System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 门组件及包括其的基板处理装置制造方法及图纸_技高网

门组件及包括其的基板处理装置制造方法及图纸

技术编号:41313544 阅读:2 留言:0更新日期:2024-05-13 14:55
本发明专利技术涉及门组件及包括其的基板处理装置,更详细地说,涉及一种可以稳定驱动的门组件及包括其的基板处理装置。本发明专利技术作为被设置到形成运入及运出基板的开口部的工艺腔室而开闭所述开口部的门组件,包括:门主体部,可移动地设置在所述工艺腔室前方;门部,相对所述门主体部,可向前后方线性移动,开闭所述开口部;多个驱动部,相对所述门主体部,使所述门部线性移动;引导部,位于所述门主体部与所述门部之间,引导所述门部的线性移动,其中,所述引导部包括:导轨部,与所述门主体部和所述门部中的其中一个结合设置,形成移动路径;导块部,与其余一个结合且沿着所述移动路径线性移动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及门组件及包括其的基板处理装置,更详细地说,涉及一种可以稳定驱动的门组件及包括其的基板处理装置。


技术介绍

1、一般来说,基板处理装置是指在工艺腔室形成的密闭处理空间中,利用工艺气体及适当温度气氛,对基板进行沉积、蚀刻及热处理等基板处理的装置。

2、尤其,热处理是为了对用于制造半导体、平板显示器及太阳能电池的硅晶片或玻璃等基板上沉积的既定薄膜进行结晶化、相变等薄膜特性改善而执行。

3、具有代表性的热处理工艺包括为了制造amoled等高品质显示器而在玻璃基板上形成利用多晶硅的tft的ltps(low temperature poly crystallization silicon:低温多晶硅)或为了形成柔性基板而在基板上形成聚酰亚胺并使其硬化的过程。

4、并且,用所述热处理工艺制造液晶显示器或薄膜型结晶硅太阳能电池时,可以包括使得沉积在基板上的非晶硅结晶成多晶硅的工艺。

5、为了这种热处理工艺,基板处理装置包括:工艺腔室,内部形成执行基板处理的处理空间以及用于运入和运出基板的开口部;门组件,打开和关闭开口部,以形成密闭的处理空间。

6、现有的基板处理装置中,门组件可以上下移动且为了与开口部贴紧及分离而还能向前后移动,随着基板及装置的大型化,通过多个气缸向前后方驱动,根据各个气缸的驱动力差异,存在门组件发生扭曲的问题。

7、更具体地说,虽然现有的门组件具有用于引导前后移动的导向辊,但未能在左右方向上固定导向辊,因此发生由多个气缸之间的驱动力差异导致的门组件的扭曲,进而,因摩擦力的差异导致气缸之间的驱动力偏差。

8、因此,现有的门组件存在因发生扭曲的状态下的前后方驱动而造成气缸杆破损或紧贴工艺腔室的o形环损坏而耐久性降低的问题。

9、并且,根据现有的门组件,因前后移动的门部的负载导致局部下垂时,需要在整体拆卸门部后,重新调整左右高度偏差,因此存在增加维护的时间及费用的问题。


技术实现思路

1、要解决的技术问题

2、本专利技术为了解决上述问题而提出,其目的在于,提供一种提高了耐久性的、可以稳定驱动的门组件及包括其的基板处理装置。

3、解决问题的手段

4、本专利技术为了达成上述目的而提出,本专利技术作为被设置到形成运入及运出基板的开口部的工艺腔室10而开闭所述开口部的门组件,包括:门主体部100,可移动地设置在所述工艺腔室10前方;门部200,相对所述门主体部100,可向前后方线性移动,开闭所述开口部;多个驱动部300,相对所述门主体部100,使所述门部200线性移动;引导部400,位于所述门主体部100与所述门部200之间,引导所述门部200的线性移动,其中,所述引导部400包括:导轨部410,与所述门主体部100和所述门部200中的其中一个结合设置,形成移动路径;导块部420,与其余一个结合且沿着所述移动路径线性移动。

