一种QLED器件的后处理方法技术

技术编号:40701982 阅读:25 留言:0更新日期:2024-03-22 11:00
本申请公开了一种QLED器件的后处理方法,包括提供QLED器件,所述QLED器件包括衬底和设置在其上的发光部件;对所述QLED器件进行加热处理;对所述QLED器件进行紫外光照加臭氧处理;采用加热处理及UVO处理对QLED器件进行后处理,从而有效降低器件的驱动电压,进而可以有效提高所述器件的稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及一种qled器件的后处理方法,属于qled领域。


技术介绍

1、量子点发光二极管(qled)通常由阳极、空穴注入/传输层、量子点发光层、电子注入/传输层和阴极这五部分组成。qled的工作原理是在外加电压的驱动下,空穴从阳极注入,电子从阴极注入,通过各自的传输层运输后到达量子点,形成激子复合发光。

2、现有技术中,大部分通过重掺的传输材料来抑制载流子的注入或传输,从而改善qled器件的载流子平衡。由于使用掺杂的传输层,导致器件工作时需要较大的驱动电压,虽然可以改善载流子平衡,但也导致驱动电压升高,而较高的驱动电压对qled器件的稳定性有较大的影响。


技术实现思路

1、针对qled器件电子传输层的缺陷,为了降低器件的驱动电压,根据本申请的一个方面,提供了一种qled器件的后处理方法,包括下列步骤:

2、s1:提供qled器件,所述qled器件包括衬底和设置在其上的发光部件;

3、s2:对所述qled器件进行加热处理;

4、s3:对所述qled器件进行紫外光本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种QLED器件的后处理方法,其特征在于,包括下列步骤:

2.根据权利要求1所述的一种QLED器件的后处理方法,其特征在于,所述步骤S1中所述提供QLED器件的步骤包括:

3.根据权利要求2所述的一种QLED器件的后处理方法,其特征在于,所述量子点发光部件包括层叠的第一电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层和第二电极;

4.根据权利要求3所述的一种QLED器件的后处理方法,其特征在于,所述量子点发光部件还包括电子注入层。

5.根据权利要求4所述的一种QLED器件的后处理方法,其特征在于,所述量子点发光部件中各层的层叠顺序...

【技术特征摘要】

1.一种qled器件的后处理方法,其特征在于,包括下列步骤:

2.根据权利要求1所述的一种qled器件的后处理方法,其特征在于,所述步骤s1中所述提供qled器件的步骤包括:

3.根据权利要求2所述的一种qled器件的后处理方法,其特征在于,所述量子点发光部件包括层叠的第一电极、空穴注入层、空穴传输层、量子点发光层、电子传输层和第二电极;

4.根据权利要求3所述的一种qled器件的后处理方法,其特征在于,所述量子点发光部件还包括电子注入层。

5.根据权利要求4所述的一种qled器件的后处理方法,其特征在于,所述量子点发光部件中各层的层叠顺序依次为:

6.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗大伟曾雪淇蔡江立陈光郎胡海龙李福山叶芸
申请(专利权)人:闽都创新实验室
类型:发明
国别省市:

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