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含有高分子半导体的电子装置制造方法及图纸

技术编号:4126116 阅读:137 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种含有选自式(Ⅰ)和Ⅱ的高分子半导体的电子装置,其中X、Y、a、b、n、R↓[1]和R↓[2]如说明书所定义。所述电子装置可为薄膜晶体管。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术在多个实施方案中涉及适于在电子装置例如薄膜晶体管(TFT)中使用的组合物和方法。本专利技术还涉及使用所述组合物和方 法制成的构件或层,以及含有所述材料的电子装置。
技术介绍
薄膜晶体管(TFT)是现代电子设备包括例如传感器、图像扫描器 和电子显示装置的基本构件。使用当前主流硅技术的TFT电路对于某些 用途而言成本可能太高,特别是对于大面积的电子装置,例如其中高切 换速度并非必需的显示器的底板开关电路(例如活性基质液晶监视器或 电视机)。基于硅的TFT电路的高成本主要是由于使用了资金密集型硅 生产设备,以及需要严格控制环境的复杂的高温、高真空光刻制造方法。 通常希望制备不仅具有低得多的生产成本而且具有吸引人的机械性能例 如结构紧凑、重量轻且柔韧的TFT。有机薄膜晶体管(OTFT)可适于 那些不需要高切换速度或高密度的应用。TFT通常由一个支承基底、三个电传导电极(栅极、源极和漏极)、 一个沟道半导体层,和一个将栅极与半导体层分开的电绝缘栅介电层组 成。改进已知TFT的性能让人期待。可通过至少三个特性来检测性能 迁移率、开/关电流比以及阚值电压。迁移率以cmVv's为单位测量本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种含有半导体层的电子装置,其中所述半导体层含有一种选自式(Ⅰ)和(Ⅱ)的高分子半导体: -[-(X)↓[a]-N=*-]↓[n]- 式(Ⅰ) -[-(Y)↓[b]-*=N-(X)↓[a]-N=*-]↓[n]- 式(Ⅱ)  其中 R↓[1]和R↓[2]独立地选自氢、烷基、被取代的烷基、芳基、被取代的芳基和杂芳基; X和Y独立地为共轭的二价部分; a和b独立地为0至约10的整数;并且 n为2至约5,000的整数。

【技术特征摘要】
US 2008-8-18 12/193,1641.一种含有半导体层的电子装置,其中所述半导体层含有一种选自式(I)和(II)的高分子半导体式(I) 式(II)其中R1和R2独立地选自氢、烷基、被取代的烷基、芳基、被取代的芳基和杂芳基;X和Y独立地为共轭的二价部分;a和b独立地为0至约10的整数;并且n为2至约5,000的整数。2.权利要求l的电子装置,其中所述高分子半导体选自式(n-a) 至(II画v)之一R,' n式(H-e)<formula>formula see original document page 3</formula>其中R^ R2和R3独立地选自烷基、被取代的烷基、芳基、被取代...

【专利技术属性】
技术研发人员:Y李
申请(专利权)人:施乐公司
类型:发明
国别省市:US[]

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