【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于薄膜厚度测试，特别涉及一种用于大面积膜厚测量的姿态反馈与调整装置。
技术介绍
1、随着大面积光学器件在天文、通信、激光等领域的广泛应用，在大面积基底表面具有制备百纳米级厚度透明光刻胶薄膜的需求。光刻胶膜厚均匀性制约了后续刻蚀、镀膜等工艺的精度，直接影响了光学器件性能。因此需要对薄膜进行精细连续扫描测试，以掌握大面积薄膜的整体厚度分布。在非接触式的膜厚测量方法中，透明百纳米级厚度的薄膜多采用白光反射光谱法进行测量。白光反射光谱法测试原理需要入射光垂直照射到待测薄膜表面，薄膜上下表面的反射光发生干涉并垂直反射回出光口，传输至摄谱仪后进行数据分析。若入射、反射光路与待测表面产生倾斜，会使返回出光口的光强减弱，导致膜厚测试中产生极大的误差。然而在大面积薄膜厚度的测试中，长行程位移精度、光学器件放置精度以及长导轨机构挠度等影响都将不可避免的使入射光与被测表面之间相对角度与测试距离变化。在大面积薄膜厚度测试中无法避免上述误差。
技术实现思路
1、为解决现有技术存在的上述问题，本专利技术要...
【技术保护点】
1.一种用于大面积膜厚测量的姿态反馈与调整装置，其特征在于：包括膜厚仪(1)、移动模块、姿态监测模块与姿态调整模块；所述膜厚仪(1)和姿态调整模块分别安装在移动模块上，所述姿态监测模安装在膜厚仪(1)上；
2.根据权利要求1所述一种用于大面积膜厚测量的姿态反馈与调整装置，其特征在于：所述柔性缓冲单元(7)包括层叠结构、空气或流体填充结构、可变刚性结构或复合材料结构。
3.根据权利要求1所述一种用于大面积膜厚测量的姿态反馈与调整装置，其特征在于：所述距离调节单元(3)包括螺纹调节单元、滑块调节单元、气动调节单元、液压调节单元或弹簧调节单元。>
4.根据权利...
【技术特征摘要】
1.一种用于大面积膜厚测量的姿态反馈与调整装置，其特征在于：包括膜厚仪(1)、移动模块、姿态监测模块与姿态调整模块；所述膜厚仪(1)和姿态调整模块分别安装在移动模块上，所述姿态监测模安装在膜厚仪(1)上；
2.根据权利要求1所述一种用于大面积膜厚测量的姿态反馈与调整装置，其特征在于：所述柔性缓冲单元(7)包括层叠结构、空气或流体填充结构、可变刚性结构或复合材料结构。
3.根据权利要求1所述一种用于大面积膜厚测量的姿态反馈与调整装置，其特征在于：所述距离调节单元(3)包括螺纹调节单元、滑块调节单元、气动调节单元、液压调节单元或弹簧调节单元。
4.根据权利要求1所述一种用于大面积膜厚测量的姿态反馈与调整装置，其特征在于：所述出光口(12)发出的入射光与膜厚仪(1)外壳、固定环(4)...
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