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本申请涉及光刻胶技术领域，具体公开了一种248nm正型光刻胶及其制备方法。一种248nm正型光刻胶，包括以下重量份的原料：成膜树脂20‑30份，光酸发生剂0.4‑0.8份，有机碱0.03‑0.05份，表面活性剂0.03‑0.05份，溶剂60...该专利属于瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司授权不得商用。
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