【技术实现步骤摘要】
本技术涉及单晶炉，具体为一种设有泄露引流机构的锗单晶炉。
技术介绍
1、单晶炉是一种通过保护气体进行保护，在加热装置的加热下使得多晶材料融化并拉长成单晶材料，该装置可以用于锗单晶的制作，锗单晶是一种半导体材料，被广泛应用在各种电子设备中。
2、现有技术中，授权公告号为cn204918837u的中国专利公开了一种单晶炉，该单晶炉包括：主炉体；副炉体，装配在所述主炉体的上部；支撑柱，位于所述主炉体与所述副炉体的一侧；连接机构用以连接所述支撑柱与所述副炉体，其中，该连接机构包括旋转轴与连接板，所述旋转轴固定在所述支撑柱的侧壁，所述连接板与副炉体固定连接，与支撑柱转动连接，还包括旋转驱动机构，连接所述连接板，所述旋转驱动机构可驱动连接板带动所述副炉体以垂直于所述旋转轴的轴线方向转动。这样，单晶炉由于旋转驱动机构的存在，工作人员可通过控制旋转驱动机构推动连接板带动副炉体转动，替代了传统意义上要通过人力推动副炉体转动，这样降低了人力的成本，提高了生产效率……
3、上述的装置在使用时利用隔离阀对主炉体和副炉体之间隔断，但是在实际的使用过程中，隔离阀的安装部位因密封圈老化和金属件变形等原因会出现内部保护气体泄露的情况，保护气体的泄露会影响炉体内部的压力值，从而影响装置的正常使用，并且泄露的气体造成一定浪费和环境污染。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种设有泄露引流机构的锗单晶炉，以解决上述
技术介绍
中提出内部保护气体泄露影响正常使用并产生浪费的问题。
2、
3、隔离阀，利用法兰结构固定安装在所述炉盖与所述上炉体之间，所述隔离阀用于隔绝下炉体与上炉体之间的热量传递；
4、提升电机，固定安装在所述上炉体上表面外部，所述提升电机用于将下炉体内部的锗单晶提升至上炉体内部进行冷却；
5、密封罩，贯穿安装在所述上炉体下端外部，所述密封罩上端内环与所述上炉体外表面之间组成密封结构；
6、支撑底座，利用下表面支脚水平放置在地面上，所述支撑底座整体呈“l”形结构，且所述支撑底座与所述上炉体之间利用固定架相互固定连接；
7、安装板，固定安装在所述下炉体下表面，所述安装板用于带动所述下炉体同步移动。
8、优选的，所述密封罩外部安装有用于收集泄露保护气体的收集罐，且所述收集罐通过与之贯穿安装的连接管道与密封罩内部组成连通结构，泄露的保护气体在连接管道的导流作用下进入收集罐中进行收集。
9、优选的，所述上炉体下端外表面固定安装有用于检测保护气体泄露的温度传感器，且所述密封罩上端内壁固定安装有电动滑块。
10、优选的，所述电动滑块与温度传感器之间通过蓝牙信号通讯联动，且所述电动滑块与固定安装在上炉体内部的直线滑杆之间组成上下滑动结构，利用电动滑块在直线滑杆外部的滑动带动密封罩向下移动。
11、优选的，所述炉盖上表面固定安装有耐高温的橡胶圈，且所述橡胶圈与所述密封罩下端内壁之间组成密封结构。
12、优选的，所述安装板下表面中间位置外部固定安装有带有内螺纹结构的滑动套筒，且所述滑动套筒内部贯穿安装有与支撑底座转动连接的传动丝杆，并且所述传动丝杆由驱动电机直接驱动，通过传动丝杆的转动使其外部的滑动套筒带动下炉体移动。
13、与现有技术相比，本技术的有益效果是：该设有泄露引流机构的锗单晶炉，采用新型的结构设计，使得利用温度传感器检测装置内部保护气体的泄露（由于背部温度非常高，所以在保护气体泄露后会使周围温度上升，利用温度传感器检测这一变化），从而使得密封罩覆盖在隔离阀外部，从而利用收集罐对泄露的保护气体进行收集，避免浪费并且提醒工作人员进行检修，其具体内容如下：
