【技术实现步骤摘要】
本技术属于高纯三氟化氮电子特气,具体涉及一种三氟化氮的纯化系统。
技术介绍
1、三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂,三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,高纯三氟化氮对氧化硅和硅具有优异的蚀刻速率和选择性,它在蚀刻时,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
2、在用熔盐电解法生成的三氟化氮粗品中含有多种杂质成分(h2o、hf、co2、n2o等),纯化方法种类有:低温精馏法、共沸精馏法、化学吸收法、化学转化法、选择吸附法及几种方法联用。由于电解制得三氧化氨粗品气体所含杂质的多样性,同时也为了实现生产的连续性,实际生产中大多同时采用以上几种方法联用。通过各种方法的联用可以有效去除粗品中多种杂质,实现工业化稳定生产,但是在生产过程中三氟化氮需要经过碱洗塔、还原塔、除水塔、收集塔、精馏塔,这个过程中收集塔负压会波动,影响三氟化氮产量,收集塔在液化排轻过程中时间较长,物料易损失。
技术实现思路
1、本技术要解决的技术问题是:克服现有技术的不足,提供一种三氟化氮的纯化系统,在还原塔和除水塔之间设置水环抽空泵,不再由收集塔提供负压,而是由工序前的还原塔提供负压,不会造成负压波动影响进料,且在还原塔之后均为正压出料直接进入精馏塔,节约成本,减少物料损失。
2、本技术的技术方案为:
3、三氟化氮的纯化系统,包括通过管路依次连通的碱洗塔
4、优选的,除水塔还连接有除水塔冷却器。
5、优选的,水环抽空泵排气口进入除水塔为正压,压力为20~100kpa。
6、优选的,水环抽空泵排气口压力大于0.25mpa,水环抽空泵停泵。
7、优选的,所述碱洗塔和还原塔的压力为-5~-50kpa。
8、优选的,物料三氟化氮在粗品膜压机一中升压至0.2~1.0mpa。
9、本技术与现有技术相比,具有以下有益效果:
10、1.本技术在还原塔和除水塔之间设置水环抽空泵,不再由收集塔一或收集塔二提供负压,而是由工序前的还原塔提供负压,不会造成负压波动影响进料,且在还原塔之后均为正压出料直接进入精馏塔,以前收集塔一或收集塔二工作步骤的时间大大缩短,物料不经收集塔一或收集塔二直接进精馏;只有三氟化氮流量过高时切入收集塔一或收集塔二缓冲存放,不会造成物料损失,此套纯化系统可以省去收集塔一或收集塔二操作步骤时间,节约成本,减少物料浪费,提高生产效率;2.收集塔一或收集塔二无需使用液氮降温和排轻过程,节约成本,减少物料损失;3.设置多组精馏塔蒸馏出不同的组分,使最终制得的三氟化氮纯度更高,设置第一精馏塔、第二精馏塔、第五精馏塔、第六精馏塔和第八精馏塔对h2、n2、o2等轻组分蒸出,设置第三精馏塔、第七蒸馏塔和第九精馏塔对co2、n2o等重组分蒸出,保证最终制得的三氟化氮的纯度。
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1.三氟化氮的纯化系统,其特征在于:包括通过管路依次连通的碱洗塔(1)、还原塔(2)、水环抽空泵(3)、除水塔(4)、低温除水冷却器(5)、三氟化氮缓冲罐一(6)、粗品膜压机一(7)、第一精馏预冷器(9)、第一精馏塔(10)、第二精馏塔(11)、第三精馏塔(12)、第四精馏塔(13)和第一成品罐(14);碱洗塔(1)设置有三氟化氮电解物料入口管路(101);
2.如权利要求1所述的三氟化氮的纯化系统,其特征在于:除水塔(4)还设置有除水塔冷却器。
3.如权利要求1所述的三氟化氮的纯化系统,其特征在于:水环抽空泵(3)排气口进入除水塔(4)为正压,压力为20~100KPa。
4.如权利要求1所述的三氟化氮的纯化系统,其特征在于:水环抽空泵(3)排气口压力大于0.25Mpa,水环抽空泵(3)停泵。
5.如权利要求1所述的三氟化氮的纯化系统,其特征在于:所述碱洗塔(1)和还原塔(2)的压力为-5~-50KPa。
6.如权利要求1所述的三氟化氮的纯化系统,其特征在于:物料三氟化氮在粗品膜压机一(7)中升压至0.2~1.0MPa。
...【技术特征摘要】
1.三氟化氮的纯化系统,其特征在于:包括通过管路依次连通的碱洗塔(1)、还原塔(2)、水环抽空泵(3)、除水塔(4)、低温除水冷却器(5)、三氟化氮缓冲罐一(6)、粗品膜压机一(7)、第一精馏预冷器(9)、第一精馏塔(10)、第二精馏塔(11)、第三精馏塔(12)、第四精馏塔(13)和第一成品罐(14);碱洗塔(1)设置有三氟化氮电解物料入口管路(101);
2.如权利要求1所述的三氟化氮的纯化系统,其特征在于:除水塔(4)还设置有除水塔冷却器。
3.如权利要求1所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙学建,王彬,周富,额尔敦毕力格,邸超,苏宇鹏,靳宇,王磊,
申请(专利权)人:南大光电乌兰察布有限公司,
类型:新型
国别省市:
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