【技术实现步骤摘要】
专利技术属于抛光液，具体涉及一种用于kdp和dkdp晶体水解抛光的抛光液及其制备方法和使用方法。
技术介绍
1、在光学功能晶体材料中，磷酸二氢钾(kdp)晶体具有较高的非线性和激光损伤阈值等优良性能。kdp晶体是高功率激光器的关键晶体材料，常被作为高功率激光器中的光学倍频转换器及光电开关元件的晶体材料，大口径kdp晶体元件是国家重大科学工程惯性约束激光聚变的核心元器件。
2、
3、kdp晶体的超精密加工应满足：无表面层损伤；无表面污染；表面粗糙度低于10nm；面形误差不高于1/6个波长。然而，kdp晶体具有易潮解、脆性大、硬度低、各向异性等一系列难加工特性，给其超精密加工带来了极大的挑战。而传统的化学机械抛光(cmp)，易有难以去除的残留颗粒；单点金刚石飞刀切削(spdf)会给晶体带来的小尺度波纹；离子束抛光(ibf)在加工过程中容易使晶体产生较高的温度梯度；磁流变抛光(mrf)易受到设备中高频噪声的影响，使晶体抛光结果不理想，严重制约了其激光损伤阈值这一关键使役性能指标的提升。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种用于kdp和dkdp晶体水解抛光的抛光液及其制备方法和使用方法。本专利技术针对厚度相同的kdp和dkdp晶体材料，采用上述抛光液能够实现工件表面多余材质的去除与全局纳米级平坦化，避免加工时在晶体材料加工面产生亚表面损伤，提高去除效率，便于后续应用于高功率激光器。
2、本专利技术的目的是通过以下技术方案来实
3、一种用于kdp和dkdp晶体水解抛光的抛光液，其组分包括：
4、
5、进一步地，所述油相包括环己烷、正己烷、单油酸甘油酯、三油酸甘油酯、三辛酸甘油酯中的一种。
6、进一步地，所述分散相溶剂包括异丙醇、乙醇、1-己基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐中的一种。
7、进一步地，所述水相包括双三氟甲磺酞亚胺、磷酸二氢钾水溶液、己内酞胺磷酸盐、纯水中的一种。
8、进一步地，所述表面活性剂包括聚乙二醇辛基苯基醚、壬基酚聚氧乙烯醚、烷基聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚中的一种。
9、进一步地，所述助表面活性剂包括正辛醇、正丁醇、正戊醇、正己醇中的一种。
10、与现有的kdp晶体和dkdp晶体抛光技术相比，本专利技术的有益效果是：
11、本专利技术针对性发展了kdp和dkdp晶体水解抛光工艺，通过挤压、摩擦抛光液水核，使其变形破裂，破裂的水核内部的水分子流出并溶解晶体表面材料，溶解产物在抛光垫的机械作用以及抛光液的流动作用下被不断的带走，加工过程中不会造成亚表面损伤，有效克服了传统单点金刚石飞刀切削带来的小尺度波纹，化学机械抛光带来的难以去除的残留颗粒和离子束抛光导致晶体温度过高等问题。
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1.一种用于KDP和DKDP晶体水解抛光的抛光液，其特征在于，按照重量百分比由以下组分组成：
2.根据权利要求1所述的用于KDP和DKDP晶体水解抛光的抛光液，其特征在于，所述油相包括环己烷、正己烷、单油酸甘油酯、三油酸甘油酯、三辛酸甘油酯中的一种；所述分散相溶剂包括异丙醇、乙醇、1-己基-3-甲基咪哩六氟磷酸盐中的一种；所述水相包括双三氟甲磺酞亚胺、磷酸二氢钾水溶液、己内酞胺磷酸盐、纯水中的一种；所述表面活性剂包括聚乙二醇辛基苯基醚、壬基酚聚氧乙烯醚、烷基聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚中的一种；所述助表面活性剂包括正辛醇、正丁醇、正戊醇、正己醇中的一种。
3.一种用于KDP和DKDP晶体水解抛光的抛光液的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
4.一种权利要求1或2所述的抛光液的使用方法，其特征在于，将所述抛光液置于抛光设备上方，通过滴液的方式经过软管注入到抛光设备的抛光垫上，且所述抛光液的温度保持在20～25℃。
【技术特征摘要】
1.一种用于kdp和dkdp晶体水解抛光的抛光液，其特征在于，按照重量百分比由以下组分组成：
2.根据权利要求1所述的用于kdp和dkdp晶体水解抛光的抛光液，其特征在于，所述油相包括环己烷、正己烷、单油酸甘油酯、三油酸甘油酯、三辛酸甘油酯中的一种；所述分散相溶剂包括异丙醇、乙醇、1-己基-3-甲基咪哩六氟磷酸盐中的一种；所述水相包括双三氟甲磺酞亚胺、磷酸二氢钾水溶液、己内酞胺磷酸盐、纯水中的一种；所述表面活性剂包...
【专利技术属性】
技术研发人员：张振超，嵇文超，顿爱欢，王斌，钱瀚鹏，刘斌，陶光辉，潘向东，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：
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