【技术实现步骤摘要】
本技术涉及上料设备，特别涉及一种上料设备。
技术介绍
1、霜膏在出厂前，需要将其灌装在霜膏瓶中，由于霜膏是具有一定流动性的膏体，因此，在对灌装有霜膏的霜膏瓶体进行封盖工序之前，需要在霜膏瓶口和瓶盖之间加装一个密封垫，以防止在运输途中霜膏泄漏。密封垫大都分正反面，反面也即与霜膏接触的一面，通常为平滑面，目的在于使其不易附着霜膏。
2、目前，针对瓶口密封垫的装配方案大都采用机械臂进行装配；首先，工作人员将若干密封垫放置传送带上，然后传送带将密封垫输送至机械臂的工作区域内，在视觉系统的配合下，机械臂吸取密封垫的正面并将其反面放置在瓶口，以进行下一步封盖工序，其中，反面朝向机械臂的密封垫则输送至物料框中收集起来，以便于工作人员转运，再次进行投放。
3、然而这种方案存在以下不足，生产过程中难免会有反置的密封垫存在，随着生产需要，会大量投放密封垫，其中反置的密封垫数量也会随之增加，导致物料框短时间内就会满载甚至溢出，需要人工频繁参与转运，导致人力成本增加。
技术实现思路
1、本技术的主要目的是提供一种上料设备，旨在解决现有技术中的上料设备需要人工频繁参与物料回流转运，导致人力成本增加的技术问题。
2、为实现上述目的，本技术提出的上料设备包括：
3、提升机构，包括第一端和第二端，用于将放置在所述第一端的工件朝第一方向传输并提升至所述第二端后投放；
4、第一传送机构，一端设于所述提升机构的所述第二端下方，用于接收从所述提升机构传输的工件后
5、第一回流装置，设于所述第一传送机构的另一端，用于输送所述第一传送机构输送的工件至所述提升机构的所述第一端，所述提升机构、所述第一传送机构、所述第一回流装置依次对接以形成工件循环流道。
6、在一些实施例中，上料设备还包括：
7、第二回流装置，设于所述提升机构的所述第二端，所述第二回流装置的上游端与所述提升机构的所述第二端连接，所述第二回流装置的下游端位于所述第一传送机构一端的上方，所述第二回流装置用于接收所述提升机构输送的工件后投放至所述第一传送机构的一端。
8、在一些实施例中，所述提升机构还包括：
9、第一输送机构，所述提升机构的所述第一端、所述第二端分别设于所述第一输送机构的两端，所述第一输送机构用于接收所述第一端输送的物料后，朝所述第二端输送。
10、在一些实施例中，所述提升机构还包括：
11、调节机构，设于所述第一输送机构下方，用于调节所述第一输送机构的倾斜角度。
12、在一些实施例中，所述调节机构包括：
13、两个伸缩机构，所述两个伸缩机构其中的一者设于所述第一输送机构一端的下方，所述两个伸缩机构其中的另一者设于所述第一输送机构另一端的下方，所述两个伸缩机构均与所述第一传送机构的底部活动连接，用于在伸缩过程中调节所述第一输送机构的倾斜角度。
14、在一些实施例中，所述提升机构的第一端出设有多个入料挡板，所述多个入料挡板围合形成朝向工件传输方向开放的入料仓，所述入料仓用于容纳投放的工件；
15、在一些实施例中，所述第一输送机构上设有若干凸条，所述若干凸条沿所述第一输送机构表面均匀且间隔分布，用于增加所述第一输送机构与工件之间的摩擦力。
16、在一些实施例中，所述第一传送机构包括：
17、输送带，设于所述第二回流装置、所述第一回流装置之间，且与所述第二方向平行，所述输送带的一端与所述第一回流装置连接；
18、分料装置，设于所述输送带上，用于接收所述第二回流装置投放的工件，并将其分料后放置在所述输送带上。
19、在一些实施例中，所述分料装置包括：
20、料斗，所述料斗的入口正对所述第二回流装置的一端，用于接收工件，所述料斗的出口与所述输送带的表面之间呈夹角设置。
21、设于所述料斗出口处的辊轴，转动所述辊轴，以对料斗内的垫片进行分料作业。
22、在一些实施例中，所述第二回流装置远离所述第二端的一侧设有第一挡板，所述第一回流装置背对所述第一传送机构的一侧设有第二挡板，所述第一挡板、所述第二挡板均用于防止工件滑落。
23、本实施例的上料装置，采用提升机构将工件从第一端朝第一方向输送并提升至第二端，再通过在提升机构的第二端下方设置第一传送机构，用于接收提升机构的第二端投放的工件，第一传送机构接收该工件后，将其朝第二方向输送至预设区域；当存在未摆放到位的工件时，则在第一传送机构的作用下将其输送至第一回流装置上，在第一回流装置的作用下改变该工件输送方向后回流至提升机构的第一端，以进行下一次投放形成工件循环回流。相较于现有的将反置的工件收集起来采用人工参与转运的技术方案来说，本技术的上料设备在转运和回流投放的过程中均无需人工参与，大大节省了人力成本。
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1.一种上料设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种上料设备，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求2所述的一种上料设备，其特征在于，所述提升机构还包括：
4.根据权利要求3所述的一种上料设备，其特征在于，所述提升机构还包括：
5.根据权利要求4所述的一种上料设备，其特征在于，所述调节机构包括：
6.根据权利要求3所述的一种上料设备，其特征在于，所述提升机构还包括：
7.根据权利要求3所述的一种上料设备，其特征在于，所述第一输送机构上设有若干凸条，所述若干凸条沿所述第一输送机构表面均匀且间隔分布，用于增加所述第一输送机构与工件之间的摩擦力。
8.根据权利要求2所述的一种上料设备，其特征在于，所述第一传送机构包括：
9.根据权利要求8所述的一种上料设备，其特征在于，所述分料装置包括：
10.根据权利要求2所述的一种上料设备，其特征在于，所述第二回流装置远离所述第二端的一侧设有第一挡板，所述第一回流装置背对所述第一传送机构的一侧设有第二挡板，所述第一挡板、所述第二
...【技术特征摘要】
1.一种上料设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种上料设备，其特征在于，还包括：
3.根据权利要求2所述的一种上料设备，其特征在于，所述提升机构还包括：
4.根据权利要求3所述的一种上料设备，其特征在于，所述提升机构还包括：
5.根据权利要求4所述的一种上料设备，其特征在于，所述调节机构包括：
6.根据权利要求3所述的一种上料设备，其特征在于，所述提升机构还包括：
7.根据权利要求3所述的一种上料设备，其特征在于，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：俞小飞，
申请(专利权)人：深圳市和力泰科技集团有限公司，
类型：新型
国别省市：
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