【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及石英产品加工，具体而言，涉及一种石英环及其加工工艺。
技术介绍
1、石英环是一种由石英材料制成的环形结构，常用于光学应用、精密仪器和微加工和微加工技术中，而石英环在应用过程中对表面粗糙度有很高的要求，一般来说，在光学应用，低粗糙度的表面有助于减小散射和反射，提高光学元件的透明度和性能；在精密仪器中，低粗糙度的表面有助于减小摩擦、磨损和热量产生，从而提高部件的寿命和效率。
2、但是，目前国内石英环加工工艺靠机器进行打磨、抛光，由于缺少合适的研磨剂对，其对于细节地方的打磨、抛光处理不够完善，产品一次合格率不是很理想。
技术实现思路
1、本专利技术旨在解决上述技术问题的至少之一，通过采用研磨剂对石英环进行打磨，一方面可以批量进行，提高加工效率，减少工艺中的问题和停机时间；同时，研磨液有助于提高工件的表面质量，减少划痕和其他缺陷；另一方面，研磨液可以用作冷却剂和润滑剂，降低研磨过程中的摩擦和热量产生，有助于防止工件的过热，提高寿命，并减少热变形对工件的影响。
2、为此，本专利技术提供一种石英环的加工工艺，加工工艺包括以下步骤：s100、将石英原料根据产品特征进行切割，得到石英环胚料；s200、采用第一研磨剂对石英环胚料进行粗磨处理，得到石英环粗抛料；s300、对石英环粗抛料进行加工处理、洗净处理，得到石英环初品；s400、采用第二研磨剂对石英环初品进行精磨处理，得到石英环粗品；s500、将石英环粗品进行检测处理，检测合格之后进行清洗处理，并用气枪吹干，
3、研磨液通过以下步骤制备：
4、s610、将十二烷基磺酸钠、异丁基三乙氧基硅烷、吐温60、壳聚糖、碳化硼、氧化硅和氧化铝混合均匀并加水配制为第一悬浊液，加盐酸调节ph值至4-6，以氧化锆球为研磨介质，对第一悬浊液进行时间为1h-2h的湿法研磨；
5、s620、将海藻酸钠、滑石粉、长石粉、石蜡、山梨醇酐单油酸酯在植物油中混合均匀，配制为第二悬浊液；
6、s630、将第一悬浊液加热至40℃-50℃，向第一悬浊液中滴加第二悬浊液并保温搅拌，滴加完毕后继续保温，并将混合物超声乳化均匀，获得前驱体；s640、将前驱体送入反应釜，在90℃-95℃的温度条件和4mpa-6mpa的压力条件下处理2h-2.5h，泄压冷却，调节ph值至中性，获得研磨液。
7、在本专利技术的一个技术方案中，在s610中，十二烷基磺酸钠：异丁基三乙氧基硅烷：吐温60：壳聚糖：碳化硼：氧化硅：氧化铝：水=（0.1-0.2）：（0.1-0.2）：（4-6）：（4-6）：（10-20）：（15-25）：（25-30）：150；在s620中，海藻酸钠：滑石粉：长石粉：石蜡：山梨醇酐单油酸酯：植物油=（4-6）：（6-8）：（8-10）：（4-6）：（4-6）：120；在s630中，第一悬浊液：第二悬浊液=1:1的质量比。
8、与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：本申请通过采用第一研磨剂与第二研磨剂对石英材料进行打磨，采用研磨液一方面可以批量进行，提高加工效率，减少工艺中的问题和停机时间；同时，研磨液有助于提高工件的表面质量，减少划痕和其他缺陷；另一方面，研磨液可以用作冷却剂和润滑剂，降低研磨过程中的摩擦和热量产生，有助于防止工件的过热，提高寿命，并减少热变形对工件的影响；并且研磨液有助于清除切割过程中产生的切削屑和磨粉，防止它们积聚在工件表面，从而保持研磨的效率和质量。在本专利技术的一个技术方案中，第一研磨剂中，研磨液的含量为2500ml/100l-3000ml/100l，氧化剂的含量为2000ml/100l-2500g/100l，缓冲剂的含量为1000g/100l-1200g/100l，增强剂的含量为1000g/100l-1200g/100l。
9、在本专利技术的一个技术方案中，第二研磨剂中，研磨液的含量为2500ml/100l-3000ml/100l，氧化剂的含量为2000ml/100l-2500g/100l，缓冲剂的含量为1000g/100l-1200g/100l。
10、与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：第一研磨剂中包括研磨液，氧化剂，缓冲剂，增强剂与水，研磨液可以作为研磨液中的分散剂，有助于分散颗粒，提高研磨效率，同时具有稳定乳化和抗氧化的作用，有助于维持研磨液的稳定性；氧化剂的添加可以提高氧含量，促使氧气参与研磨液中的氧化反应，有助于清除有机杂质、氧化金属颗粒，提高研磨液的清洁度和效果；缓冲剂的添加可以维持研磨液的酸碱平衡，防止其过于酸性或碱性，从而保护石英材料，另外适当的酸碱平衡有助于提高石英材料的表面质量；增强剂的加入可能提高研磨液的黏度和粘附性，从而改善其在工件表面的附着性，有助于减小溅射和提高研磨液在研磨过程中的停留时间，从而提高研磨的效率；而在第二研磨液中，则减少了增加剂，一方面是增强剂可能引入化学反应，而不添加增强剂可以减少液体中的复杂化学变化，降低潜在的反应风险；另一方面，增强剂可能引入特定的性质，如黏度增加、粘附性的提高等。
