System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 光模块制造技术_技高网

光模块制造技术

技术编号:41315176 阅读:5 留言:0更新日期:2024-05-13 14:56
本发明专利技术的光模块具备:镜单元,其具有可动镜部;磁铁部,其具有上表面、底面和侧面,并产生作用于所述可动镜部的磁场;和保持构件,其保持所述磁铁部,所述磁铁部具有包含力在第1方向上作用的第1磁铁、和力在第2方向上作用的第2磁铁的海尔贝克结构,所述保持构件对抗在所述第1方向上作用于所述第1磁铁的力、和在所述第2方向上作用于所述第2磁铁的力而一体地保持所述磁铁部,所述镜单元被所述保持构件支撑在所述上表面上,在所述上表面与所述镜单元之间,设置有用于缓和来自所述磁铁部的应力的缓和层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光模块


技术介绍

1、在专利文献1中记载有平面(planar)型致动器。该平面型致动器具备设置在器件基板上的框状的固定部。在固定部的内侧,经由作为支撑梁的扭力杆摆动自如地支撑有可动部。另外,在固定部的周围设置有框状的磁轭,在该磁轭的内侧设置有隔着可动部相对配置的一对磁场产生机构。磁场产生机构的倾斜磁场作用于固定部的驱动线圈部分。

2、在该平面型致动器中,当电流流过可动部的驱动线圈时产生磁场,通过该磁场与由磁场产生机构产生的静磁场的相互作用而产生洛伦兹力。由此,在与扭力杆的轴向平行的可动部的对边部分产生相互相反方向的旋转力,可动部摆动到该旋转力与扭力杆的复原力平衡的位置。并且,通过在驱动线圈中流通交流电流,可动部摆动,并且能够通过镜使光束偏转扫描。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:日本特开2014-200140号公报


技术实现思路

1、专利技术要解决的技术问题

2、在专利文献1所记载的平面型致动器中,利用粘接剂等将作为连结并保持磁场产生机构的保持机构的保持板安装于磁场产生机构的上端面,实现磁场产生机构的牢固的保持。然而,如该平面型致动器那样,在支撑可动部的器件基板与磁场产生机构接触的状态下,由磁场产生机构的热膨胀引起的应力作用于器件基板和可动部。其结果,有可能在器件基板和可动部产生不希望的倾斜。

3、因此,本专利技术的目的在于提供一种能够抑制镜单元的倾斜的光模块。

4、用于解决技术问题的方法

5、在用于解决上述技术问题的研究中,得到了如下见解。即,在上述那样的光模块中,作为磁场产生机构,考虑使用海尔贝克阵列的多个磁铁。在海尔贝克阵列的磁铁中,其热膨胀的方向根据磁化的方向而不同。因此,复杂的应力能够从磁铁作用于与磁铁接触的构件。因此,特别是在使用海尔贝克阵列的磁铁的情况下,在抑制镜单元的倾斜时,抑制来自磁铁的应力向镜单元的传递变得更重要。本专利技术人基于以上那样的见解反复进行进一步的研究,从而完成了本专利技术。

6、即,本专利技术的光模块具备:镜单元,其具有包含线圈的可动镜部;磁铁部,其具有上表面及底面和从上表面延伸至底面的侧面,并产生作用于可动镜部的磁场;和保持构件,其保持磁铁部,磁铁部具有包含力在从上表面朝向底面的第1方向上作用的第1磁铁、和力在从底面朝向上表面的第2方向上作用的第2磁铁的海尔贝克结构,保持构件对抗在第1方向上作用于第1磁铁的力和在第2方向上作用于第2磁铁的力而一体地保持磁铁部,镜单元被保持构件支撑在上表面上,在上表面与镜单元之间,设置有用于缓和来自磁铁部的应力的缓和层。

7、在该光模块中,产生作用于镜单元的可动镜部的磁场的磁铁部具有包含第1磁铁和第2磁铁的海尔贝克结构。这样的磁铁部利用保持构件对抗作用于第1磁铁和第2磁铁的力而被一体地保持。镜单元被该保持部支撑在磁铁部的上表面上。而且,在磁铁部的上表面与镜单元之间设置有用于缓和来自磁铁部的应力的缓和层。因此,在使用了这样的海尔贝克结构的磁铁部的光模块中,从磁铁部向镜单元的应力的传递被抑制,镜单元的倾斜被抑制。

