本发明专利技术涉及类金刚石膜制备技术领域,具体公开了一种类金刚石膜的制备方法与设备,包括:机箱、机壳、转架台、支架和工件,机箱的顶部架设有机壳,且机壳内部的下端活动连接有转架台,转架台的顶部活动连接有支架,且支架的外部套设有工件;支撑机构,支撑机构位于工件的底部,支撑机构包括固定在转架台外壁的固定盘一,且固定盘一的顶部设置有对工件进行支撑的支脚一,工件的底部设置有对工件进行交替支撑的支脚二;通过支脚一与支脚二的交替支撑,利于遮挡部位的露出,从而便于实现工件外表面的全面镀膜,避免出现因支脚一遮挡而出现镀膜不全面的现象,不需要手动调整工件,节省手动调整的时间,使得设备的自动化程度更高。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及类金刚石膜制备,具体为一种类金刚石膜的制备方法与设备。
技术介绍
1、类金刚石膜兼具了金刚石和石墨的优良特性,作为减摩耐磨涂层应用于航空航天、金属加工、医疗器件等众多领域,通过镀膜的方式镀在工件表面形成涂层实现零部件表面改性,镀膜设备包括有真空镀膜室、溅射靶、真空镀膜室底座上的转架台和转架台上的工件架,以及驱动转架台绕转架台的中心轴转动的第一转动系统,温控系统、加热装置、冷却水循环系统和电源控制系统;
2、在镀膜过程中,将待镀膜工件放置在真空镀膜室内部的工件架上,工件架自转,通过加热或溅射的方式将材料蒸发或溅射成气体或离子,然后将气体或离子沉积到样品表面形成薄膜,在对大型法兰盘这类工件进行镀膜时,需要对法兰盘外表面的全部面积镀膜,法兰盘架设在工件架上通过支脚对法兰盘进行支撑,但是,法兰盘与支脚接触的面积被支脚遮挡,此时,气体与离子较难沉积在被遮挡位置的表面,使得法兰盘外表面镀膜的不全面,若打开机壳,手动调整法兰盘与支脚的位置,将未镀膜的位置裸露出,则较为浪费时间。为此,我们提出一种类金刚石膜的制备方法与设备。</p>
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【技术保护点】
1.一种类金刚石膜的制备设备,包括:机箱(1)、机壳(21)、转架台(22)、支架(23)和工件(24),
2.根据权利要求1所述的一种类金刚石膜的制备设备,其特征在于:所述支脚一(32)的底部固定有连接架一(33),且连接架一(33)远离支脚一(32)的一端固定在外环一(34)的外壁,且外环一(34)的底部均匀固定有支杆一(35)。
3.根据权利要求2所述的一种类金刚石膜的制备设备,其特征在于:所述支杆一(35)插设在固定盘一(31)的内部,所述固定盘一(31)的内部开设有与支杆一(35)配合的限位孔一(36),所述支杆一(35)的底部皆固定在外环二(43)的表...
【技术特征摘要】
1.一种类金刚石膜的制备设备,包括:机箱(1)、机壳(21)、转架台(22)、支架(23)和工件(24),
2.根据权利要求1所述的一种类金刚石膜的制备设备,其特征在于:所述支脚一(32)的底部固定有连接架一(33),且连接架一(33)远离支脚一(32)的一端固定在外环一(34)的外壁,且外环一(34)的底部均匀固定有支杆一(35)。
3.根据权利要求2所述的一种类金刚石膜的制备设备,其特征在于:所述支杆一(35)插设在固定盘一(31)的内部,所述固定盘一(31)的内部开设有与支杆一(35)配合的限位孔一(36),所述支杆一(35)的底部皆固定在外环二(43)的表面。
4.根据权利要求1所述的一种类金刚石膜的制备设备,其特征在于:所述支脚二(39)的底部固定在连接架二(38)的表面,且连接架二(38)的底部固定在内环一(37)的表面,所述内环一(37)的底部均匀固定有支杆二(41)。
5.根据权利要求4所述的一种类金刚石膜的制备设备,其特征在于:所述支杆二(41)插设在固定盘一(31)的内部,所述固定盘一(31)的内部开设有与支杆二(41)配合的限位孔二(42),所述支杆二(41)的底部皆固定在内环二(44)的表面。
6.根据权利要求1所述的一种类金刚石膜的制备设备,其特征在于:所述转架台(22)外壁的中部固定有固定盘二(45),且固定盘二(45)的内部分别固定有双向电机一(46)与双向电机二(48),所述双向电机一(46)的两侧输出轴分别设置有螺杆一(47),...
【专利技术属性】
技术研发人员:魏建国,毕凯,段荣飞,
申请(专利权)人:常州锐星源真空科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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