基板反转模块的轴对准结构及基板反转模块的轴对准方法技术

本发明专利技术涉及基板处理，更详细地说，涉及与多个远程等离子发生装置结合的基板处理装置。本发明专利技术的基板反转模块包括：基板安置部，用于安置基板，在彼此相对的位置设置有一双从动轴；主体部，设置有一双轴支撑部，可旋转地支撑所述从动轴，使得所述基板安置部能够旋转；以及旋转驱动部，设置在所述主体部，驱动轴与所述从动轴轴结合而使所述基板安置部旋转，包括一个以上的轴偏差测定部，结合到所述驱动轴，为了所述驱动轴及所述从动轴的轴对齐，基于所述驱动轴的旋转而旋转，测定所述驱动轴的第一旋转中心(C1)与所述从动轴的第二旋转中心(C2)的轴偏差。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及基板处理，更详细地说，涉及使安置基板的基板安置部上下反转的基板反转模块的轴对准结构及基板反转模块的轴对准方法。

技术介绍

1、用于制造半导体元件的晶片(基板)、lcd面板、oled面板等显示器基板、太阳能电池用基板等一般都要经过沉积、蚀刻等所谓的基板处理来制造。

2、另外，用于执行基板处理的基板处理装置可根据基板处理的方式而具有多种结构。

3、另一方面，根据基板处理，基板处理面需要向下侧反转，基板反转由专利文献1、2等基板反转模块来执行。

4、专利文献1、2中提出的基板反转模块由用于安置基板的基板安置部和使得基板安置部旋转的旋转驱动部组成。

5、其中，关于所述基板安置部，与旋转驱动部的驱动轴相结合的从动轴在两侧被轴承块支撑并通过与从动轴和驱动轴的轴结合而旋转。

6、但是，当从动轴和驱动轴轴结合时，若从动轴的旋转中心及驱动轴的旋转中心(图6中的c1、c2)彼此偏心，上下反转时会出现基板的垂直方向误差，并由于轴之间的偏心而发生轴变形或机械磨损。

7、(专利文献1)kr 10-本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板反转模块的轴对准结构，包括：基板安置部(200)，用于安置基板(10)，在彼此相对的位置设置有一双从动轴(210)；

2.根据权利要求1所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，

5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，

7.根据权利要求1至4中任一项所述的基板反转模块的轴对准结构...

【技术特征摘要】

1.一种基板反转模块的轴对准结构，包括：基板安置部(200)，用于安置基板(10)，在彼此相对的位置设置有一双从动轴(210)；

2.根据权利要求1所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，

5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，

7.根据权利要求1至4中任一项所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，

8.根据权利要求1至4中任一项所述的基板反转模块的轴对准结构，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：金荣敏，金昌洙，裵赞宣，韩再佑，姜京模，梁世玹，金周铉，
申请(专利权)人：圆益IPS股份有限公司，
类型：发明
国别省市：