5、所述导轨部410包括:下部导块411,结合到所述门主体部100;导轨412,设置到所述下部导块411上面而形成所述移动路径。

6、所述导轨部410还包括:阻挡器413,为了防止所述导块部420脱离,设置在所述导轨412两端。

7、在所述下部导块411的上面形成用于设置所述导轨412的设置槽411a。

8、所述门主体部100包括:一双垂直框架110形成边缘的一部分;多个水平框架120,向上下方向设置在一双所述垂直框架110之间。

9、所述门主体部100还包括:固定支架130,分别与设置在所述水平框架120上面的导轨部410底面和所述水平框架120侧面结合。

10、所述固定支架130为一双,分别设置在所述水平框架120前方侧侧面和后方侧侧面。

11、所述导块部420包括:上部导块421,结合到所述门部200;移动块422,位于所述上部导块421底面,被设置到所述导轨部410,沿着所述移动路径移动。

12、所述导块部420以防止与所述导轨部410分离地结合设置。

13、还包括:高度调节销500,被设置到所述引导部400与所述门主体部100之间,调整所述引导部400与所述门主体部100之间的间隔,从而调整所述门部200的高度。

14、所述高度调节销500贯通所述导轨部410而螺栓结合,通过旋转来调整所述导轨部410与所述门主体部100之间的间隔。

15、所述门部200包括:门板210,与所述开口部对应;密封构件220,位于所述门板210,当所述开口部关闭时,与所述工艺腔室10前面接触。

16、相对所述门主体部100的中心彼此对称地设置多个所述驱动部300。

17、相对所述门主体部100的中心彼此对称地设置多个所述引导部400。

18、并且,本专利技术公开一种基板处理装置,包括:工艺腔室10,形成用于处理基板的处理空间和运入及运出所述基板的开口部;门组件20,位于所述工艺腔室10前方而开闭所述开口部。

19、还包括:上下驱动部30,向上下驱动所述门组件20。

20、所述工艺腔室10中,多个基板向垂直方向彼此隔开地被设置到所述处理空间。

21、专利技术的效果

22、本专利技术的门组件及包括其的基板处理装置的优点在于,在引导部与门部结合的状态下,引导门部的移动,即使发生多个驱动部之间的驱动力偏差,也能防止门部的扭曲,可以稳定地向前后方移动。

23、尤其,本专利技术的门组件及包括其的基板处理装置的优点在于,能够防止门部的扭曲,预防因门部在不平衡状态下移动而产生的损伤即驱动部及密封构件的破损,可增强耐久性。

24、并且,本专利技术的门组件及包括其的基板处理装置的优点在于,无需另外分离门部,就能调整因使用及负载所产生的门部的左右高度偏差,通过比较简单的操作,就能改善高度偏差,据此可以减少维护费用及时间。

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【技术保护点】

1.一种门组件,作为被设置到形成运入及运出基板的开口部的工艺腔室(10)而开闭所述开口部的门组件,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的门组件,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的门组件,其特征在于,

4.根据权利要求2所述的门组件,其特征在于,

5.根据权利要求1所述的门组件,其特征在于,

6.根据权利要求5所述的门组件,其特征在于,

7.根据权利要求6所述的门组件,其特征在于,

8.根据权利要求1所述的门组件,其特征在于,

9.根据权利要求1所述的门组件,其特征在于,

10.根据权利要求1所述的门组件,其特征在于,

11.根据权利要求10所述的门组件,其特征在于,

12.根据权利要求1所述的门组件,其特征在于,

13.根据权利要求1所述的门组件,其特征在于,

14.根据权利要求1所述的门组件,其特征在于,

15.一种基板处理装置,其特征在于,包括:

16.根据权利要求15所述的基板处理装置,其特征在于,

17.根据权利要求15所述的基板处理装置,其特征在于,

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【技术特征摘要】

1.一种门组件,作为被设置到形成运入及运出基板的开口部的工艺腔室(10)而开闭所述开口部的门组件,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的门组件,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的门组件,其特征在于,

4.根据权利要求2所述的门组件,其特征在于,

5.根据权利要求1所述的门组件,其特征在于,

6.根据权利要求5所述的门组件,其特征在于,

7.根据权利要求6所述的门组件,其特征在于,

8.根据权利要求1所述的门组件,其特征在于,

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【专利技术属性】
技术研发人员:金建昊
申请(专利权)人:圆益IPS股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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