液晶显示器及其制造方法技术

本发明专利技术提供了一种液晶显示器及其制造方法。该液晶显示器的制造方法包括：在第一基板上形成包括金属的对准键；涂布与对准键重叠的挡光层；将红外光透射穿过对准键上的挡光层；通过透射红外光到对准键和挡光层来识别对准键；以及通过曝光并显影挡光层来形成挡光件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示器。
技术介绍
液晶显示器(LCD)是一种广泛使用的平板显示器。LCD包括形成有电 极的两个显示面板以及插设在这两个显示面板之间的液晶层。通过向电极施 加电压，LCD重新排列液晶层的液晶分子，从而调节透射光的量。LCD可以具有以下结构，在该结构中场产生电极(field generating electrode)设置在液晶显示器中的两个显示面板的每一个上。LCD还可以具 有这样的结构多个TFT和像素电极以矩阵形式布置在一个显示面板(在下 文中称作TFT阵列面板，，)上，而红、绿和蓝色的滤色器形成在的另一个 显示面板(在下文中称作公共电极面板)上，在该另一显示基板的整个 表面覆盖有公共电极。
技术实现思路
由于LCD可以包括分别设置在不同显示面板上的像素电极和滤色器， 所以在制造LCD时存在技术上的挑战。例如，难以使像素电极和滤色器精 确地对准，从而会发生对准误差。为了应对在制造LCD时的技术挑战，可 以使用滤色器和挡光件(称为黑矩阵)设置在与像素电极相同的阵列面板上 的LCD结构。当在LCD的制造工艺中通过执行曝光和显影工艺来形成LCD结构时， 需要对准键(align key)来确定精确的曝光位置。当执行曝光工艺以形成挡 光件时，由于挡光件(light blocking member)的材津+特性(例如，挡光或透 光)将难以识别对准4定。在LCD的制造工艺中，在例如采用激光移除对准 键的一部分上的挡光层(light blocking layer)之后，对准键能更容易被辨认。 然而，因为对准键上的挡光层被移除需要LCD制造工艺的额外步骤，所以 增加了工艺时间；并且挡光层下的对准键可能由于例如使用激光移除挡光层而被不希望地损坏。此外，去除的挡光层可能会变成LCD的基板中不希望的异物颗粒。示范性实施例提供了一种在形成LCD结构中的挡光件时相对容易地识 别对准键的方法，其中在该LCD结构中滤色器和挡光件形成在与像素电极 相同的阵列面板上。液晶显示器(LCD)的制造方法的示范性实施例包括在基板上形成包 括金属的对准键；涂布与对准键重叠的挡光层；将红外光透射穿过对准键上 的挡光层；通过透射红外光到对准键和挡光层来识别对准键；以及通过曝光 并显影挡光层来形成挡光件。红外光的波长可以为约1000纳米(nm)或者更长。挡光层的红外光透射率可以大于约60%并且挡光层的光密度(optical density)大于约3.0。挡光层可以包括小于约7%(重量百分比)的碳黑。挡光层可以包括有机黑材料。红外光的波长可以为约1500纳米(nm)或者更长。液晶显示器的制造方法的示范性实施例包括在第一基板上形成包括小 于约7%(重量百分比)的碳黑的挡光层。LCD的示范性实施例包括基板和挡光件。挡光件的红外光透射率大于约 60 %并且光密度大于约3.0。金属层在挡光件下方。挡光件可以包含小于7%(重量百分比)的碳黑。 挡光件可以包括有机黑材料。挡光件包括二萘嵌苯黑(perylene black)或者苯胺黑(aniline black )。红外光的波长可以为约1000纳米(nm)或者更长。红外光的波长可以为约1500纳米(nm)或者更长。在示范性实施例中，通过使当形成LCD结构中的挡光层时对准键的识 别变得相对容易，可以减少工艺时间，其中在该LCD结构中滤色器和挡光 件形成在与像素电极相同的阵列面板上。附图说明图l是示出根据本专利技术的薄膜晶体管(TFT)的母基板的示范性实施例的俯一见平面图2是才艮据本专利技术的液晶显示器(LCD)的示范性实施例的布局图； 图3是图2的LCD沿线III-ni截取的截面图4到图7是图2和图3的LCD的制造方法的示范性实施例的截面图。 具体实施例方式在下文中将参照附图更充分地描述本专利技术的实施例，本专利技术的示范性实 施例在附图中示出。然而，本领域技术人员应该明白，所述的实施例可以以 各种不同的方式修改，而不脱离本专利技术的精神和范围。在附图中，为了清楚起见，层、膜、面板和区域等的厚度可以被夸大。 相同的附图标记在说明书中始终指代相同的元件。如此处所用的，术语和 /或包括一个或多个所列相关项目的任意及所有组合。