一种气体除杂装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及六氟化钨气体制备领域，特别涉及一种气体除杂装置。包括填料塔，以及设置于填料塔上端和下端的喷淋口和出液口，所述填料塔的内部设置有两组填料支撑板，填料塔的内部且位于填料支撑板之间设置有均匀分液结构，所述均匀分液结构包括固定盆，所述固定盆架设于填料塔的内壁中间位置。所述的一种气体除杂装置，通过填料支撑板落下来的液体收集在固定盆的表面，且利用预留槽将液体均匀落到下方，避免液体集中在一处流出造成液体分布不均匀的情况，使得液体被分散台阶分散开来，溅出的液体更加均匀，均匀流下的液体被再次分散，使得液体分散更加均匀和分散范围更加的广泛，使得下一层的填料支撑板的填料可以均匀淋到液体。液体。液体。

【技术实现步骤摘要】
一种气体除杂装置


[0001]本技术涉及六氟化钨气体制备领域，特别涉及一种气体除杂装置。

技术介绍

[0002]六氟化钨，是一种无机化合物，常温常压下为无色气体，溶于多数有机溶剂，经过初步净化后，六氟化钨气体中还含有少量的易挥发性杂质气体和部分非挥发性金属杂质，可采用填料式精馏塔进行深度净化。
[0003]现有净化六氟化钨气体用的填料式精馏塔中间需要通过液体分布器将填料流下的液体进行再次分布，从而使得液体重新均匀分布到下一层的填料中，但是从上一层的填料落下的液体通过液体分布器分布存在一定的弊端，上方的液体流出的分量比较少或者比较多时，会导致分布器不同位置的液体流下的分量也不同，使得下一层的填料流入的液体不均匀，造成吸附气体中的杂质不彻底，且液体过多或过少容易集聚在一处流出，造成液体不能均匀布置在下一层的填料中。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的在于提供一种气体除杂装置，可以有效解决
技术介绍
中提出的技术问题。
[0005]为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：
[0006]所述的气体除杂装置，包括填料塔，以及设置于填料塔上端和下端的喷淋口和出液口，所述填料塔的内部设置有两组填料支撑板，填料塔的内部且位于填料支撑板之间设置有均匀分液结构，所述均匀分液结构包括固定盆，所述固定盆架设于填料塔的内壁中间位置，所述固定盆的表面开设有若干预留槽，所述固定盆的表面且位于每个预留槽的顶端处设置有凸台，固定盆的底端边缘焊接有三个连接杆，且连接杆之间焊接有固定板。
[0007]优选的，所述填料塔的内壁且位于固定盆处开设有阶梯口，且固定盆架设于阶梯口处。
[0008]优选的，每个所述预留槽顶端的凸台水平高度均相同，所述预留槽的截面形状呈倒八字形。
[0009]优选的，所述固定板的表面设置有分散结构，所述分散结构包括透水孔，所述透水孔开设于固定板的表面，固定板的表面且位于每一个预留槽的正下方焊接有固定杆，且每个固定杆的端部均焊接有分散台阶，且分散台阶的位置与预留槽的位置一一对齐。
[0010]优选的，所述固定板的表面且位于固定杆处设置有光滑面，且固定杆焊接于光滑面的表面。
[0011]优选的，所述分散台阶的截面形状呈八字形，且预留槽底端的尺寸小于分散台阶顶端的尺寸。
[0012]与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：
[0013]1.本技术中设置有均匀分液结构，通过填料支撑板落下来的液体收集在固定
盆的表面，且利用预留槽将液体均匀落到下方，避免液体集中在一处流出造成液体分布不均匀的情况。
[0014]2.本技术设置有分散结构，落下来的液体与分散台阶进行接触，从而使得液体被分散台阶分散开来，溅出的液体更加均匀，均匀流下的液体被再次分散，使得液体分散更加均匀和分散范围更加的广泛，使得下一层的填料支撑板的填料可以均匀淋到液体。
附图说明
[0015]图1为本技术一种气体除杂装置的整体结构示意图；
[0016]图2为本技术一种气体除杂装置的均匀分液结构分散结构示意图；
[0017]图3为本技术一种气体除杂装置的均匀分液结构示意图；
[0018]图4为本技术一种气体除杂装置的分散结构示意图；
[0019]图中：1、填料塔；2、填料支撑板；3、均匀分液结构；4、分散结构；5、喷淋口；6、出液口；31、固定盆；32、固定板；33、连接杆；34、凸台；35、预留槽；41、透水孔；42、固定杆；43、分散台阶。
