发人员:潘毓娴,储松潮,钱立文,吴成秀,古红涛,
申请(专利权)人:安徽铜峰电子股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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