【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及基于分子纳米粒子的反应性倍半硅氧烷及其合成方法、通过将具有化学反应活性的改性倍半硅氧烷作为填料加入到聚酰亚胺前体聚酰胺酸浆料中而得到的聚酰亚胺组合物及其用途，作为该用途，可以列举例如聚酰亚胺薄膜。
技术介绍
1、聚酰亚胺薄膜在电子行业的应用非常广泛，由于聚酰亚胺薄膜具有优异的高温稳定性能和良好的隔电性能，因此常用于制作高温耐久、高稳定性的半导体材料，如集成电路、电容器、电感、超声波探测器等。但由于极性基团的存在，聚酰亚胺材料本身介电常数较高，而介电性能将影响着信号传输性能和器件功率损失等，特别是在高频信号和高速数字信号的传输中的影响是非常突出而严重的。尤其是在显示领域，材料的介电常数往往会影响到显示器件的显示品质和品质稳定性，因此需要一种低介电常数的聚酰亚胺材料。
2、研究发现，在聚合物基体中添加导电填料(如cnt、石墨烯、ag纳米粒子等)或介电常数高的陶瓷填料(如batio3)，可以有效的提高聚合物的介电常数，但这些方法往往存在着许多不足。往往直接添加后在后续成膜过程中添加的无机填料由于表面性质相差过大容易导...
【技术保护点】
1.一种反应性倍半硅氧烷，其特征在于，其由八乙烯基倍半硅氧烷和含巯基官能团的化合物反应制得，中心硅烷共有八个反应位点，具有如下式Ⅰ所示结构：
2.一种合成如权利要求1所述反应性倍半硅氧烷的方法，其特征在于，包括步骤：将八乙烯基倍半硅氧烷和两种不同的含巯基官能团的化合物按一定比例溶解于有机溶剂中，充分溶解后添加引发剂，搅拌均匀后，进行加热反应，反应结束后，经冷却至室温、过滤、洗涤得到固体产物，并用甲醇对固体产物洗涤若干次，再经真空干燥即得反应性倍半硅氧烷产物。
3.根据权利要求2所述的一种反应性倍半硅氧烷的合成方法，其特征在于，所述用于溶解的溶剂...
【技术特征摘要】
1.一种反应性倍半硅氧烷，其特征在于，其由八乙烯基倍半硅氧烷和含巯基官能团的化合物反应制得，中心硅烷共有八个反应位点，具有如下式ⅰ所示结构：
2.一种合成如权利要求1所述反应性倍半硅氧烷的方法，其特征在于，包括步骤：将八乙烯基倍半硅氧烷和两种不同的含巯基官能团的化合物按一定比例溶解于有机溶剂中，充分溶解后添加引发剂，搅拌均匀后，进行加热反应，反应结束后，经冷却至室温、过滤、洗涤得到固体产物，并用甲醇对固体产物洗涤若干次，再经真空干燥即得反应性倍半硅氧烷产物。
3.根据权利要求2所述的一种反应性倍半硅氧烷的合成方法，其特征在于，所述用于溶解的溶剂为三氯甲烷、四氢呋喃或三氟甲基苯的一种或者多种混合物。
4.根据权利要求2所述的一种反应性倍半硅氧烷的合成方法，其特征在于，所述八乙烯基倍半硅氧烷和两种含巯基官能团的非芳香化合物的摩尔比为1∶(8～16)。
5.根据权利要求2所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：倪波，张志远，赵冬兵，张帅林，陈超，
申请(专利权)人：苏州聚萃材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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