【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及晶圆工件台高度控制，具体涉及一种晶圆工件台高度自适应控制方法及控制系统。
技术介绍
1、电子束晶圆量测设备若要输出稳定的电子束扫描图像，则要求在电子束扫描的过程中保持晶圆表面的高度稳定，但在整个工作过程中，随着承载晶圆的工件台进行位置移动，由于机械结构、驱动部件稳定性、晶圆平面度等因素的影响，接受电子束扫描的晶圆区域，其表面的高度会出现一定的变化，此时则需要尽可能消除高度变化，才能保证电子束扫描成像的稳定。
2、目前，电子束晶圆量测设备普遍使用三角测高法对高度进行直接测量或者估算，再依据得到高度偏差数据控制微动机构对高度偏差进行补偿；其中，三角测高法一般使用单点测量、光栅图像投影测量等，微动结构一般使用自闭环控制器、查表、插值逼近等控制方式。
3、但是，在设备的实际工作过程中由于晶圆的材质、电路图形的设计、工艺节点等条件的变化，难以保证经过晶圆反射后的光学信号或光学图像的一致性和成像质量，这将导致高度测量或估算的偏差增大，甚至失效，且控制量一般直接输出至驱动单元，往往会造成工件台的大幅度震荡，收敛时...
【技术保护点】
1.一种晶圆工件台高度自适应控制方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种晶圆工件台高度自适应控制方法，其特征在于：所述光栅由至少两组的周期性栅格组成，各组周期性栅格的周期具有一定差异，使得在晶圆表面高度变化的全范围内，光栅图像具有唯一性。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆工件台高度自适应控制方法，其特征在于，步骤S3的具体方法为：
4.根据权利要求3所述的一种晶圆工件台高度自适应控制方法，其特征在于，步骤S33计算位置P1的方法还可以为：在目标特征图中逐一截取与基准特征图长度相同的部分，计算两组特征的相关度，得...
【技术特征摘要】
1.一种晶圆工件台高度自适应控制方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种晶圆工件台高度自适应控制方法，其特征在于：所述光栅由至少两组的周期性栅格组成，各组周期性栅格的周期具有一定差异，使得在晶圆表面高度变化的全范围内，光栅图像具有唯一性。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆工件台高度自适应控制方法，其特征在于，步骤s3的具体方法为：
4.根据权利要求3所述的一种晶圆工件台高度自适应控制方法，其特征在于，步骤s33计算位置p1的方法还可以为：在目标特征图中逐一截取与基准特征图长度相同的部分，计算两组特征的相关度，得到相关度曲线，计算出相关度曲线中相关度值的一阶梯度并进行数学模型拟合，得到拟合曲线，拟合曲线的过零点为位置p1。
5.根据权利要求1所述的一种晶圆工...
【专利技术属性】
技术研发人员：马如豹，刘鹏，吕成林，赵焱，刘玉平，
申请(专利权)人：苏州矽视科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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