去除三氟化氮气体中杂质的新型设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种去除三氟化氮气体中杂质的新型设备，属于气体除杂技术领域。包括塔釜，塔釜下部设置支架，塔釜外周设置冷却装置，塔釜顶部设置塔柱，塔柱顶部设置内部中空的消泡罐，塔釜、塔柱和消泡罐内部连通，消泡罐顶部设置出料口，塔柱上部设置喷淋入口，塔柱下部设置进料口。本实用新型专利技术降低了塔釜温度，减少了物料带液情况，提高了三氟化氮气体的纯度。度。度。

【技术实现步骤摘要】
去除三氟化氮气体中杂质的新型设备


[0001]本技术涉及一种去除三氟化氮气体中杂质的新型设备，属于气体除杂


技术介绍

[0002]三氟化氮(NF3)气体是近年来发展迅速的一种微电子工业原料，是信息产业中优良的等离子蚀刻和清洗气体。NF3气体用于干法刻蚀时，可提高晶片制造中的自动化水平，减轻劳动强度，增大安全系数，具有高蚀刻速率、高选择性和污染物残留小的优点。对硅等半导体材料，尤其是厚度小于1.5um的集成电路材料，NF3比其它气体具有更加优秀的蚀刻速度和选择性。其作为一种气体清洗剂时，清洗速度快、效率高且清洗彻底又不留痕迹，因此市场应用前景广阔。
[0003]NF3粗品气中的多氟化物(NxFy)杂质经热解塔分解后，产生氮气和氟气(F2)，F2易与还原性物质和金属发生反应而放热，该反应热会进一步促使NF3裂解，最终引起大规模的氧化还原反应而引发爆炸，为此在纯化过程中需先用水洗的方法去除裂解后的F2，传统水洗塔在使用过程经常被烧坏，并且带液现象严重。

