【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体失效分析,具体而言,涉及一种晶圆裂片装置。
技术介绍
1、在半导体器件失效分析的过程中,对于晶圆上的特定图形的截面形貌进行分析是一种非常普遍的方法。为了对晶圆(硅片)进行失效分析,需要对晶圆进行取样,而对晶圆进行裂片取样便是比较常见的方法。
2、在现有的晶圆裂片方式中,多使用钻石钨钢笔,在目标附近的晶圆边缘轻轻对表面进行刮伤,再以双手直接撕裂来获得用于分析的样品。此种方式中,划伤和撕裂都是不易控制的动作,同时,如果晶圆为小尺寸或者非对称的形状时,更难控制撕裂的方向和力度,双手直接撕裂一方面易造成样品崩飞、物料浪费,另一方面产生的撞击可能会引入失效并造成截面污染。
技术实现思路
1、本申请实施例的目的在于提供一种晶圆裂片装置,其能够更有效控制晶圆样品撕裂力度,减少样品崩飞问题,有助于获得期望的晶圆样品。
2、本申请提供的一种晶圆裂片装置,包括基座、流利条、两个夹持臂、切刀装置和背板。流利条安装在基座上,用于支撑晶圆。两个夹持臂中,每个夹持臂包括固定座、
...【技术保护点】
1.一种晶圆裂片装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的晶圆裂片装置,其特征在于,所述流利条(20)包括第一条状座(21)、第二条状座(22)和转轴(23);
3.根据权利要求2所述的晶圆裂片装置,其特征在于,所述第一条状座(21)上设置有凸起部(212),所述第二条状座(22)上设置有凹陷部(222);在所述第一条状座(21)和所述第二条状座(22)拼合时,所述凸起部(212)插入所述凹陷部(222)中。
4.根据权利要求1所述的晶圆裂片装置,其特征在于,所述晶圆裂片装置还包括滑轨组件(60),所述滑轨组件(60)安装在
...【技术特征摘要】
1.一种晶圆裂片装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的晶圆裂片装置,其特征在于,所述流利条(20)包括第一条状座(21)、第二条状座(22)和转轴(23);
3.根据权利要求2所述的晶圆裂片装置,其特征在于,所述第一条状座(21)上设置有凸起部(212),所述第二条状座(22)上设置有凹陷部(222);在所述第一条状座(21)和所述第二条状座(22)拼合时,所述凸起部(212)插入所述凹陷部(222)中。
4.根据权利要求1所述的晶圆裂片装置,其特征在于,所述晶圆裂片装置还包括滑轨组件(60),所述滑轨组件(60)安装在所述基座(10)上,且所述滑轨组件(60)与所述流利条(20)平行;
5.根据权利要求1所述的晶圆裂片装置,其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘畅,罗俊一,
申请(专利权)人:上海积塔半导体有限公司,
类型:新型
国别省市:
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