11、作为优选，第一研磨剂与第二研磨剂中各组分含量在上述成分中，对石英材料的打磨最优，可以得到一个合适的表面粗糙度。
12、在本专利技术的一个技术方案中，在步骤s200中，第一研磨剂的研磨液的ph值为8-13；和/或，第一研磨剂的氧化剂包括次氯酸锂或次氯酸钠；和/或，第一研磨剂的增强剂包括kno3、nano3或k2so4；和/或，第一研磨剂的缓冲剂包括氨基酸、磺酸胺、磷酸胺、多元酸中的一种或多种物质。
13、在本专利技术的一个技术方案中，在步骤s400中，第二研磨剂的研磨液的ph值为8-13；和/或，第二研磨剂的氧化剂包括次氯酸锂或次氯酸钠；和/或，第二研磨剂的缓冲剂包括氨基酸、磺酸胺、磷酸胺、多元酸中的一种或多种物质。
14、在本专利技术的一个技术方案中，在s300中，加工处理包括对石英环粗抛料进行打孔处理、倒角处理。
15、与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：对石英环粗抛料进行打孔处理、倒角处理是为了改善石英环的功能、装配与外观，通过合理的打孔处理和倒角处理，可以提高石英环的使用性能和装配质量，满足不同应用场景的需求；同时将加工处理设置在两次研磨处理的中间，可以确保在研磨处理之间完成必要的形状修整和加工特征处理，同时不会过度损伤石英材料表面，同时为最终的研磨处理提供了更好的基础。这种顺序也有助于最大限度地保持工件的尺寸精度和表面质量，并最大程度地减少加工后需要修正的情况发生。
16、在本专利技术的一个技术方案中，在s500中，清洗处理包括：a、采用清洁液进行一次洗涤处理20min-30min；b、采用去离子水洗涤二次洗涤处理20min-30min。
17、与现有技术相比，采用该技术方案所达到的技术效果：使用清洁液对石英环粗品进行第一次洗涤处本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种石英环的加工工艺，其特征在于，所述加工工艺包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，所述第一研磨剂中，研磨液的含量为2500mL/100L-3000mL/100L，氧化剂的含量为2000mL/100L-2500g/100L，缓冲剂的含量为1000g/100L-1200g/100L，增强剂的含量为1000g/100L-1200g/100L。
4.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，所述第二研磨剂中，研磨液的含量为2500mL/100L-3000mL/100L，氧化剂的含量为2000mL/100L-2500g/100L，缓冲剂的含量为1000g/100L-1200g/100L。
5.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，在所述S200中，
6.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，在所述S400中，
7.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，
8.根据权利要求7所述的加工工艺，其特征在于，所述清洁液的制备方法
9.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，
10.一种石英环，其特征在于，所述石英环根据权利要求1-9任一项所述的加工工艺制得。
...【技术特征摘要】
1.一种石英环的加工工艺，其特征在于，所述加工工艺包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，所述第一研磨剂中，研磨液的含量为2500ml/100l-3000ml/100l，氧化剂的含量为2000ml/100l-2500g/100l，缓冲剂的含量为1000g/100l-1200g/100l，增强剂的含量为1000g/100l-1200g/100l。
4.根据权利要求1所述的加工工艺，其特征在于，所述第二研磨剂中，研磨液的含量为2500ml/100l-3000ml/100l，氧化剂的含量为2000ml/100l-25...
【专利技术属性】
技术研发人员：卢旭彬，秦一川，黄海鸥，
申请(专利权)人：宁波云德半导体材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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