8、在本专利技术的光模块中,也可以是,保持构件具有限制部,该限制部位于上表面上,用于限制磁铁部向第2方向的移动,镜单元被限制部支撑。在该情况下,磁铁部能够被保持构件可靠地保持为一体。另外,由于镜单元被磁铁部的上表面上的限制部支撑,所以容易在上表面与镜单元之间设置缓和层。

9、在本专利技术的光模块中,限制部也可以构成缓和层的至少一部分。在该情况下,能够使缓和层的至少一部分与限制部共用化。

10、在本专利技术的光模块中,限制部也可以填充上表面与镜单元之间,构成缓和层的整体。在该情况下,能够使限制部与缓和层的整体共用化。

11、在本专利技术的光模块中,也可以是,限制部从上表面与侧面的连接部分向上表面的内侧延伸,并且在上表面上具有内缘,缓和层由限制部、和形成于由内缘规定的空间的空气层构成。在该情况下,能够利用限制部限制磁铁部的移动,并且能够利用空气层可靠地抑制应力从磁铁部向镜单元的传递。

12、在本专利技术的光模块中,也可以是,保持构件具有支撑侧面的侧壁部,限制部与侧壁部一体地形成。在该情况下,包含限制部的保持构件的结构被简化。

13、在本专利技术的光模块中,也可以是,保持构件具有支撑侧面的侧壁部,限制部具有接触部,该接触部以从与上表面交叉的方向观察时覆盖上表面的方式设置在上表面上,并与上表面接触,接触部与侧壁部连接。在该情况下,通过将接触并覆盖磁铁部的上表面的接触部与侧壁部连接,能够更牢固地保持磁铁部。

14、在本专利技术的光模块中,也可以是,与上表面交叉的方向上的接触部的厚度比沿着上表面的方向上的侧壁部的厚度薄。在该情况下,镜单元与磁铁部之间的距离变小,所以能够在镜单元中高效地利用磁铁部的磁场。其结果是,能够降低消耗电力。

15、在本专利技术的光模块中,缓和层也可以包含接触部、和形成于上表面及接触部上的空气层。在该情况下,能够利用接触部牢固地保持磁铁部,并且能够利用空气层可靠地抑制应力从磁铁部向镜单元的传递。

16、在本专利技术的光模块中,镜单元也可以从与上表面交叉的方向观察时,在不与第1磁铁重叠的位置被保持构件支撑。在该情况下,即使在第2磁铁部产生热膨胀,镜单元也难以倾斜。

17、在本专利技术的光模块中,缓和层也可以包含杨氏模量比磁铁部的杨氏模量低的部分。这样,通过包含杨氏模量比磁铁部的杨氏模量低的部分的缓和层,能够抑制应力从磁铁部向镜单元的传递。

18、专利技术效果

19、根据本专利技术,能够提供一种能够抑制镜单元的倾斜的光模块。

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【技术保护点】

1.一种光模块,其特征在于:

2.如权利要求1所述的光模块,其特征在于:

3.如权利要求1所述的光模块,其特征在于:

4.如权利要求3所述的光模块,其特征在于:

5.如权利要求3或4所述的光模块,其特征在于:

6.如权利要求1所述的光模块,其特征在于:

7.如权利要求1所述的光模块,其特征在于:

8.如权利要求1所述的光模块,其特征在于:

9.如权利要求1所述的光模块,其特征在于:

10.如权利要求1~9中任一项所述的光模块,其特征在于:

【技术特征摘要】

1.一种光模块,其特征在于:

2.如权利要求1所述的光模块,其特征在于:

3.如权利要求1所述的光模块,其特征在于:

4.如权利要求3所述的光模块,其特征在于:

5.如权利要求3或4所述的光模块,其特征在于:

6.如...

【专利技术属性】
技术研发人员:铃木大几藁科祯久
申请(专利权)人:浜松光子学株式会社
类型:发明
国别省市:

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