14、1、温度传感器、收集罐、电动滑块和橡胶圈之间的配合使用，利用温度传感器检测是否存在内部保护气体的泄露，出现泄露时通过电动滑块在直线滑杆外部的滑动带动密封罩向下移动，此时利用橡胶圈对其进行密封，并且泄露的保护气体在连接管道的导流作用下进入收集罐中进行收集，避免浪费，同时落下的密封罩可以提醒作用人员对装置进行检修。
15、2、滑动套筒、传动丝杆和支撑底座之间的配合使用，利用驱动电机的转动带动传动丝杆发生转动，从而使得传动丝杆外部的滑动套筒带动下炉体移动，从而将其与上炉体之间分离，方便将对内部进行操作，如放入和取出内部锗晶体。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种设有泄露引流机构的锗单晶炉，包括用于对锗单晶进行加热的下炉体（1），所述下炉体（1）上方利用螺栓固定安装有炉盖（2），且所述炉盖（2）上方贯穿安装有呈细长的上炉体（3），其特征在于，还包括：
2.根据权利要求1所述的一种设有泄露引流机构的锗单晶炉，其特征在于：所述密封罩（6）外部安装有用于收集泄露保护气体的收集罐（10），且所述收集罐（10）通过与之贯穿安装的连接管道（11）与密封罩（6）内部组成连通结构。
3.根据权利要求1所述的一种设有泄露引流机构的锗单晶炉，其特征在于：所述上炉体（3）下端外表面固定安装有用于检测保护气体泄露的温度传感器（12），且所述密封罩（6）上端内壁固定安装有电动滑块（13）。
4.根据权利要求3所述的一种设有泄露引流机构的锗单晶炉，其特征在于：所述电动滑块（13）与温度传感器（12）之间通过蓝牙信号通讯联动，且所述电动滑块（13）与固定安装在上炉体（3）内部的直线滑杆（14）之间组成上下滑动结构。
5.根据权利要求1所述的一种设有泄露引流机构的锗单晶炉，其特征在于：所述炉盖（2）上表面固定安装有
6.根据权利要求1所述的一种设有泄露引流机构的锗单晶炉，其特征在于：所述安装板（9）下表面中间位置外部固定安装有带有内螺纹结构的滑动套筒（16），且所述滑动套筒（16）内部贯穿安装有与支撑底座（7）转动连接的传动丝杆（17），并且所述传动丝杆（17）由驱动电机（18）直接驱动。
...【技术特征摘要】
1.一种设有泄露引流机构的锗单晶炉，包括用于对锗单晶进行加热的下炉体（1），所述下炉体（1）上方利用螺栓固定安装有炉盖（2），且所述炉盖（2）上方贯穿安装有呈细长的上炉体（3），其特征在于，还包括：
2.根据权利要求1所述的一种设有泄露引流机构的锗单晶炉，其特征在于：所述密封罩（6）外部安装有用于收集泄露保护气体的收集罐（10），且所述收集罐（10）通过与之贯穿安装的连接管道（11）与密封罩（6）内部组成连通结构。
3.根据权利要求1所述的一种设有泄露引流机构的锗单晶炉，其特征在于：所述上炉体（3）下端外表面固定安装有用于检测保护气体泄露的温度传感器（12），且所述密封罩（6）上端内壁固定安装有电动滑块（13）。
4.根据权利要求3所述的一种设...
【专利技术属性】
技术研发人员：唐安雄，高丽，李光洪，梁小刚，李艳，许海春，邹德刚，唐联云，
申请(专利权)人：昆明汇泉高纯半导材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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