【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电磁散射特性测量，尤其涉及一种用于暗室背景电平评估测试的低散射载体。
技术介绍
1、暗室rcs测量首先要测量空场获得背景电平响应，在泡沫支架支撑时，需通过低散射评估设备加载获得在目标测试状态下的背景散射量级，在低散射金属支架支撑时，由于支架顶部存在二维转台，如不加以有效遮挡，背景散射测试将无法进行。
2、因此，针对以上不足，需要提供一种用于暗室背景电平评估测试的低散射载体。
技术实现思路
1、(一)要解决的技术问题
2、本专利技术要解决的技术问题是解决如何降低二维转台外表面的镜面反射、棱边绕射等产生的行波散射的问题。
3、(二)技术方案
4、为了解决上述技术问题，本专利技术提供了一种用于暗室背景电平评估测试的低散射载体，包括表壳、前吊点、后吊点和接口，表壳为水滴形结构，表壳长度方向一侧宽度大的部分为前端部，表壳长度方向另一侧宽度窄的部分为后端部，表壳底部为平面，表壳顶部为曲面，前吊点布置在前端部顶部，两个后吊点间隔布置在后端部两...
【技术保护点】
1.一种用于暗室背景电平评估测试的低散射载体，其特征在于：包括表壳(1)、前吊点(2)、后吊点(3)和接口(4)，表壳(1)为水滴形结构，表壳(1)长度方向一侧宽度大的部分为前端部(11)，表壳(1)长度方向另一侧宽度窄的部分为后端部(12)，表壳(1)底部为平面，表壳(1)顶部为曲面，前吊点(2)布置在前端部(1)顶部，两个后吊点(3)间隔布置在后端部(12)两侧，前吊点(2)和后吊点(3)上连接有吊带以使表壳(1)底面水平度小于0.2°；带有螺纹的接口(4)布置在表壳(1)底平面中部以与转顶螺纹连接。
2.根据权利要求1所述的一种用于暗室背景电平评估测...
【技术特征摘要】
1.一种用于暗室背景电平评估测试的低散射载体，其特征在于：包括表壳(1)、前吊点(2)、后吊点(3)和接口(4)，表壳(1)为水滴形结构，表壳(1)长度方向一侧宽度大的部分为前端部(11)，表壳(1)长度方向另一侧宽度窄的部分为后端部(12)，表壳(1)底部为平面，表壳(1)顶部为曲面，前吊点(2)布置在前端部(1)顶部，两个后吊点(3)间隔布置在后端部(12)两侧，前吊点(2)和后吊点(3)上连接有吊带以使表壳(1)底面水平度小于0.2°；带有螺纹的接口(4)布置在表壳(1)底平面中部以与转顶螺纹连接。
2.根据权利要求1所述的一种用于暗室背景电平评估测试的低散射载体，其特征在于：表壳(1)内设有十字交叉以形成网格分布的横向筋(13)和纵向筋(14)，表壳(1)固连在横向筋(13)和纵向筋(14)外。
3.根据权利要求2所述的一种用于暗室背景电平评估测试的低散射载体，其特征在于：表壳(1)沿纵向中间分成两部分铸造，通过在对接的焊口端焊接一圈横向环筋以形成表壳(1)整体。
4.根据权利要求3所述的一种用于暗室背景电平评估测试的低散射载体，其特征在于：焊口采用大u形坡口，表壳(1)焊接部分距前端部(11)和后端部(12)的端头部均为4m。
5.根据权利要求4所述的一种用于暗室背景电平评估测试的低散射载体，其特征在于：载体重心偏移接口(4)轴线外，载体重心向后端部(12)尖端...
【专利技术属性】
技术研发人员：贺秋实，戚开南，王岩，卢澜，孙伟斌，陈雨桐，戴薇，
申请(专利权)人：北京环境特性研究所，
类型：发明
国别省市：
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