具体实施方式
[0020]为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。
[0021]如图1
‑
4所示，所述的气体除杂装置，包括填料塔1，以及设置于填料塔1上端和下端的喷淋口5和出液口6，填料塔1的内部设置有两组填料支撑板2，填料塔1的内部且位于填料支撑板2之间设置有均匀分液结构3，均匀分液结构3包括固定盆31，固定盆31架设于填料塔1的内壁中间位置，固定盆31的表面开设有若干预留槽35，固定盆31的表面且位于每个预留槽35的顶端处设置有凸台34，固定盆31的底端边缘焊接有三个连接杆33，且连接杆33之间焊接有固定板32，通过填料支撑板2落下来的液体收集在固定盆31的表面，且利用预留槽35将液体均匀落到下方，避免液体集中在一处流出造成液体分布不均匀的情况。
[0022]填料塔1的内壁且位于固定盆31处开设有阶梯口，且固定盆31架设于阶梯口处，可以将均匀分液结构3放置在填料塔1的内壁中。
[0023]每个预留槽35顶端的凸台34水平高度均相同，预留槽35的截面形状呈倒八字形，液体聚集在固定盆31的内部，待液体超过凸台34的高度时可以将液体从每个预留槽35处流下，流下的液体比较均匀。
[0024]固定板32的表面设置有分散结构4，分散结构4包括透水孔41，透水孔41开设于固定板32的表面，固定板32的表面且位于每一个预留槽35的正下方焊接有固定杆42，且每个固定杆42的端部均焊接有分散台阶43，且分散台阶43的位置与预留槽35的位置一一对齐，从预留槽35处流下的液体从经过分散台阶43向外散开或者溅出，从而使得液体滴落到各个部位。
[0025]固定板32的表面且位于固定杆42处设置有光滑面，且固定杆42焊接于光滑面的表面，保证固定杆42焊接在固定板32的表面。
[0026]分散台阶43的截面形状呈八字形，且预留槽35底端的尺寸小于分散台阶43顶端的尺寸，保证液体从各个预留槽35落到分散台阶43的表面。
[0027]在需要对六氟化钨气体进行净化时，在诸多杂质中存在少量的易挥发性杂质气体和部分非挥发性金属杂质，可采用填料式精馏塔进行深度净化，将气体从填料塔1的底端进气孔通入填料塔1中，并经过填料支撑板2上方的填料吸附其中杂质，并且通过向喷淋口5中注射试剂，并通过喷头向填料支撑板2上方的药剂，从而可以使得杂质从六氟化钨气体中分离杂质，期间喷洒的液体可以通过均匀分液结构3进行分散，具体为，经过上方填料支撑板2的液体会流到固定盆31的内部，待固定盆31的表面积累较多的液体时，液体会从凸台34中漫出并从预留槽35中流出，通过填料支撑板2落下来的液体收集在固定盆31的表面，且利用预留槽35将液体均匀落到下方，避免液体集中在一处流出造成液体分布不均匀的情况，由于固定盆31和固定板32之间存在一定的距离，落下的液体会抵在分散台阶43的表面，从而使得分散台阶43的液体被溅到固定板32的表面，落下来的液体与分散台阶43进行接触，从而使得液体被分散台阶43分散开来，溅出的液体更加均匀，均匀流下的液体被再次分散，使得液体分散更加均匀和分散范围更加的广泛，使得下一层的填料支撑板2的填料可以均匀淋到液体。
[0028]以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气体除杂装置，其特征在于：包括填料塔(1)，以及设置于填料塔(1)上端和下端的喷淋口(5)和出液口(6)，所述填料塔(1)的内部设置有两组填料支撑板(2)，填料塔(1)的内部且位于填料支撑板(2)之间设置有均匀分液结构(3)，所述均匀分液结构(3)包括固定盆(31)，所述固定盆(31)架设于填料塔(1)的内壁中间位置，所述固定盆(31)的表面开设有若干预留槽(35)，所述固定盆(31)的表面且位于每个预留槽(35)的顶端处设置有凸台(34)，固定盆(31)的底端边缘焊接有三个连接杆(33)，且连接杆(33)之间焊接有固定板(32)。2.根据权利要求1所述的一种气体除杂装置，其特征在于：所述填料塔(1)的内壁且位于固定盆(31)处开设有阶梯口，且固定盆(31)架设于阶梯口处。3.根据权利要求2所述的一种气体除杂装置，其特征在于：每个所述预留槽(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：温娜，马雷，毕伟革，范忠敏，魏秀瑾，郭英，王大兵，
申请(专利权)人：南大光电乌兰察布有限公司，
类型：新型
国别省市：