【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体器件，尤其涉及一种集成电路的设计方法及系统。
技术介绍
1、随着信息处理需求的不断增长，集成电路设计对性能和能效的需求也不断提升，提高电路性能、降低功耗和增加集成度成为了集成电路设计的重要目标。然而，传统的集成电路设计方法仍存在一些问题，受限于器件微观尺寸和电子能带结构的限制，从而难以满足日益复杂和多样化的应用场景。
技术实现思路
1、基于此，本专利技术有必要提供一种集成电路的设计方法及系统，以解决至少一个上述技术问题。
2、为实现上述目的，一种集成电路的设计方法，包括以下步骤：
3、步骤s1：获取集成电路的量子点半导体材料数据集，并对集成电路的量子点半导体材料数据集进行电子传输性能筛选，以得到量子点传输性能优异材料数据集；对量子点传输性能优异材料数据集进行电子阵列化，以得到量子点半导体材料电子阵列；
4、步骤s2：根据量子点半导体材料电子阵列对集成电路的量子点半导体材料数据集进行量子点异构集成设计，得到量子点异构集成网络；对量子点异...
【技术保护点】
1.一种集成电路的设计方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的集成电路的设计方法，其特征在于，步骤S1包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的集成电路的设计方法，其特征在于，步骤S13中的异常程度计算公式具体为：
4.根据权利要求2所述的集成电路的设计方法，其特征在于，步骤S17包括以下步骤：
5.根据权利要求2所述的集成电路的设计方法，其特征在于，步骤S18包括以下步骤：
6.根据权利要求1所述的集成电路的设计方法，其特征在于，步骤S2包括以下步骤：
7.根据权利要求6所述的集...
【技术特征摘要】
1.一种集成电路的设计方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的集成电路的设计方法，其特征在于，步骤s1包括以下步骤：
3.根据权利要求2所述的集成电路的设计方法，其特征在于，步骤s13中的异常程度计算公式具体为：
4.根据权利要求2所述的集成电路的设计方法，其特征在于，步骤s17包括以下步骤：
5.根据权利要求2所述的集成电路的设计方法，其特征在于，步骤s18包括以下步骤：
6.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员：李广洪，
申请(专利权)人：永耀实业深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：
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