【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
实施方式的一侧面关于一种自动对焦辅助方法、自动对焦辅助装置、及自动对焦辅助程序。
技术介绍
1、在专利文献1公开有一种半导体器件故障解析装置，该装置对于各种杂质浓度的半导体器件，具有通过求得自基板的背面侧拍摄的反射光学影像的对比度变为最大的最适波长而自动设定最适的照明光波长的自动波长调整功能、及自动对焦(自动焦点调节)功能。
2、[现有技术文献]
3、[专利文献]
4、专利文献1：日本专利特开2003-232749号公报
技术实现思路
1、[专利技术所要解决的问题]
2、自以往以来，将半导体器件作为检查对象装置(dut：device under test：待测装置)取得图像，基于该图像，进行故障部位的确定等的各种分析。另外，近年来，正研究通过研磨构成半导体器件的基板表面，而使半导体器件基板薄型化，设定最适于图像取得的条件。若对基板的表面被研磨的半导体器件，使用具有自动对焦功能的摄像装置取得图像，则有对于半导体器件内的器件图案的自动对焦的精度降低的问题。
3、因此，实施方式的一侧面的目的在于提供一种可提高对于半导体器件内的器件图案的自动对焦的精度的自动对焦辅助方法、自动对焦辅助装置、及自动对焦辅助程序。
4、[解决问题的技术手段]
5、实施方式的第一侧面的自动对焦辅助方法是辅助针对半导体器件的自动对焦的方法，该半导体器件具有基板、与形成于上述基板的一主面侧的器件图案，且该方法具备：图像取得步骤，其取得
6、或者，实施方式的第二侧面的自动对焦辅助装置具备：载台，其载置具有基板、与形成于基板的一主面侧的器件图案的半导体器件；摄像装置，其具有用以将光照射至半导体器件的光源、及检测来自半导体器件的光的光检测器；及控制部，其控制载台与摄像装置的相对位置。控制部具有：图像取得部，其取得焦点对准基板的第1图像；产生部，其通过傅立叶变换，自第1图像取得空间频率图像，基于空间频率图像，产生遮蔽基板上的同一方向的线状图案的屏蔽数据；处理部，其在基板的另一主面侧，一面使摄像装置的焦点位置变化一面取得使用摄像装置拍摄的多个第2图像，对于第2图像使用屏蔽数据执行滤波；及焦点调整部，其基于滤波后的第2图像，将摄像装置的焦点对准器件图案。
7、或者，实施方式的第三侧面的自动对焦辅助程序是用以辅助针对半导体器件的自动对焦的程序，该半导体器件具有基板、与形成于基板的一主面侧的器件图案，该程序使计算机作为如下构件发挥功能：图像取得部，其取得焦点对准基板的第1图像；产生部，其通过傅立叶变换，自第1图像取得空间频率图像，基于空间频率图像产生遮蔽基板上的同一方向的线状图案的屏蔽数据；处理部，其在基板的另一主面侧，一面使摄像装置的焦点位置变化一面取得使用摄像装置拍摄的多个第2图像，对第2图像使用屏蔽数据执行滤波；及焦点调整部，其基于滤波后的第2图像，将摄像装置的焦点对准器件图案。
8、根据上述第一侧面、上述第二侧面、或上述第三侧面，自焦点对准基板的第1图像取得空间频率图像，基于空间频率图像，产生遮蔽基板上的同一方向的线状图案的屏蔽数据。且，在基板的另一主面侧，通过使用一面使焦点位置变化一面拍摄的图像即由屏蔽数据滤波后的第2图像进行处理，而使焦点对准形成于基板的一主面侧的器件图案。在该情形时，减少第2图像的同一方向的线状图案。通过基于此种的第2图像完成焦点的调整，可提高对于半导体器件内的器件图案的自动对焦的精度。
9、[专利技术的效果]
10、根据本公开的一侧面，可提高对于半导体器件内的器件图案的自动对焦的精度。
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1.一种自动对焦辅助方法，其为对于具有基板及形成于所述基板的一主面侧的器件图案的半导体器件辅助自动对焦的方法，
2.如权利要求1所述的自动对焦辅助方法，其中，
3.如权利要求2所述的自动对焦辅助方法，其中，
4.如权利要求2或3所述的自动对焦辅助方法，其中，
5.如权利要求1至4中任一项所述的自动对焦辅助方法，其中，
6.一种自动对焦辅助装置，其具备：
7.一种自动对焦辅助程序，其为用以对于具有基板及形成于所述基板的一主面侧的器件图案的半导体器件辅助自动对焦的程序，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种自动对焦辅助方法，其为对于具有基板及形成于所述基板的一主面侧的器件图案的半导体器件辅助自动对焦的方法，
2.如权利要求1所述的自动对焦辅助方法，其中，
3.如权利要求2所述的自动对焦辅助方法，其中，
4.如权利要求2或3所述的自...
【专利技术属性】
技术研发人员：嶋瀬朗，竹嶋智亲，伊藤朱里，
申请(专利权)人：浜松光子学株式会社，
类型：发明
国别省市：
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