应当理解，当称诸如层、膜、区域或者面板的元件在另一个元件上 时，它可以直接在另一个元件上，或者还可以存在插入的元件。相反，当称 元件直接在另一元件上时，则不存在插入的元件。应当理解，虽然这里可使用术语第一、第二、第三等描述各种元件、部 件、区域、层和/或部分，j旦这些元件、部件、区Jt或、层和/或部分不应受限 于这些术语。这些术语仅用于将一个元件、部件、区域、层或部分与另一个 区域、层或部分区别开。因此，下面所述的第一元件、部件、区域、层或部分 可以称为第二元件、部件、区域、层或部分，而不脱离本专利技术的朝:导。为便于描述此处可以使用诸如上(upper)、下(lower)等空间相对 性术语以描述如附图所示的一个元件或特征与另一个(些)元件或特征之间 的关系。应当理解，除了附图中所示的取向之外，空间相对术语旨在涵盖器 件在使用或者搡作中的不同取向。例如，如果附图中的器件被倒置，则净皮描 述为在其它元件或者特征下方的元件会取向为在其它元件或者 特征的上方。因此，示范性术语下面就能够包含上和下两种取向。 器件还可以采取其他取向(旋转90度或者其他取向)，并相应地被此处所用 的空间相对性描述符解释。这里所用的术语仅仅是为了描述具体实施例，并非要限制本专利技术。如此 处所用的，除非上下文另有明确表述，否则单数形式一(a)、 一(an) 和该(the )，，均同时旨在包括复凄t形式。还应当理解，术语包括(comprise )和/或包括(comprising),当在本说明书中使用时，指定了所述特征、整体、步骤、操作、元件和/或部件的存在，但并不排除一个或多个其他的特征、整体、步骤、操作、元件、部件和/或其组合的存在或添加。这里，参照截面图来描述本专利技术的实施例，这些截面图为本专利技术理想化实施例(和中间结构)的示意图。因而，例如，由制造技术和/或公差引起的插图形状的变化是可能发生的。因此，本专利技术的实施例不应解释为局限于在此所示区域的特定形状，而是包括例如制造引起的形状偏差在内。例如，图示为矩形的注入区域典型地将在其边^^具有圆形或者弯曲的特征和/或注入浓度梯度，而不是从注入区域到非注入区域的二元改变。同样，中的某些注入。因此，附图所示的区实质上是示意性的，它们的形状并非要展示器件区的精确形状，也并非要限制本专利技术的范围。除非另有定义，此处使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)都具有本专利技术所属领域内的普通技术人员所通常理解的相同的含义。还应当理解，诸如通用词典中所定义的术语，除非此处加以明确定义，否则应当净皮解释为具有与它们在相关领域的语境中的含义相一致的含义，而不应被解释为理想化或者过度形式化的意义。在此描述的所有方法都可以以合适的顺序执行，除非在此另有说明或者与上下文明显矛盾。除非另有声明，否则任何和所有示例或示范性语言(例如，诸如(such as))的使用仅仅是旨在更好地解释本专利技术而不是给本专利技术的范围施加限制。如此处所用的，说明书中的任何语言都不应该被解释为表明任何未要求的元件为本专利技术实施所必需的元件。在下文中，将参照附本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液晶显示器的制造方法，该方法包括：　在基板上形成包括金属的对准键；　涂布与该对准键重叠的挡光层；　将红外光透射穿过该对准键上的该挡光层；　通过透射该红外光到该对准键和该挡光层来识别该对准键；以及　通过曝光并 显影该挡光层来形成挡光件。

【技术特征摘要】
KR 2008-8-20 81355/081.一种液晶显示器的制造方法，该方法包括在基板上形成包括金属的对准键；涂布与该对准键重叠的挡光层；将红外光透射穿过该对准键上的该挡光层；通过透射该红外光到该对准键和该挡光层来识别该对准键；以及通过曝光并显影该挡光层来形成挡光件。2. 根据权利要求1所述的制造方法，其中该红外光的波长为1000纳米或者更长。3. 根据权利要求2所述的制造方法，其中该挡光层的红外光透射率为大 于60%并且该挡光层的光密度大于3.0。4. 根据权利要求3所述的制造方法，其中该挡光层包括小于7重量百分 比的碳黑。5. 根据权利要求3所述的制造方法，其中该挡光层包括有机黑材料。6. 根据权利要求1所述的制造方法，其中该红外光的波长为...

【专利技术属性】
技术研发人员：李相宪，许撤，柳世桓，金官秀，张善荣，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[]