一种放电均匀的等离子体清洗腔制造技术

技术编号:41163742 阅读:2 留言:0更新日期:2024-04-30 18:27
本申请涉及一种放电均匀的等离子体清洗腔,包括腔体和门板,门板枢接于腔体上,门板与腔体闭合可形成封闭的内腔;内腔的两侧设有可导电且竖直设置的两个托板;还包括设于内腔中的分别电连接电压两极的第一电极板和第二电极板,第一电极板通过绝缘件水平设于两个托板上,第一电极板用于放置被清洗物;第二电极板水平设于两个托板上且位于第一电极板的上方,第一电极板与第二电极板相间隔以容纳被清洗物,第二电极板的下表面设有竖直向下朝向第一电极板的电极隔板,电极隔板用于伸入到两个被清洗物之间。

【技术实现步骤摘要】

本申请属于等离子体清洗,涉及一种放电均匀的等离子体清洗腔


技术介绍

1、等离子体是由部分电子被剥夺后的原子及原子团被电离后产生的正负离子组成的离子化气体状物质,常被视为是除去固、液、气外,物质存在的第四态。

2、等离子体广泛应用于清洗,清洗过程是,在真空的腔体内压力到达一定范同时充入氧、氩、氢等工艺气体,利用高电压将工艺气体电离,生成等离子体,活性等离子体对被清洗物进行物理轰击与化学活化,使被清洗物表面物质变成粒子和气态物质,经过抽真空排出,从而达到清洗目的。

3、现有技术中用于等离子体清洗的腔体,为了在两件电极之间获得较大的空间来放置被清洗物,电极之间的间隔会相距较远,从而使电极对工艺气体的电离效果不理想,而为了增加电离效果增加电压又会提高等离子体发生器的要求,增加能源成本及减少设备的寿命。


技术实现思路

1、为克服相关技术中存在的问题,本申请旨在提供一种放电均匀的等离子体清洗腔,优化电极结构,能够提高电极的放电均匀性,提高对工艺气体的电离效果。

2、本申请是通过如下的技术方案来实现的。

3、本申请的技术方案是提供一种放电均匀的等离子体清洗腔,包括腔体和门板,门板枢接于腔体上,门板与腔体闭合可形成封闭的内腔;内腔的两侧设有可导电且竖直设置的两个托板;

4、还包括设于内腔中的分别电连接电压两极的第一电极板和第二电极板,第一电极板通过绝缘件水平设于两个托板上,第一电极板用于放置被清洗物;第二电极板水平设于两个托板上且位于第一电极板的上方,第一电极板与第二电极板相间隔以容纳被清洗物,第二电极板的下表面设有竖直向下朝向第一电极板的电极隔板,电极隔板用于伸入到两个被清洗物之间。

5、本技术方案的技术效果是,通过在第二电极板的下表面设置导电的电极隔板,电极隔板扩大了第二电极板的导电面积,使得第一电极板与第二电极板之间的放电更加均匀,由于两个两个被清洗物之间的空间较大,工艺气体的流量较大,增加电极隔板有利于充分放电使工艺气体被电离,增加电离效果。

6、作为上述技术方案的实施方式,两个托板的相对一侧均设有相互对应的水平方向的凹槽,绝缘件设置于凹槽内,第一电极板设于绝缘件上,第二电极板的两侧边缘可活动地设置于两件托板的凹槽内。

7、作为上述技术方案的实施方式,内腔的后侧还设有不导电的罩板,罩板上通过绝缘的支撑脚连接电极连接板,电极连接板与第一电极板电性连接,电极连接板还连接有电极接头。

8、作为上述技术方案的实施方式,第一电极板的上表面还设有用于定位被清洗物的定位板。

9、作为上述技术方案的实施方式,门板上设有进气孔,腔体相对于门板的后侧壁设有抽气孔,抽气孔用于连接抽气装置,内腔的工艺气体从进气孔进入后通过抽气孔排出。

10、应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本申请。

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【技术保护点】

1.一种放电均匀的等离子体清洗腔,其特征在于,包括腔体和门板,门板枢接于腔体上,门板与腔体闭合可形成封闭的内腔;内腔的两侧设有可导电且竖直设置的两个托板;

2.根据权利要求1所述的放电均匀的等离子体清洗腔,其特征在于,两个托板的相对一侧均设有相互对应的水平方向的凹槽,绝缘件设置于凹槽内,第一电极板设于绝缘件上,第二电极板的两侧边缘可活动地设置于两件托板的凹槽内。

3.根据权利要求2所述的放电均匀的等离子体清洗腔,其特征在于,内腔的后侧还设有不导电的罩板,罩板上通过绝缘的支撑脚连接电极连接板,电极连接板与第一电极板电性连接,电极连接板还连接有电极接头。

4.根据权利要求1所述的放电均匀的等离子体清洗腔,其特征在于,第一电极板的上表面还设有用于定位被清洗物的定位板。

5.根据权利要求1所述的放电均匀的等离子体清洗腔,其特征在于,门板上设有进气孔,腔体相对于门板的后侧壁设有抽气孔,抽气孔用于连接抽气装置,内腔的工艺气体从进气孔进入后通过抽气孔排出。

【技术特征摘要】

1.一种放电均匀的等离子体清洗腔,其特征在于,包括腔体和门板,门板枢接于腔体上,门板与腔体闭合可形成封闭的内腔;内腔的两侧设有可导电且竖直设置的两个托板;

2.根据权利要求1所述的放电均匀的等离子体清洗腔,其特征在于,两个托板的相对一侧均设有相互对应的水平方向的凹槽,绝缘件设置于凹槽内,第一电极板设于绝缘件上,第二电极板的两侧边缘可活动地设置于两件托板的凹槽内。

3.根据权利要求2所述的放电均匀的等离子体清洗腔,其特征在于,...

【专利技术属性】
技术研发人员:张波
申请(专利权)人:深圳市嘉铭半导体科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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