【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及平磨机领域,特别涉及一种单面平磨机及操作方法。
技术介绍
1、现有技术中,对于产品进行单面平磨的需求较多,采用传统的双面平磨机加工,由于双面平磨机的结构,加工过程中,上盘和游星盘之间产生有相对运动,因而上盘下表面与游星盘上表面摩擦产生的碎屑会污染抛光液,影响平磨效果的同时,导致产品划伤,降低成品率。
2、单面磨还可以采用传统的环抛机,按产品不同人工添加重物的方式进行加压,装夹必须上下搬运重物,劳动强度大,且由于压力的限制,只能用于抛光而不能用于研磨减薄加工。抛光盘通过定位支架,由下抛光盘线速度差获得自转,无法精确控制游星盘转速,甚至出现停转,不利于加工精度控制。市场上也有些产品通过增加电机并由胶轮控制游星盘转动方式,由于设备运行环境原因,导致抛光液污染成为不可避免,抛光盘修整困难;以上解决了一定问题的环抛机仍然具有加工工艺复杂、效率较低和成本高等问题。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的为提供一种单面平磨机及操作方法,旨在解决单面平磨机研磨效果以及结构复杂程度
...【技术保护点】
1.一种单面平磨机,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的单面平磨机,其特征在于,所述直线驱动器(300)的输出端设置有关节座(310),所述平面轴承(400)铰接于所述关节座(310)。
3.根据权利要求2所述的单面平磨机,其特征在于,所述平面轴承(400)包括第二轴承座(410)以及设置于所述第二轴承座(410)内的两个推力球轴承(420)和万向轴承(430);
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的单面平磨机,其特征在于,所述中心轮(810)和所述齿圈(820)被独立控制转动。
5.根据权利要求4所述的单面平
...【技术特征摘要】
1.一种单面平磨机,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的单面平磨机,其特征在于,所述直线驱动器(300)的输出端设置有关节座(310),所述平面轴承(400)铰接于所述关节座(310)。
3.根据权利要求2所述的单面平磨机,其特征在于,所述平面轴承(400)包括第二轴承座(410)以及设置于所述第二轴承座(410)内的两个推力球轴承(420)和万向轴承(430);
4.根据权利要求1至3中任意一项所述的单面平磨机,其特征在于,所述中心轮(810)和所述齿圈(820)被独立控制转动。
5.根据权利要求4所述的单面平磨机,其特征在于,所述下研磨盘(700)可旋转地设置于所述底座(100)。
6.根据权利要求5所...
【专利技术属性】
技术研发人员:温连堂,张健,占小超,吴勇,刘松华,
申请(专利权)人:景德镇航宇科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。