【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光刻胶，更具体地说，它涉及一种248nm正型光刻胶及其制备方法。
技术介绍
1、光刻胶是用来将图像转印到基材上的光敏膜，是集成电路制作所需的关键性材料，随着集成电路的发生而不断更新换代，对光刻胶分辨率的要求也不断提高。新一代krf248nm光刻胶主要是在成膜树脂中添加光敏剂、其他辅助试剂合成，使用化学增强技术形成的光刻剂体系。负型光刻胶由于存在溶胀问题，导致分辨率受到限制，因此，krf248nm正型光刻胶得到人们的青睐。
2、传统248nm正型光刻胶主要以聚对羟基苯乙烯作为成膜树脂，但是传统的聚对羟基苯乙烯在光刻胶生产和使用过程中，与硅片附着力较差、尺寸易收缩的问题，从而影响光刻胶的分辨率。
技术实现思路
1、为了改善成膜树脂对光刻胶分辨率的影响，本申请提供一种248nm正型光刻胶及其制备方法。
2、第一方面，本申请提供一种248nm正型光刻胶，采用如下的技术方案：
3、一种248nm正型光刻胶，包括以下重量份的原料：成膜树脂20-30份，光酸...
【技术保护点】
1.一种248nm正型光刻胶，其特征在于，包括以下重量份的原料：成膜树脂20-30份，光酸发生剂0.4-0.8份，有机碱0.03-0.05份，表面活性剂0.03-0.05份，溶剂60-80份；所述成膜树脂为聚氨酯丙烯酸酯共聚物和丙烯酸酯共聚物中的一种。
2.根据权利要求1所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述光刻胶固体含量为10-25%。
3.根据权利要求1所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述溶剂为丙二醇甲醚乙酸酯和醋酸戊酯中的一种。
4.根据权利要求1所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述表面活性剂为脂肪醇OE...
【技术特征摘要】
1.一种248nm正型光刻胶，其特征在于，包括以下重量份的原料：成膜树脂20-30份，光酸发生剂0.4-0.8份，有机碱0.03-0.05份，表面活性剂0.03-0.05份，溶剂60-80份；所述成膜树脂为聚氨酯丙烯酸酯共聚物和丙烯酸酯共聚物中的一种。
2.根据权利要求1所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述光刻胶固体含量为10-25%。
3.根据权利要求1所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述溶剂为丙二醇甲醚乙酸酯和醋酸戊酯中的一种。
4.根据权利要求1所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述表面活性剂为脂肪醇oe-op嵌段共聚物。
5.根据权利要求1所述的248nm正型光刻胶，其特征在于，所述聚氨酯丙烯酸酯共聚物包括以下重量份的原料：聚醚多元醇40-60份，异氰酸酯1...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐亮，陈韦帆，林书玮，俞凯文，
申请(专利权)人：瑞红苏州电子化学品股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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