技术实现思路

[0004]本技术要解决的技术问题是：克服现有技术的不足，提供一种去除三氟化氮气体中杂质的新型设备，降低了塔釜温度，减少了物料带液情况，提高了三氟化氮气体的纯度。
[0005]本技术所述的一种去除三氟化氮气体中杂质的新型设备，包括塔釜，塔釜下部设置支架，塔釜外周设置冷却装置，塔釜顶部设置塔柱，塔柱顶部设置内部中空的消泡罐，塔釜、塔柱和消泡罐内部连通，消泡罐顶部设置出料口，塔柱上部设置喷淋入口，塔柱下部设置进料口。
[0006]所述的塔柱内设置填料。填料可以让气液更好的接触，洗去物料中的杂质，提升物料的品质。
[0007]所述的消泡罐内设置网筛机构。网筛结构可以更加有效的消除气泡，减少物料带液情况。
[0008]所述的消泡罐与塔柱顶部焊接。提高消泡罐与塔柱连接的可靠性。
[0009]所述的冷却装置包括设置在塔釜外周的循环水夹套，循环水夹套底部设置循环水进口，循环水夹套顶部设置循环水出口。循环水遵循下进上出原则，循环水可以有效降低水洗塔的温度，减少塔釜被物料烧毁的次数，有效提高设备的使用寿命。
[0010]所述的循环水夹套上壁与塔釜外周外形相适配。增大循环水夹套与塔釜接触面积，增大循环水降低水洗塔温度的能力。
[0011]与现有技术相比，本技术的有益效果为：
[0012]本技术降低了塔釜温度，减少了物料带液情况，提高了三氟化氮气体的纯度。
附图说明
[0013]图1是本技术的主视结构示意图；
[0014]图中：1、喷淋入口；2、消泡罐；3、出料口；4、塔柱；5、进料口；6、塔釜；7、循环水进口；8、打酸口；9、支架；10、循环水夹套；11、循环水出口；12、补液口；13、填料。
具体实施方式
[0015]下面结合实施例对本技术做进一步描述：
[0016]实施例1
[0017]如图1所示，本技术所述的一种去除三氟化氮气体中杂质的新型设备，包括塔釜6，塔釜6下部设置支架9，将塔釜6外周设置冷却装置，塔釜6顶部设置塔柱4，塔柱4顶部设置内部中空的消泡罐2，塔釜6、塔柱4和消泡罐2内部连通，消泡罐2顶部设置出料口3，塔柱4上部设置喷淋入口1，塔柱4下部设置进料口5。塔釜6上设置打酸口8，打酸口8用于将塔釜6内溶液排出，塔釜6上还设置补液口12，当塔釜6内液体过少时，从补液口12加入液体。
[0018]工作过程及工作原理：
[0019]将本技术安装于裂解塔出料口3处，三氟化氮气体从进料口5进入塔柱4，液体以雾状(或小液滴)从塔柱4顶部的喷淋入口1向下喷淋，废气将从塔体内与液体接触，纯化后的三氟化氮气体从出料口3流出，带有杂质的液体流入塔釜6，冷却装置对塔釜6进行冷却。
[0020]与现有技术相比，本技术的有益效果为：
[0021]本技术降低了塔釜6温度，减少了物料带液情况，提高了三氟化氮气体的纯度。
[0022]实施例2
[0023]如图1所示，本技术所述的一种去除三氟化氮气体中杂质的新型设备，包括塔釜6，塔釜6下部设置支架9，塔釜6外周设置冷却装置，塔釜6顶部设置塔柱4，塔柱4顶部设置内部中空的消泡罐2，塔釜6、塔柱4和消泡罐2内部连通，消泡罐2顶部设置出料口3，塔柱4上部设置喷淋入口1，塔柱4下部设置进料口5。塔釜6上设置打酸口8，打酸口8用于将塔釜6内溶液排出，塔釜6上还设置补液口12，当塔釜6内液体过少时，从补液口12加入液体。
[0024]本实施例中，
[0025]所述的塔柱4内设置填料13。填料13可以让气液更好的接触，洗去物料中的杂质，提升物料的品质。
[0026]所述的消泡罐2内设置网筛机构。网筛结构可以更加有效的消除气泡，减少物料带液情况。
[0027]所述的消泡罐2与塔柱4顶部焊接。提高消泡罐2与塔柱4连接的可靠性。
[0028]所述的冷却装置包括设置在塔釜6外周的循环水夹套10，循环水夹套10底部设置循环水进口7，循环水夹套10顶部设置循环水出口11。循环水遵循下进上出原则，循环水可以有效降低水洗塔的温度，减少塔釜6被物料烧毁的次数，有效提高设备的使用寿命。
[0029]所述的循环水夹套10上壁与塔釜6外周外形相适配。增大循环水夹套10与塔釜6接触面积，增大循环水降低水洗塔温度的能力。
[0030]工作过程及工作原理：
[0031]将本技术安装于裂解塔出料口3处，三氟化氮气体从进料口5进入塔柱4，液体以雾状(或小液滴)从塔柱4顶部的喷淋入口1向下喷淋，废气将从塔体内与液体接触，纯化后的三氟化氮气体从出料口3流出，带有杂质的液体流入塔釜6，将循环水源源不断的从循环水进口7装入循环水夹套10，当循环水夹套10内的水满后从循环水出口11流出，待循环水冷却后，再次从循环水进口7装入循环水夹套10，如此循环实现对塔釜6的冷却。
[0032]与现有技术相比，本技术的有益效果为：
[0033]本技术降低了塔釜6温度，减少了物料带液情况，提高了三氟化氮气体的纯度。
[0034]本技术中对结构的方向以及相对位置关系的描述，如前后左右上下的描述，不构成对本技术的限制，仅为描述方便。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种去除三氟化氮气体中杂质的新型设备，其特征在于，包括塔釜(6)，塔釜(6)下部设置支架(9)，塔釜(6)外周设置冷却装置，塔釜(6)顶部设置塔柱(4)，塔柱(4)顶部设置内部中空的消泡罐(2)，塔釜(6)、塔柱(4)和消泡罐(2)内部连通，消泡罐(2)顶部设置出料口(3)，塔柱(4)上部设置喷淋入口(1)，塔柱(4)下部设置进料口(5)。2.根据权利要求1所述的去除三氟化氮气体中杂质的新型设备，其特征在于，塔柱(4)内设置填料(13)。3.根据权利要求1所述的去除三氟化氮气体中杂质的新型设备，其特征在于，消...

【专利技术属性】
技术研发人员：王彬，孔令智，吴洋，郭宏，刘丙德，任晓阳，邸超，
申请(专利权)人：南大光电乌兰察布有限公司，
类型：新型
国别省市：